專利名稱：一種校準(zhǔn)正壓漏孔的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種校準(zhǔn)正壓漏孔的方法，屬于真空計(jì)量技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在文獻(xiàn)“恒壓式正壓漏孔校準(zhǔn)裝置的設(shè)計(jì)，《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)》，2007年第5期，第442頁 446頁”中，介紹了一種采用恒壓法校準(zhǔn)正壓漏孔的方法，該方法為將正壓漏孔流出的示漏氣體直接引入恒壓法正壓漏孔校準(zhǔn)裝置的變?nèi)菔抑?，改變活塞的位移使得變?nèi)菔业娜莘e增加而保證變?nèi)菔覂?nèi)壓力不變的原理，得到正壓漏孔的校準(zhǔn)。 這種方法的不足之處在于校準(zhǔn)時(shí)，校準(zhǔn)裝置復(fù)雜，校準(zhǔn)裝置需要抽氣系統(tǒng)、校準(zhǔn)系統(tǒng)、測(cè)控系統(tǒng)，校準(zhǔn)裝置技術(shù)含量高、價(jià)格昂貴，對(duì)研究人員及操作人員要求較高。其次，僅采用了恒壓法直接校準(zhǔn)正壓漏孔，恒壓法校準(zhǔn)范圍窄。再次，不能用于現(xiàn)場(chǎng)開展大批量的校準(zhǔn)，僅能在實(shí)驗(yàn)室使用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種校準(zhǔn)正壓漏孔的方法，所述方法校準(zhǔn)過程簡單易行，成本低；能夠用于不同量級(jí)的被校正壓漏孔，延伸了校準(zhǔn)范圍；可以同時(shí)累積多臺(tái)被校正壓漏孔，節(jié)省累積時(shí)間，提高校準(zhǔn)效率；提高了現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境下校準(zhǔn)的可行性。本發(fā)明的目的由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種校準(zhǔn)正壓漏孔的方法，所述方法步驟如下步驟一、氦質(zhì)譜檢漏儀預(yù)熱，分別將當(dāng)?shù)乜諝庖雰膳_(tái)集氣器內(nèi)，然后封閉兩臺(tái)集氣器;步驟二、將氦質(zhì)譜檢漏儀吸槍插入任意一臺(tái)集氣器內(nèi)，通過氦質(zhì)譜檢漏儀讀取當(dāng)?shù)卮髿鈮合录瘹馄鲀?nèi)示漏氣體氦氣的本底信號(hào)Itl ；步驟三、將標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔及被校正壓漏孔分別放入兩臺(tái)集氣器內(nèi)；其中，所述標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔和被校正壓漏孔為同一類型，標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的漏率已知，被校正壓漏孔的漏率未知；步驟四、兩臺(tái)正壓漏孔流出的示漏氣體在集氣器內(nèi)開始累積，分別記錄開始時(shí)刻tsl及tu;其中，tsl為標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的開始時(shí)刻，tL1為被校正壓漏孔的開始時(shí)刻；步驟五、兩臺(tái)正壓漏孔流出的示漏氣體在集氣器內(nèi)累積一段時(shí)間后，用氦質(zhì)譜檢漏儀分別讀取兩個(gè)集氣器內(nèi)示漏氣體累積信號(hào)Is及Iy記錄結(jié)束時(shí)刻tS2及L ;其中Is為標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的示漏氣體累積信號(hào)，k為被校正壓漏孔的示漏氣體累積信號(hào)，ts2為標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的結(jié)束時(shí)刻，tL2為被校正壓漏孔的結(jié)束時(shí)刻；步驟六、計(jì)算被校準(zhǔn)正壓漏孔的漏率；漏率值與累積時(shí)間的乘積與示漏氣體信號(hào)大小成正比，根據(jù)比較法有
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其中，標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的漏率為Qs，被校正壓漏孔的漏率為Ql ;則
