專利名稱:一種金錫共晶焊料(AuSn<sub>20</sub>)電鍍液及制備方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及ー種電鍍鍍液,尤其涉及ー種能制備光亮AuSn2tl (金錫共晶焊料)的鍍液及制備方法。
背景技術(shù):
金錫共晶焊料AuSn2tl (80-20wt% )處于Au-Sn共晶部位,共晶點(diǎn)為280°C,很小的過熱度就可以使合金熔化并浸潤(rùn)。由于其釬焊溫度適中,屈服強(qiáng)度高,無需助焊劑,具有良
好的浸潤(rùn)性,低粘滯性,高耐腐蝕性,高抗蠕變性能及良好的導(dǎo)熱和導(dǎo)電性,因此被廣泛應(yīng)用于通訊,衛(wèi)星,遙感,雷達(dá),汽車,航空等領(lǐng)域的光電器件的焊接及封裝。傳統(tǒng)的金錫合金制備方法包括鋳造拉撥軋制法,疊層冷軋復(fù)合法,以及物理氣相沉積法。鋳造拉撥軋制法需要添加第三組元Pd或Pt,影響了金錫合金的純度,焊接性能也會(huì)受到影響;而疊層冷軋復(fù)合法難以控制金與錫的反應(yīng)量,未合金化的金或錫都會(huì)對(duì)焊料產(chǎn)生不良影響;物理氣相沉積法沉積的金錫合金較薄,無法保證電子器件的焊接性能。而且上述方法操作性復(fù)雜,生產(chǎn)成本較高。目前國內(nèi)尚未見有通過電化學(xué)直接電鍍制備AuSn2。(金錫共晶合金焊料)的電鍍液的發(fā)明專利,只是籠統(tǒng)的制備Au-Sn (金錫合金),精確的含量無法控制。國外申請(qǐng)的專利主要是含氰化物和無氰化物的鍍液兩種類型,合金的熔點(diǎn)280°C未見有證實(shí)。美國專利US4634505提供了ー種含有氰化物的金錫合金鍍液,三價(jià)氰化金作為金鹽,四價(jià)草酸錫作為錫鹽,在PH為3以下實(shí)施電鍍,得到的鍍層錫含量低于I %。鍍液可操作的電流密度較大,均在IASD以上,但由于是含氰化物鍍液,且應(yīng)用領(lǐng)域僅在于裝飾性電鍍和エ業(yè)抗腐蝕性能的應(yīng)用材料,推廣性不強(qiáng)。美國專利US20040231999提供了一種含氰化物的金錫合金鍍液,用2,2,-ニ聯(lián)吡啶作為添加劑拉近金和錫的沉積電位,使用含有鉈,鉛和砷離子的少量物質(zhì)作為鍍層的晶粒細(xì)化劑,増加鍍層表面光亮性和平整性。通過不同的電流密度沉積得到了金含量在65% 94%的金錫合金,但是,專利沒有提及所制備的金錫合金的焊接性能。美國專利US6245208提供了ー種無氰金錫合金鍍液,用氯金(III)酸鉀作為金鹽,ニ價(jià)錫作為錫鹽,在脈沖電鍍得到了金錫合金。但是電流密度較小,且可用的電流密度也較窄,在0. 02ASD 0. IASD之間,且能沉積金錫原子比為80 20的電流密度區(qū)間更小。由于三價(jià)金和ニ價(jià)錫在溶液中會(huì)互相反應(yīng),因此,該專利使用錫的絡(luò)合劑檸檬酸銨的量高達(dá)200g/L,以及用抗壞血酸來穩(wěn)定鍍液,但是穩(wěn)定周期只有兩周時(shí)間。美國專利US20020063063A1提供了ー種無氰金錫合金電鍍液,使用ニ烯丙基胺的聚合物的季銨鹽作為表面活性剤,用亞硫酸金(I)作為金鹽,氯化亞錫和氯化錫作為錫鹽,聲稱得到了金錫比接近80 20的金錫合金。但鍍液使用的pH為9,極大的限制了焊料在需要光刻掩膜的光電器件焊接領(lǐng)域,且專利并未提及制備的金錫合金焊料精確的熔點(diǎn)。綜上的發(fā)明專利,含氰化物的鍍液可用電流密度較高,但是鍍液須在pH小于3的條件下施鍍,CN—易干與H+結(jié)合,對(duì)人體和環(huán)境及其有害。