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      一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的制作方法

      文檔序號(hào):6956547閱讀:318來源:國(guó)知局
      專利名稱:一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,具體的涉及一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換直O(jiān)背景技術(shù)
      通常固體激光器的輸出激光波長(zhǎng)來自于激光材料的能級(jí)躍遷,可實(shí)際應(yīng)用的固體 激光材料不是很多,每種固體激光材料也只有少數(shù)可用的激光躍遷譜線,因此能夠?qū)嵱玫?單譜線波長(zhǎng)不能滿足不斷增長(zhǎng)的需求。
      隨著非線性光學(xué)頻率轉(zhuǎn)換技術(shù)及相應(yīng)的非線性光學(xué)晶體的研究發(fā)展,通過非線性 光學(xué)頻率轉(zhuǎn)換技術(shù)可以把來自于激光晶體能級(jí)躍遷的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換為新的激光波長(zhǎng),這些技術(shù) 分別稱為非線性光學(xué)倍頻、和頻、差頻和光學(xué)參量變換等技術(shù)。在非線性光學(xué)和頻技術(shù)中, 最常用的是參與和頻的兩個(gè)不同波長(zhǎng)的激光都是來自于激光材料的能級(jí)躍遷,如美國(guó)專 利技術(shù)No. 5. 345. 457的兩個(gè)子諧振腔通過兩個(gè)激光晶體的能級(jí)躍遷分別產(chǎn)生1064nm和 1318nm兩個(gè)不同波長(zhǎng)的基頻光,這兩個(gè)基頻光束再通過諧振腔公共重合部分的和頻晶體產(chǎn) 生了 589nm的波長(zhǎng)輸出。類似的國(guó)內(nèi)技術(shù)有申請(qǐng)?zhí)枮?00410010917. 6的授權(quán)發(fā)明專利,該 專利技術(shù)提出了一種腔內(nèi)和頻的折疊腔結(jié)構(gòu)。通過和頻技術(shù)獲得新波長(zhǎng)的專利技術(shù)還有美 國(guó)專利No. :US20040125834A1,該專利技術(shù)中參與和頻的兩個(gè)不同波長(zhǎng)的基頻光中一個(gè)由 固體激光材料的準(zhǔn)三能級(jí)躍遷獲得,另一個(gè)由固體激光材料的四能級(jí)躍遷獲得。
      激光頻率轉(zhuǎn)換的另一種方法是受激拉曼散射技術(shù),該技術(shù)是通過拉曼散射介質(zhì)的 受激拉曼散射引起的頻移,把入射并通過拉曼散射介質(zhì)的基頻光轉(zhuǎn)換為新波長(zhǎng)的激光。這 種新波長(zhǎng)的激光又可繼續(xù)通過非線性光學(xué)的倍頻技術(shù)再轉(zhuǎn)換為另一個(gè)波長(zhǎng)的激光。中國(guó)專 利申請(qǐng)了這種拉曼激光的倍頻技術(shù),申請(qǐng)?zhí)柗謩e為200810138022. 9和200720(^9555. 4等。發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是結(jié)合以上背景技術(shù),提出了一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝 置,進(jìn)一步拓寬可用的單譜線激光波長(zhǎng)數(shù)量。
      為了解決上述技術(shù)問題,實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)
      —種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,包括一產(chǎn)生第一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻 移激光的拉曼諧振腔、一產(chǎn)生第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光的激光諧振腔,在所述第 一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移激光光束和所述第二波長(zhǎng)為λ2的激光能級(jí)躍遷激光光束的 公共重疊部分設(shè)置有產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ3的和頻激光的非線性和頻晶體。
      當(dāng)所述第一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移激光和第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激 光同時(shí)通過所述非線性和頻晶體5時(shí),產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ 3的和頻激光。
