一種曝光機(jī)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種曝光機(jī)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)測得的CD bias不穩(wěn)定的問題。曝光機(jī)包括若干不同曝光距離的基臺，每一所述基臺包括基臺本體和基臺突起，所述基臺本體用于放置待曝光的基板，所述基臺突起用于確定曝光距離，所述曝光距離為所述待曝光的基板與掩膜板之間的距離。
【專利說明】
一種曝光機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示面板(Liquid Crystal Display，LCD)是目前常用的平板顯示器，LCD的制程包括膜層的沉積以及膜層的曝光，其中曝光過程在整個LCD制程中起著關(guān)鍵的作用，而曝光機(jī)的性能直接影響LCD的品質(zhì)。目前通過檢測顯影后像素條的線寬與掩膜板上線寬的差值(⑶bias)，測得的⑶bias越穩(wěn)定，表示曝光機(jī)的性能越好。
[0003]如圖1所示，SI表示顯影后像素條的線寬，S2表示掩膜板上的線寬，CDbias = Sl_S2，圖中10表示襯底基板，11表示黑矩陣，12表示紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)彩膜層，13表示覆蓋彩膜層的保護(hù)層。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)曝光過程的示意圖如圖2所示，曝光機(jī)包括基臺22，以及位于基臺22上方的燈罩21。曝光時，將待曝光的基板23放置在基臺22上，在基板23的正上方放置掩膜板24，通過位于燈罩21中的燈發(fā)出的光線照射掩膜板24進(jìn)行曝光。曝光過程中，基板23與掩膜板24之間的距離設(shè)置直接影響曝光的精確度，若基板23與掩膜板24之間的距離不準(zhǔn)確，則會導(dǎo)致顯影后像素條的線寬發(fā)生偏移，使得測得的CD bias不穩(wěn)定。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)在確定基板23與掩膜板24之間的距離時，采用設(shè)置在基臺22上的墊片25進(jìn)行確定，在曝光時，基臺22向上移動，在放置掩膜板24的位置處設(shè)置一感應(yīng)裝置，當(dāng)感應(yīng)裝置感應(yīng)到墊片25與掩膜板24接觸時，基臺22停止運(yùn)動，按照此時基板23與掩膜板24之間的距離進(jìn)行曝光。在曝光過程中，通過調(diào)節(jié)墊片25的高度調(diào)節(jié)基板23與掩膜板24之間的距離，但由于墊片25使用過程中容易發(fā)生磨損，會導(dǎo)致基板23與掩膜板24之間的距離不準(zhǔn)確，會導(dǎo)致顯影后像素條的線寬發(fā)生偏移，使得測得的CD bias不穩(wěn)定。
[0006]綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)的曝光機(jī)在曝光時存在待曝光的基板與掩膜板之間的距離不準(zhǔn)確的問題，使得測得的CD bias不穩(wěn)定。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0007]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)測得的CDbias不穩(wěn)定的問題。
[0008]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種曝光機(jī)，包括若干不同曝光距離的基臺，每一所述基臺包括基臺本體和基臺突起，所述基臺本體用于放置待曝光的基板，所述基臺突起用于確定曝光距離，所述曝光距離為所述待曝光的基板與掩膜板之間的距離。
[0009]由本實(shí)用新型實(shí)施例提供的曝光機(jī)，包括若干不同曝光距離的基臺，每一基臺包括基臺本體和基臺突起，基臺本體用于放置待曝光的基板，基臺突起用于確定曝光距離。本實(shí)用新型實(shí)施例通過基臺突起代替現(xiàn)有技術(shù)中較易磨損的墊片，能夠準(zhǔn)確的確定待曝光的基板與掩膜板之間的距離，進(jìn)而使得測得的CD bias較穩(wěn)定。
[0010]較佳地，所述基臺本體與所述基臺突起一體設(shè)置。[0011 ]較佳地，基臺還包括連接部，所述基臺突起通過所述連接部與所述基臺本體連接。
[0012]較佳地，還包括與所述連接部相連的控制器，所述控制器用于通過控制所述連接部運(yùn)動，控制所述基臺突起所在平面與所述基臺本體所在平面之間的距離。
[0013]較佳地，所述基臺突起關(guān)于所述基臺本體的中心軸線呈對稱分布。
[0014]較佳地，所述基臺突起的截面形狀為矩形或三角形。
【附圖說明】
[0015]圖1為現(xiàn)有技術(shù)測量⑶bias的不意圖；
[0016]圖2為現(xiàn)有技術(shù)提供的曝光機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的一種曝光機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的一種曝光機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例三提供的一種曝光機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種曝光機(jī)的曝光方法流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)測得的CDbias不穩(wěn)定的問題。