而無氰化物鍍液可用電流密度較小,鍍液不是很穩(wěn)定,在復(fù)雜圖形電鍍方面很難沉積出光亮的金錫合金。況且,制備的焊料必須保證穩(wěn)定的熔點(diǎn)。因此,為解決上述問題,我們發(fā)明了一種穩(wěn)定的,可用電流密度較大,可在復(fù)雜圖形上沉積出光亮的金錫合金焊料的環(huán)保型鍍液,且制備出的焊料穩(wěn)定在280°C左右。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于開發(fā)出ー種能生產(chǎn)光亮AuSn2。(金錫合金焊料)的環(huán)保鍍液,實(shí)現(xiàn)直接電鍍?nèi)埸c(diǎn)在280°C左右金錫合金共晶焊料。為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的,本發(fā)明提供的技術(shù)方案為ー種電鍍金錫合金鍍液,包括如下組分金鹽4 10g/L,錫鹽3 llg/L,緩沖劑 10 50g/L,絡(luò)合劑30 50gL,光亮劑0. lg/L lg/L,抗氧化劑0. lg/L lg/L,調(diào)節(jié)劑為調(diào)節(jié)鍍液,所述的調(diào)節(jié)鍍液的pH為4. 5 6. 0,其余為去離子水。優(yōu)選地,所述的金鹽是檸檬酸金鉀,化學(xué)式為KAu2N4C12H11O8,所述的錫鹽是硫酸亞錫或氯化亞錫。優(yōu)選地,所述的調(diào)節(jié)鍍液為硫酸或鹽酸。優(yōu)選地,所述的緩沖劑是檸檬酸或其鹽,草酸或其鹽,酒石酸或其鹽,葡萄糖酸或其鹽,亞胺基ニこ酸,甘氨酸中的ー種或ー種以上的混合物。優(yōu)選地,絡(luò)合劑可以是葡萄糖酸鈉、檸檬酸銨、焦磷酸鉀或草酸鉀中的兩種或兩種以上的混合物。優(yōu)選地,光亮劑為聚こ烯亞胺、ニ聯(lián)吡啶、吡啶磺酸中的一種或所述兩種以上的混合物。優(yōu)選地,抗氧化劑是抗壞血酸、鄰苯ニ酚、對(duì)苯ニ酚、鎢酸鈉、叔丁基對(duì)苯ニ酚、N,N’ - ニ仲丁基對(duì)苯ニ胺、I-苯基-3-吡唑酮、茶多酚中的ー種或ー種以上的混合物。本發(fā)明還提供一種金錫共晶焊料(AuSn2tl)電鍍液及制備方法,是將金鹽,錫鹽,緩沖劑,絡(luò)合劑,光亮劑和抗氧化劑以及余量去離子水混合得到,加熱40度。穩(wěn)定IOmin后方可使用。本發(fā)明采用新型環(huán)保的檸檬酸金(I)鉀取代劇毒的氰化金鉀,其中金的析出電位為-0. 571V左右,游離的ニ價(jià)錫的析出電位為-0. 136V,兩者的電位相差0. 435V,無法實(shí)現(xiàn)共沉積。我們加入適量ニ價(jià)錫的絡(luò)合劑,從而使錫的沉積電位負(fù)移至-0. 435V左右,從而實(shí)現(xiàn)了金與錫的共沉積。本發(fā)明提供的一種金錫共晶焊料(AuSn2tl)電鍍液對(duì)環(huán)境無污染,而且可用電流密度在0. 4ASD 1.6ASD之間,鍍速達(dá)到19 y m/h以上,鍍層熔點(diǎn)280±2°C。從而實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明的目的。檸檬酸金鉀其穩(wěn)定性幾乎和氰化金鉀相媲美,無游離氰,經(jīng)檢測(cè)不屬于危險(xiǎn)化學(xué)品,極具環(huán)保性能。其分子式是KAu2N4C12H11O8,結(jié)構(gòu)式如下Aヽ I+
uX /CHa 'OOC—CH2
'CN JI
權(quán)利要求