      進(jìn)一步的,所述拉曼諧振腔包括在一光路上依次安置的第一諧振腔鏡、第一激光 增益介質(zhì)、受激拉曼散射介質(zhì)和第一輸出耦合鏡;所述激光諧振腔包括在另一光路上依次 安置的第二諧振腔鏡、第二激光增益介質(zhì)、第一平面合束鏡和第二輸出耦合鏡。
      進(jìn)一步的,所述第一平面合束鏡、非線性和頻晶體、第一輸出耦合鏡和第二輸出耦 合鏡依次排列安置。
      本發(fā)明的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的工作原理如下
      當(dāng)所述拉曼諧振腔內(nèi)的第一激光增益介質(zhì)被外部光源發(fā)出的泵浦光泵浦時(shí),產(chǎn)生 了躍遷波長(zhǎng)為λ ^的激光,并在所述第一諧振腔鏡和第一輸出耦合鏡之間的拉曼諧振腔內(nèi) 傳播振蕩。所述波長(zhǎng)為λ ^的激光光束通過所述受激拉曼散射介質(zhì)時(shí),由于受激拉曼散射 效應(yīng)使波長(zhǎng)λ ^的激光頻移產(chǎn)生了第一波長(zhǎng)為X1的受激拉曼頻移激光光束,并也在所述第 一諧振腔鏡和第一輸出耦合鏡之間的拉曼諧振腔內(nèi)傳播振蕩。
      當(dāng)所述激光諧振腔內(nèi)的第二增益介質(zhì)被外部光源產(chǎn)生的泵浦光泵浦時(shí),產(chǎn)生了第 二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光光束,并通過所述第一平面合束鏡在所述第二諧振腔鏡 和第二輸出耦合鏡之間的激光諧振腔內(nèi)傳播振蕩。
      由于所述第一平面合束鏡對(duì)所述第一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移激光光束和波長(zhǎng) 為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光光束具有合光束作用,使這兩個(gè)光束能夠共線或非共線但有重 疊的通過所述非線性和頻晶體。當(dāng)?shù)谝徊ㄩL(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移激光和第二波長(zhǎng)為λ2 的激光能級(jí)躍遷激光同時(shí)入射并通過所述非線性和頻晶體時(shí),由于非線性光學(xué)和頻相互作 用,產(chǎn)生了不同于第一波長(zhǎng)為A1和第二波長(zhǎng)為λ2的新的第三波長(zhǎng)為入3的和頻激光,并 通過所述第一輸出耦合鏡和第二輸出耦合鏡輸出。
      其中,所述λ ρ λ 2和λ 3應(yīng)滿足和頻關(guān)系1/ λ 3 = 1/ λ 2+1/ λ lt)所述非線性和頻晶 體需要按所述入工和λ 2的非線性和頻相互作用產(chǎn)生波長(zhǎng)為λ3的位相匹配方向切割,使所 述入2、入3和λ工在所述非線性和頻晶體中傳播時(shí)滿足位相匹配關(guān)系S3A3=S1A1+ 2/λ2, 其中,S1、Sjnfi3都是矢量,并分別是所述波長(zhǎng)為X1的受激拉曼頻移激光、波長(zhǎng)為入2的 激光能級(jí)躍遷激光和波長(zhǎng)為λ3的和頻激光在所述非線性和頻晶體中傳播時(shí)的折射率。
      通過上述技術(shù)的應(yīng)用,本發(fā)明的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置可以有效拓寬可 用的單譜線激光波長(zhǎng)數(shù)量。
      上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段, 并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施,以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。 本發(fā)明的具體實(shí)施方式
      由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。


      下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
      圖1是本發(fā)明的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
      圖2是圖1中揭露的實(shí)施例的進(jìn)一步改進(jìn)的結(jié)構(gòu)示意圖。
      圖3是本發(fā)明的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖
      圖中標(biāo)號(hào)說明1、第一諧振腔鏡,2、第一激光增益介質(zhì),3、受激拉曼散射介質(zhì),4、 第一平面合束鏡,5、非線性和頻晶體,6、第一輸出耦合鏡,7、第二諧振腔鏡,8、第二激光增 益介質(zhì),9、第二輸出耦合鏡,10、自受激拉曼散射介質(zhì),11、第一平面反射鏡,12、第二平面反 射鏡。
      具體實(shí)施方式