權(quán)利要求
1.一種校準(zhǔn)正壓漏孔的方法，其特征在所述方法步驟如下 步驟一、氦質(zhì)譜檢漏儀預(yù)熱，分別將當(dāng)?shù)乜諝庖雰膳_(tái)集氣器內(nèi)，然后封閉兩臺(tái)集氣器； 步驟二、將氦質(zhì)譜檢漏儀吸槍插入任意一臺(tái)集氣器內(nèi)，通過氦質(zhì)譜檢漏儀讀取當(dāng)?shù)卮髿鈮合录瘹馄鲀?nèi)不漏氣體氦氣的本底信號(hào)1(1 ； 步驟三、將標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔及被校正壓漏孔分別放入兩臺(tái)集氣器內(nèi)；其中，所述標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔和被校正壓漏孔為同一類型，標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的漏率已知，被校正壓漏孔的漏率未知； 步驟四、兩臺(tái)正壓漏孔流出的示漏氣體在集氣器內(nèi)開始累積，分別記錄開始時(shí)刻tsl及tL1;其中，tsl為標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的開始時(shí)刻，tL1為被校正壓漏孔的開始時(shí)刻； 步驟五、兩臺(tái)正壓漏孔流出的示漏氣體在集氣器內(nèi)累積一段時(shí)間后，用氦質(zhì)譜檢漏儀分別讀取兩個(gè)集氣器內(nèi)示漏氣體累積信號(hào)Is及Iy記錄結(jié)束時(shí)刻tS2及L ;其中Is為標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的示漏氣體累積信號(hào)，k為被校正壓漏孔的示漏氣體累積信號(hào)，ts2為標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的結(jié)束時(shí)刻，tL2為被校正壓漏孔的結(jié)束時(shí)刻； 步驟六、計(jì)算被校準(zhǔn)正壓漏孔的漏率；漏率值與累積時(shí)間的乘積與示漏氣體信號(hào)大小成正比，根據(jù)比較法有QiMιλ -(u) _ i^L -Iq)0S(/S2 ~/sl) (/、.-々) 其中，標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔的漏率為Qs，被校正壓漏孔的漏率為Ql ;則Q _ Qs (II.-人))二;j ) ~ (4-Λ) (tLl -fLi)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種校準(zhǔn)正壓漏孔的方法，屬于真空計(jì)量技術(shù)領(lǐng)域。所述方法步驟如下一、氦質(zhì)譜檢漏儀預(yù)熱，分別將當(dāng)?shù)乜諝庖雰膳_(tái)集氣器內(nèi)；二、通過氦質(zhì)譜檢漏儀讀取集氣器內(nèi)示漏氣體氦氣的本底信號(hào)I0；三、將標(biāo)準(zhǔn)正壓漏孔及被校正壓漏孔分別放入兩臺(tái)集氣器內(nèi)；四、兩臺(tái)正壓漏孔流出的示漏氣體在集氣器內(nèi)開始累積，分別記錄開始時(shí)刻tS1及tL1；五、兩臺(tái)正壓漏孔流出的示漏氣體在集氣器內(nèi)累積一段時(shí)間后，用氦質(zhì)譜檢漏儀分別讀取兩個(gè)集氣器內(nèi)示漏氣體累積信號(hào)IS及IL，記錄結(jié)束時(shí)刻tS2及tL2；六、計(jì)算被校準(zhǔn)正壓漏孔的漏率。所述方法簡單易行，成本低；能夠用于不同量級(jí)的被校正壓漏孔，延伸了校準(zhǔn)范圍；提高了校準(zhǔn)效率及現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境下校準(zhǔn)的可行性。
文檔編號(hào)G01M3/20GK102944369SQ20121045088
公開日2013年2月27日 申請(qǐng)日期2012年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月12日
發(fā)明者趙瀾, 馮焱, 成永軍, 張瑞芳, 盛學(xué)民, 張滌新 申請(qǐng)人:中國航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一〇研究所