專利名稱：凹球研磨體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種球磨機(jī)中使用的研磨介質(zhì)。
目前，熱電、水泥、陶瓷制品等行業(yè)對(duì)煤、青石、陶瓷制品等材料進(jìn)行粉碎研磨，原有球磨機(jī)上用的研磨介質(zhì)大多是由圓鋼球或圓柱鋼段、鋼棒所構(gòu)成，它們?cè)趯?duì)物料進(jìn)行粉磨加工時(shí)，由于圓球、圓柱形研磨介質(zhì)在圓滾筒球磨機(jī)中相互翻滾、撞擊、摩擦，對(duì)研磨體之間的物料進(jìn)行粉磨加工都是點(diǎn)線接觸，粉磨作用面小、能耗高、效率低。為了增加研磨面積，出現(xiàn)了中國(guó)專利CN1129147“半球研磨體”，其特征在于該研磨體是由二分之一球體形狀的半球體所構(gòu)成。由于該半球研磨體中存在圓平面，增大了研磨面積，一定程度上提高了研磨效率，但是半球研磨體的滾動(dòng)性減小了，其滾動(dòng)性不如球體，導(dǎo)致物料附著在研磨體上，形成“護(hù)球”現(xiàn)象，這樣又增加了負(fù)荷，一定程度上又降低了研磨效率。
本實(shí)用新型的目的在于克服上述的不足，提供一種滾動(dòng)性適中的凹球研磨體，提高球磨效率。
本實(shí)用新型的目的可以這樣實(shí)現(xiàn)一種凹球研磨體，其特征在于球冠型研磨體的圓平面上有凹形面，凹形面的高度為球直徑的55％-80％，凹陷度為球直徑的4％-15％。凹形面的高度指凹形面的最低凹處至研磨球體邊緣最大值的距離，凹陷度指凹形面的最低凹處至圓平面的垂直距離。本實(shí)用新型的滾動(dòng)性較球形和半球形適中，太大或太小的滾動(dòng)性極大地影響研磨效率；同時(shí)本凹球研磨體上有凹形面，既增加了研磨面積，又迅速地增強(qiáng)了研磨體之間的適應(yīng)性，減小依靠研磨體自動(dòng)磨損產(chǎn)生凹陷的周期，有效地提高了研磨效率。


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
下面結(jié)合實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型。
實(shí)施例1，一種凹球研磨體，即球冠形研磨體的圓平面上存在凹形面，該凹形面的最低凹處至研磨體邊緣的最大值距離亦即凹形面的高度為球直徑的65％，該凹形面的最低凹處至圓平面的垂直距離即凹陷度為球直徑的10％。該種凹球研磨體具有研磨效率高，運(yùn)行能耗低的特點(diǎn)。下面以相同的球磨機(jī)與相同的物料對(duì)圓球、半球、凹球研磨體作一比較。
熟料球磨機(jī)(規(guī)格2.2M×6.5M)閉路磨對(duì)比情況 實(shí)施例2，參考實(shí)施例1，凹球研磨體中的凹形面高度為球直徑的55％，凹陷度為球直徑的4％。
實(shí)施例3，參考實(shí)施例1，凹球研磨體中的凹形面高度為球直徑的80％，凹陷度為球直徑的15％。
權(quán)利要求1．一種凹球研磨體，其特征在于球冠型研磨體的圓平面上有凹形面，凹形面的高度為球直徑的55％-80％，凹陷度為球直徑的4％-15％。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的凹球研磨體，其特征在于所述凹形面的高度為球直徑的65％，凹陷度為球直徑的10％。
專利摘要一種凹球研磨體,為球磨機(jī)中使用的研磨介質(zhì),其為球冠形研磨體的圓平面上有凹形面,凹形面的高度為球直徑的55%—80%,凹陷度為球直徑的4%—15%。該種凹球研磨體滾動(dòng)性適中,研磨面積大,其研磨效率高,電耗省,是熱電、水泥、陶瓷制品等行業(yè)理想的研磨介質(zhì)。
文檔編號(hào)B02C17/00GK2431959SQ00220880
公開(kāi)日2001年5月30日 申請(qǐng)日期2000年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2000年6月27日
發(fā)明者黃君華, 黃愛(ài)華 申請(qǐng)人:黃君華, 黃愛(ài)華