      實(shí)施例1
      參見圖1所示,一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,包括一產(chǎn)生第一波長(zhǎng)為λ工 的受激拉曼頻移激光的拉曼諧振腔、一產(chǎn)生第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光的激光諧 振腔,在所述第一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移激光光束和所述第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍 遷激光光束的公共重疊部分設(shè)置有產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ 3的和頻激光的非線性和頻晶體5。
      進(jìn)一步的,所述拉曼諧振腔包括在一光路上依次安置的第一諧振腔鏡1、第一激光 增益介質(zhì)2、受激拉曼散射介質(zhì)3和第一輸出耦合鏡6 ;所述激光諧振腔包括在另一光路上 依次安置的第二諧振腔鏡7、第二激光增益介質(zhì)8、第一平面合束鏡4和第二輸出耦合鏡9。
      進(jìn)一步的,所述第一平面合束鏡4、非線性和頻晶體5、第一輸出耦合鏡6和第二輸 出耦合鏡9依次排列安置。
      優(yōu)選的,本實(shí)施列中,所述第一激光增益介質(zhì)2和受激拉曼散射介質(zhì)3由一自受激 拉曼散射介質(zhì)10取代,如圖2所示。
      進(jìn)一步的,第一諧振腔鏡1的靠近自受激拉曼散射介質(zhì)10的表面可以是平面或凹面, 制備對(duì)波長(zhǎng)為1063nm和1173nm的光束反射率大于99. 5%的反射膜,對(duì)波長(zhǎng)為808nm的光束透 過率大于90%的多層介質(zhì)膜,另一面制備對(duì)波長(zhǎng)為808nm的光束透過率大于99%的增透膜。
      進(jìn)一步的,自受激拉曼散射介質(zhì)10采用波長(zhǎng)為1063nm躍遷譜線的摻有稀土元素 的激光晶體,如NchGdVO4激光晶體,兩個(gè)通光面制備有對(duì)1063nm和1173nm的雙波長(zhǎng)光束 透過率大于99 %的增透膜,其中,靠近第一諧振腔鏡1表面的增透膜同時(shí)要對(duì)808nm的波長(zhǎng) 光束增透,透過率大于90%。
      進(jìn)一步的,第二諧振腔鏡7的靠近第二激光增益介質(zhì)8的表面制備有對(duì)波長(zhǎng)為 1123nm的光束反射率大于99. 5%、對(duì)波長(zhǎng)為808nm和1064nm的光束透過率分別大于90% 和80%的多層介質(zhì)膜,另一面制備對(duì)波長(zhǎng)為808nm的光束透過率大于99%的增透膜。
      進(jìn)一步的,第二激光增益介質(zhì)8采用波長(zhǎng)為1123nm躍遷譜線的Nd:YAG激光晶體, 介質(zhì)的兩個(gè)通光面制備對(duì)1123nm波長(zhǎng)的光束增透膜,透過率大于99%,其中靠近第二諧振 腔鏡7表面的增透膜同時(shí)要對(duì)波長(zhǎng)為808nm的光束增透,透過率大于90%。
      進(jìn)一步的,第一平面合束鏡4的一個(gè)面制備對(duì)波長(zhǎng)為1063nm和1173nm的光束增 透膜,透過率大于99% ;另一個(gè)面制備對(duì)波長(zhǎng)為1063nm和1173nm的光束透過率大于98% 和對(duì)波長(zhǎng)為1123nm的光束反射率大于99%的多層介質(zhì)膜。
      進(jìn)一步的,非線性和頻晶體5采用LBO、BiBO, KTP或KTA等非線性和頻晶體,按 1173nm波長(zhǎng)與1123nm波長(zhǎng)和頻產(chǎn)生574nm波長(zhǎng)的位相匹配方向切割,晶體的兩個(gè)通光面都 制備對(duì)波長(zhǎng)為1063nm、1123nm,1173nm和574nm等四個(gè)波長(zhǎng)的光束增透膜。
      進(jìn)一步的,第一輸出耦合鏡6的靠近非線性和頻晶體5表面的膜系制備要求對(duì) 1063nm和1173nm波長(zhǎng)的光束反射率大于99. 5%,對(duì)1123nm波長(zhǎng)的光束透過率大于99. 5% 和對(duì)574nm波長(zhǎng)的光束透過率大于95%,另一面的膜系制備要求對(duì)1123nm波長(zhǎng)的光束透過 率大于99. 5%和對(duì)574nm波長(zhǎng)的光束透過率大于98%。
      進(jìn)一步的,第二輸出耦合鏡9的靠近第一輸出耦合鏡6的表面的膜系制備要求對(duì) 1123nm波長(zhǎng)的光束反射率大于99. 5%,對(duì)574nm波長(zhǎng)的光束透過率大于95%,另一面的膜 系制備要求對(duì)574nm波長(zhǎng)的光束透過率大于98%。5