1.ー種電鍍金錫合金鍍液,其特征在于包括如下組分 金鹽4 10g/L,錫鹽3 llg/L,緩沖劑10 50g/L,絡(luò)合劑30 50gL,光亮劑0. Ig/L lg/L,抗氧化劑0. lg/L lg/L,調(diào)節(jié)劑為調(diào)節(jié)鍍液,所述的調(diào)節(jié)鍍液的pH為4. 5 .6. 0,其余為去離子水。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種電鍍金錫合金鍍液,其特征在于,所述的金鹽是檸檬酸金鉀,化學(xué)式為KAu2N4C12H11O8,所述的錫鹽是硫酸亞錫或氯化亞錫。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的ー種電鍍金錫合金鍍液,其特征在于,所述的調(diào)節(jié)鍍液為硫酸或鹽酸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的ー種電鍍金錫合金鍍液,其特征在于所述的緩沖劑是檸檬酸或其鹽,草酸或其鹽,酒石酸或其鹽,葡萄糖酸或其鹽,亞胺基ニこ酸,甘氨酸中的一種或ー種以上的混合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的ー種電鍍金錫合金鍍液,其特征在于所述的絡(luò)合劑是葡萄糖酸鈉、檸檬酸銨、焦磷酸鉀或草酸鉀中的兩種或兩種以上的混合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的ー種電鍍鍍液,其特征在于所述的光亮劑為聚こ烯亞胺、ニ聯(lián)吡啶、吡啶磺酸中的一種或所述兩種以上的混合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的ー種電鍍鍍液,其特征在于所述的抗氧化劑是抗壞血酸、鄰苯ニ酚、對(duì)苯ニ酚、鎢酸鈉、叔丁基對(duì)苯ニ酚、N,N’- ニ仲丁基對(duì)苯ニ胺、I-苯基-3-吡唑酮、茶多酚中的ー種或ー種以上的混合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的金錫共晶焊料(AuSn2tl電鍍液的制備方法,其特征在于如所述的權(quán)利要求1-7所述的組分混合溶解后,加熱40度,穩(wěn)定IOmin即可使用。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種金錫共晶焊料(AuSn20)電鍍液及制備方法,其特征在于采用新型的檸檬酸金鉀代替?zhèn)鹘y(tǒng)氰化金鉀,減少了對(duì)環(huán)境的污染,采用其他絡(luò)合劑絡(luò)合二價(jià)錫,提高了錫鹽的穩(wěn)定性,并且其組成每升中含有金鹽1~20g,錫鹽1~20g,緩沖劑10~50g,絡(luò)合劑10~50g,光亮劑0.1g/L~10g/L,抗氧化劑0.1g/L~5g/L。本發(fā)明的電鍍鍍液不但對(duì)環(huán)境友好,而且可用電流密度較寬,制成的鍍層光亮性好,鍍層金錫組分控制較精確,熔點(diǎn)280±2℃。適用于對(duì)可靠度要求較高的通訊,衛(wèi)星,遙感,雷達(dá),汽車,航空等領(lǐng)域的光電器件的焊接及封裝。
文檔編號(hào)C25D3/60GK102732918SQ20121011622
公開日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2012年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月17日
發(fā)明者崔國峰, 莊彤, 楊俊鋒 申請(qǐng)人:崔國峰, 廣州天極電子科技有限公司