[0022]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0023]下面結(jié)合附圖詳細(xì)介紹本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供的曝光機(jī)。
[0024]如圖3所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)，包括若干不同曝光距離的基臺30(圖中僅示出了一個曝光距離的基臺)，每一基臺30包括基臺本體31和基臺突起32，基臺本體31用于放置待曝光的基板23，基臺突起32用于確定曝光距離，曝光距離為待曝光的基板23與掩膜板24之間的距離。
[0025]本實(shí)用新型具體實(shí)施例在確定待曝光的基板與掩膜板之間的距離時，采用基臺突起代替現(xiàn)有技術(shù)中的墊片，基臺突起在使用過程中不易磨損，能夠準(zhǔn)確的確定待曝光的基板與掩膜板之間的距離，進(jìn)而使得測得的CD bias較穩(wěn)定。
[0026]下面具體介紹本實(shí)用新型具體實(shí)施例基臺的具體設(shè)置。
[0027]實(shí)施例一:
[0028]如圖3所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基臺本體31與基臺突起32—體設(shè)置。本實(shí)用新型具體實(shí)施例不同曝光距離的基臺30的基臺突起32所在的平面與基臺本體31所在的平面之間的距離不同。
[0029]這種設(shè)置方式在曝光過程中，若待曝光的基板與掩膜板之間所需的距離的值為N個，則曝光機(jī)中需要預(yù)先安裝N個不同的基臺，在曝光過程中，根據(jù)所需的距離選擇其中一個基臺，采用該基臺進(jìn)行曝光，其中，N為正整數(shù)。若N的值較多時，需要設(shè)定的基臺的數(shù)量也較多，在一定程度上增加了曝光機(jī)的設(shè)計難度。
[0030]實(shí)施例二:
[0031]如圖4所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基臺還包括連接部41，基臺突起32通過連接部41與基臺本體31連接。優(yōu)選地，本實(shí)用新型具體實(shí)施例基臺突起32與基臺本體31的材料相同，當(dāng)基臺突起32與基臺本體31的材料相同時，在實(shí)際選材方面更加方便、簡單。在實(shí)際設(shè)計中，基臺突起32的材料也可以與基臺本體31的材料不同，可以選擇其它耐磨的材料。
[0032]這種方式雖然在設(shè)置基臺突起時更加靈活，并在選擇基臺突起的材料時更加多樣化，但這種方式與本實(shí)用新型具體實(shí)施例一類似，在曝光過程中，曝光機(jī)需要設(shè)定的基臺的數(shù)量也較多，在一定程度上也增加了曝光機(jī)的設(shè)計難度。
[0033]實(shí)施例三:
[0034]如圖5所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例還包括與連接部41相連的控制器51，控制器51用于通過控制連接部41運(yùn)動，控制基臺突起32所在平面與基臺本體31所在平面之間的距離。
[0035]具體地，本實(shí)用新型具體實(shí)施例可以通過控制器51控制連接部41沿著基臺本體31運(yùn)動，進(jìn)而控制基臺突起32與基臺本體31之間的垂直距離，對于同一個基臺，能夠得到多個基臺突起32與基臺本體31之間的垂直距離。
[0036]與本實(shí)用新型具體實(shí)施例一和實(shí)施例二相比，在曝光過程中，曝光機(jī)需要設(shè)定的基臺的數(shù)量減小，在一定程度上降低了曝光機(jī)的設(shè)計難度。
[0037]如圖3、圖4和圖5所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基臺突起32關(guān)于基臺本體31的中心軸線呈對稱分布，基臺突起32的截面形狀為矩形或三角形，圖中僅示出了基臺突起32的截面形狀為矩形，在實(shí)際設(shè)計中，基臺突起的截面形狀還可以設(shè)計為其它形狀，如設(shè)計為多邊形，本實(shí)用新型具體實(shí)施例并不對基臺突起的截面形狀做限定。
[0038]如圖6所示，采用本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)進(jìn)行曝光的方法，包括:
[0039]S601、根據(jù)預(yù)先設(shè)置的曝光參數(shù)，選擇所需曝光距離的基臺，將該基臺固定在掩膜板的正下方;所述曝光距離為待曝光的基板與所述掩膜板之間的距離；
[0040]S602、當(dāng)基臺突起與所述掩膜板接觸時，按照所述預(yù)先設(shè)置的曝光參數(shù)進(jìn)行曝光。
[0041]下面以本實(shí)用新型具體實(shí)施例在曝光過程中所需的曝光距離分別為250μπι、150μπι和75μπι為例，介紹對待曝光的基板進(jìn)行曝光的方法。