      當(dāng)拉曼諧振腔內(nèi)的NchGdVO4激光晶體被外部光源發(fā)出的泵浦光泵浦時(shí),產(chǎn)生了波 長(zhǎng)為1063nm的激光躍遷,并在第一諧振腔鏡1和第一輸出耦合鏡6之間傳播振蕩。波長(zhǎng)為 1063nm的激光束通過NchGdVO4激光晶體時(shí),由于受激拉曼散射效應(yīng)使1063nm波長(zhǎng)的激光 束轉(zhuǎn)換為波長(zhǎng)為1173nm的激光,也在第一諧振腔鏡1和第一輸出耦合鏡6之間傳播振蕩; 激光諧振腔內(nèi)的Nd:YAG被外部的光源泵浦時(shí),產(chǎn)生了 1123nm波長(zhǎng)的激光躍遷,并通過腔內(nèi) 第一平面合束鏡4在第二諧振腔鏡7和第二輸出耦合鏡9之間傳播振蕩;由于第一平面合 束鏡4對(duì)波長(zhǎng)1173nm和波長(zhǎng)1123nm的兩個(gè)光束的合光束作用,通過調(diào)節(jié)可使這兩個(gè)光束 能夠共線或非共線但有部分重疊的通過非線性和頻晶體5。當(dāng)這兩個(gè)光束同時(shí)通過非線性 和頻晶體5時(shí),由于非線性光學(xué)和頻相互作用,產(chǎn)生了波長(zhǎng)為574nm的新波長(zhǎng)激光,并由第 一輸出耦合鏡6和第二輸出耦合鏡9輸出。
      實(shí)施列2
      參見圖3所示,一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,包括一產(chǎn)生第一波長(zhǎng)為入工 的受激拉曼頻移激光的拉曼諧振腔、一產(chǎn)生第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光的激光諧 振腔,在所述第一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移激光光束和所述第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍 遷激光光束的公共重疊部分設(shè)置有產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ 3的和頻激光的非線性和頻晶體5。
      所述拉曼諧振腔包括在一光路上依次安置的第一諧振腔鏡1、第一激光增益介質(zhì) 2、受激拉曼散射介質(zhì)3和第一輸出耦合鏡6,所述拉曼諧振腔后設(shè)置有第一平面反射鏡11 ; 所述激光諧振腔包括在另一光路上依次安置的第二諧振腔鏡7、第二激光增益介質(zhì)8和第 二輸出耦合鏡9 ;所述激光諧振腔后設(shè)置有第二平面反射鏡12。
      進(jìn)一步的,所述第一平面反射鏡11處于所述第二平面反射鏡12的反射光路上,所 述非線性和頻晶體5設(shè)置在所述第一平面反射鏡11后面。
      本實(shí)施例的技術(shù)方案基本同實(shí)施例1,所不同之處在于
      第一平面合束鏡4改為第一平面反射鏡11,并與非線性和頻晶體5都移到了諧振 腔外,并增加了第二平面反射鏡12。
      當(dāng)拉曼諧振腔內(nèi)的第一激光增益介質(zhì)2被外部光源發(fā)出的泵浦光泵浦時(shí),產(chǎn)生了 躍遷波長(zhǎng)為λ ^的激光,并在第一諧振腔鏡1和第一輸出耦合鏡6之間的拉曼諧振腔內(nèi)傳 播振蕩。波長(zhǎng)為λ ^的激光光束通過受激拉曼散射介質(zhì)3時(shí),由于受激拉曼散射效應(yīng)使波 長(zhǎng)為λ ^的激光頻移產(chǎn)生了第一波長(zhǎng)為X1的受激拉曼頻移激光,并通過第一輸出耦合鏡6 輸出到腔外,然后通過第一平面反射鏡11透射后入射到非線性和頻晶體5內(nèi)。
      當(dāng)激光諧振腔內(nèi)的第二激光增益介質(zhì)8被外部光源產(chǎn)生的泵浦光泵浦時(shí),產(chǎn)生了 第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光,在第二諧振腔鏡7和第二輸出耦合鏡9之間的激光諧 振腔內(nèi)傳播振蕩,通過第二輸出耦合鏡9部分的輸出到腔外,并由第二平面反射鏡12和第 一平面反射鏡U反射后,入射到非線性和頻晶體5內(nèi)。當(dāng)?shù)谝徊ㄩL(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移 激光和第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光同時(shí)入射并通過非線性和頻晶體5時(shí),由于非 線性和頻相互作用,產(chǎn)生了不同于第一波長(zhǎng)為X1和第二波長(zhǎng)為λ2的新的第三波長(zhǎng)為λ3 的和頻激光。
      上述實(shí)施例只是為了說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的是在于讓本領(lǐng)域內(nèi)的 普通技術(shù)人員能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡 是根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的實(shí)質(zhì)所作出的等效的變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求
      1.一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,包括一產(chǎn)生第一波長(zhǎng)為λ工的受激拉曼頻移 激光的拉曼諧振腔、一產(chǎn)生第二波長(zhǎng)為λ2的激光能級(jí)躍遷激光的激光諧振腔,其特征在 于在所述第一波長(zhǎng)為λ i的受激拉曼頻移激光光束和所述第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷 激光光束的公共重疊部分設(shè)置有產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ 3的和頻激光的非線性和頻晶體(5)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在于所述拉曼諧 振腔包括在一光路上依次安置的第一諧振腔鏡(1)、第一激光增益介質(zhì)O)、受激拉曼散射 介質(zhì)C3)和第一輸出耦合鏡(6);所述激光諧振腔包括在另一光路上依次安置的第二諧振 腔鏡(7)、第二激光增益介質(zhì)(8)、第一平面合束鏡(4)和第二輸出耦合鏡(9)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在于所述第一平 面合束鏡G)、非線性和頻晶體(5)、第一輸出耦合鏡(6)和第二輸出耦合鏡(9)依次排列 安置。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在于所述拉曼諧 振腔包括在一光路上依次安置的第一諧振腔鏡(1)、第一激光增益介質(zhì)O)、受激拉曼散射 介質(zhì)C3)和第一輸出耦合鏡(6),所述拉曼諧振腔后設(shè)置有第一平面反射鏡(11);所述激光 諧振腔包括在另一光路上依次安置的第二諧振腔鏡(7)、第二激光增益介質(zhì)(8)和第二輸 出耦合鏡(9);所述激光諧振腔后設(shè)置有第二平面反射鏡(12)。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在于所述第一平 面反射鏡(11)處于所述第二平面反射鏡(12)的反射光路上,所述非線性和頻晶體(5)設(shè) 置在所述第一平面反射鏡(11)后面。
      6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任意一項(xiàng)所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在 于所述非線性和頻晶體(5)為L(zhǎng)B0、BiB0、KTP或KTA非線性和頻晶體中的任意一種。
      7.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任意一項(xiàng)所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在 于所述第二激光增益介質(zhì)(8)采用摻有稀土元素的激光晶體。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,其特征在 于當(dāng)所述第一波長(zhǎng)為X1的受激拉曼頻移激光和第二波長(zhǎng)為λ 2的激光能級(jí)躍遷激光同時(shí) 通過所述非線性和頻晶體5時(shí),產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ 3的和頻激光。
      全文摘要
      本發(fā)明公開了一種受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置,包括一產(chǎn)生第一波長(zhǎng)為λ1的受激拉曼頻移激光的拉曼諧振腔、一產(chǎn)生第二波長(zhǎng)為λ2的激光能級(jí)躍遷激光的激光諧振腔,在所述第一波長(zhǎng)為λ1的受激拉曼頻移激光光束和所述第二波長(zhǎng)為λ2的激光能級(jí)躍遷激光光束的公共重疊部分設(shè)置有產(chǎn)生第三波長(zhǎng)為λ3的和頻激光的非線性和頻晶體。當(dāng)波長(zhǎng)為λ1的受激拉曼頻移激光和波長(zhǎng)為λ2的激光能級(jí)躍遷激光同時(shí)通過非線性和頻晶體時(shí),產(chǎn)生波長(zhǎng)為λ3的和頻激光。本發(fā)明的受激拉曼和頻激光波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置可以有效拓寬可用的單譜線激光波長(zhǎng)數(shù)量。
      文檔編號(hào)H01S3/16GK102044838SQ20101054949
      公開日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月18日
      發(fā)明者崔錦江, 施燕博, 檀慧明, 王帆, 田玉冰, 董寧寧, 高靜 申請(qǐng)人:蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所
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