[0042]對所需的曝光距離為250μπι的待曝光的基板進(jìn)行曝光時，本實(shí)用新型具體實(shí)施例以待曝光的基板的厚度為500μπι為例進(jìn)行介紹，首先，曝光機(jī)根據(jù)預(yù)先設(shè)置的待曝光的基板與掩膜板之間的距離為250μπι的曝光參數(shù)，選擇基臺突起部分所在平面與基臺本體所在平面之間的距離為750μηι的基臺，將該基臺固定在掩膜板的正下方;接著，曝光機(jī)自動調(diào)節(jié)基臺的高度，當(dāng)基臺突起與掩膜板接觸時，基臺停止上升，此時待曝光的基板與掩膜板之間的距離為250μπι;最后按照預(yù)先設(shè)置的曝光參數(shù)對待曝光的基板進(jìn)行曝光。
[0043]采用上述方法對多片所需的曝光距離為250μπι的待曝光的基板進(jìn)行曝光，并對曝光后的基板進(jìn)行顯影，測試每一個待曝光的基板顯影后的CD bias。通過測得結(jié)果可以得到采用本實(shí)用新型具體實(shí)施例的曝光機(jī)進(jìn)行曝光時，測得的CD bias穩(wěn)定，能夠很好的保證后續(xù)制作得到的LCD面板的品質(zhì)。
[0044]對所需的曝光距離為150μπι的待曝光的基板進(jìn)行曝光時，本實(shí)用新型具體實(shí)施例以待曝光的基板的厚度為500μπι為例進(jìn)行介紹，首先，曝光機(jī)根據(jù)預(yù)先設(shè)置的待曝光的基板與掩膜板之間的距離為150μπι的曝光參數(shù)，選擇基臺突起部分所在平面與基臺本體所在平面之間的距離為650μηι的基臺，將該基臺固定在掩膜板的正下方;接著，曝光機(jī)自動調(diào)節(jié)基臺的高度，當(dāng)基臺突起與掩膜板接觸時，基臺停止上升，此時待曝光的基板與掩膜板之間的距離為150μπι;最后按照預(yù)先設(shè)置的曝光參數(shù)對待曝光的基板進(jìn)行曝光。
[0045]同樣地，采用上述方法對多片所需的曝光距離為150μπι的待曝光的基板進(jìn)行曝光，并對曝光后的基板進(jìn)行顯影，測試每一個待曝光的基板顯影后的CD bias。通過測得結(jié)果可以得到采用本實(shí)用新型具體實(shí)施例的曝光機(jī)進(jìn)行曝光時，測得的CD bias穩(wěn)定。
[0046]對所需的曝光距離為75μπι的待曝光的基板進(jìn)行曝光時，本實(shí)用新型具體實(shí)施例以待曝光的基板的厚度為500μπι為例進(jìn)行介紹，首先，曝光機(jī)根據(jù)預(yù)先設(shè)置的待曝光的基板與掩膜板之間的距離為75μπι的曝光參數(shù)，選擇基臺突起部分所在平面與基臺本體所在平面之間的距離為575μηι的基臺，將該基臺固定在掩膜板的正下方;接著，曝光機(jī)自動調(diào)節(jié)基臺的高度，當(dāng)基臺突起與掩膜板接觸時，基臺停止上升，此時待曝光的基板與掩膜板之間的距離為75μπι;最后按照預(yù)先設(shè)置的曝光參數(shù)進(jìn)行曝光。
[0047]同樣地，采用上述方法對多片所需的曝光距離為75μπι的待曝光的基板進(jìn)行曝光，并對曝光后的基板進(jìn)行顯影，測試每一個待曝光的基板顯影后的CD bias。通過測得結(jié)果可以得到采用本實(shí)用新型具體實(shí)施例的曝光機(jī)進(jìn)行曝光時，測得的CD bias穩(wěn)定。
[0048]綜上所述，本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供一種曝光機(jī)，包括若干不同曝光距離的基臺，每一基臺包括基臺本體和基臺突起，基臺本體用于放置待曝光的基板，基臺突起用于確定曝光距離，曝光距離為待曝光的基板與掩膜板之間的距離。本實(shí)用新型具體實(shí)施例通過基臺突起代替現(xiàn)有技術(shù)中較易磨損的墊片，能夠準(zhǔn)確的確定待曝光的基板與掩膜板之間的距離，進(jìn)而使得測得的⑶bias較穩(wěn)定。
[0049]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種曝光機(jī)，其特征在于，包括若干不同曝光距離的基臺，每一所述基臺包括基臺本體和基臺突起，所述基臺本體用于放置待曝光的基板，所述基臺突起用于確定曝光距離，所述曝光距離為所述待曝光的基板與掩膜板之間的距離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述基臺本體與所述基臺突起一體設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述基臺還包括連接部，所述基臺突起通過所述連接部與所述基臺本體連接。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光機(jī)，其特征在于，還包括與所述連接部相連的控制器，所述控制器用于通過控制所述連接部運(yùn)動，控制所述基臺突起所在平面與所述基臺本體所在平面之間的距離。5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述基臺突起關(guān)于所述基臺本體的中心軸線呈對稱分布。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述基臺突起的截面形狀為矩形或三角形。
【文檔編號】G03F7/20GK205450559SQ201521142679
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2015年12月31日
【發(fā)明人】凡明明
【申請人】阜陽欣奕華材料科技有限公司