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      用于表皮熱處理的方法和裝置的制作方法

      文檔序號(hào):746137閱讀:242來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:用于表皮熱處理的方法和裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種生物組織表皮熱處理的裝置和方法,優(yōu)選地是表皮層一角質(zhì)層、透明層和顆粒層的熱處理和凝固。進(jìn)行表皮層的選擇性熱處理是用于多種原因,諸如除了別的以外的去除皺紋、非永久性去除毛發(fā)、面部皮膚再生、經(jīng)由皮膚的麻醉劑供給的增強(qiáng)以及牛皮癬處理。
      背景技術(shù)
      用于表皮層凝固、蒸發(fā)(evaporation)和切除的現(xiàn)有技術(shù)是基于相干激光照射與組織直接相互作用。然而,只有少數(shù)類型的激光源適用于深度控制的組織去除。該問(wèn)題是在表皮層內(nèi)的激光波長(zhǎng)的消光深度必須處于組織中幾μm或更小的范圍內(nèi),以實(shí)現(xiàn)激光的表面吸收。用于表皮組織去除的最常用激光分別為發(fā)射波長(zhǎng)為2940nm和193nm的ErYAG和受激準(zhǔn)分子激光器。相應(yīng)的消光深度為3~5μm(在水中)和0.1μm(在蛋白質(zhì)中)。發(fā)射波長(zhǎng)為10.6μm的二氧化碳激光在一定程度上也可以用于組織去除,但是由于較大的消光深度30~50μm(在水中),在較深的組織層中存在水皰和出血的問(wèn)題,這需要2~6個(gè)月的恢復(fù)期。即使很少發(fā)生,但這也是ErYAG激光的問(wèn)題。此原因可以通過(guò)如下的事實(shí)予以解釋,即,角質(zhì)層(厚度15~30μm)在正常條件下主要由含水量很低的角蛋白構(gòu)成。在角蛋白中的消光系數(shù)e=2940μm明顯大于水中的3~5μm,這可以解釋這些不期望并且不理想的結(jié)果??梢赃M(jìn)行精確和可預(yù)期的表皮層去除的僅有的激光器類型為發(fā)射波長(zhǎng)為193nm的受激準(zhǔn)分子激光器。受激準(zhǔn)分子激光器非常昂貴,并且難于操作。193nm的受激準(zhǔn)分子激光器也不太適用于通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的光纖連接來(lái)傳送光束,這是由于基于熔融石英(石英)玻璃的波導(dǎo)衰減非常高。將活細(xì)胞暴露于UV輻射的長(zhǎng)期效果未完全加以研究??赡艽嬖诋a(chǎn)生與受激準(zhǔn)分子激光器相關(guān)的癌癥的高風(fēng)險(xiǎn)。
      與帶有輻射吸收層的接觸探針結(jié)合的激光源原理上可以用于表皮組織去除。覆蓋探針表面一部分的全部輻射吸收層的使用將消除由所有熱能通過(guò)向組織傳導(dǎo)而傳遞帶來(lái)的消光深度的問(wèn)題。
      用于激光瞄準(zhǔn)的接觸探針一般具有非常小的有效面積,一般僅有幾平方毫米。存在多種使這些供給激光的表面探針具有如此小的表面積的原因,一個(gè)重要的方面在于來(lái)自激光的脈沖能量由于所用激光的電光效率低而受到限制,一般,僅有激光激勵(lì)所需能量的百分之幾被轉(zhuǎn)化為激光照射能量。因此,帶有輻射吸收層的激光接觸探針不太適用于較大面積的處理。
      與用于較大面積熱處理的激光相關(guān)的另一重要問(wèn)題在于由于激光輻射的相干性而內(nèi)在形成斑點(diǎn)和調(diào)制(mod)圖案。這些現(xiàn)象即使在通過(guò)光波導(dǎo)傳播后仍存在。通過(guò)圓形光纖導(dǎo)引的激光輻射經(jīng)常顯現(xiàn)出帶有重疊斑點(diǎn)的強(qiáng)度圖案所形成的環(huán)形圈。使用其他類型橫截面幾何形狀(如矩形)的波導(dǎo)不會(huì)減弱模式圖案的問(wèn)題。從而,激光與接觸探針的結(jié)合不適用于利用大面積接觸探針的較大表面的處理,這是由于在該方面均勻加熱是至關(guān)重要的。總的來(lái)說(shuō),激光源與弧光燈源相比昂貴很多。用于表面皮膚去除的其他普通方法為機(jī)械皮膚擦除術(shù)和化學(xué)脫皮,這些都存在不能深度控制和可預(yù)測(cè)性的問(wèn)題。

      發(fā)明內(nèi)容
      總的來(lái)說(shuō),本發(fā)明特征在于在不嚴(yán)重?fù)p傷下面的組織層的前提下選擇性地凝固和收縮表皮層、角質(zhì)層、透明層、和顆粒層的方法。本發(fā)明的方法基于皮膚表面接觸帶有輻射吸收層的加熱探針。吸收層以受控方式由來(lái)自脈沖非相干弧光燈的集中輻射來(lái)加熱。
      輻射吸收層輻射吸收層牢固的附著在形成物理接觸并輕輕壓向皮膚上的整體襯底的遠(yuǎn)端表面上,以便形成均勻接觸表面。整體襯底應(yīng)該在輻射源的整個(gè)輻射光譜上是透明的。輻射吸收層在被來(lái)自脈沖弧光燈的匯聚的非相干輻射照射時(shí)快速加熱。由弧光燈產(chǎn)生的整個(gè)發(fā)射波長(zhǎng)光譜(一般為0.2~2μm)將有助于吸收層的加熱。通過(guò)選擇具有與弧光燈發(fā)射光譜匹配的波長(zhǎng)非靈敏和高吸收系數(shù)的涂覆材料,光能的主要部分將轉(zhuǎn)化為吸收層內(nèi)的熱量。從而,總體的能量效率與燈激勵(lì)激光器相比得以明顯提高。對(duì)于具有0.2~3μm范圍內(nèi)的高吸收系數(shù)的吸收層的材料的優(yōu)選選擇為碳或鎳、鋯等制成的多種氧化物。吸收層的厚度應(yīng)在1~50μm范圍內(nèi),優(yōu)選地在2~10μm范圍內(nèi),如果吸收層的材料成份不是組織親和的,那么將需要氧化鋁或氧化硅的保護(hù)性涂層(overcoat layer)。保護(hù)層的厚度一般最小為1~5μm。
      為了進(jìn)一步改善從探針表面向皮膚的熱傳導(dǎo),可以在用接觸探針處理之前將非常薄層的液體或凝膠施加到皮膚上。這種接觸流體的粘度必須足夠低以允許過(guò)多的凝膠從探針表面接觸區(qū)域壓出,這是由于接觸液體層的厚度必須小于5~15μm。接觸液體的示例是水、鹽溶液或超聲波接觸凝膠。所述液體可以基于硅酮油,或是透明質(zhì)酸,最優(yōu)選的選擇是水、變性酒精、丙二醇、甘油、氫氧化鈉、PEG40氫化蓖麻油、泛酰醇和卡波姆制成的化合物與利多卡因的凝膠混合物。利多卡因是皮下麻醉凝膠,并將在處理過(guò)程中減輕疼痛。熱作用的(凝固的)組織的深度控制主要通過(guò)調(diào)節(jié)輻射脈沖的持續(xù)時(shí)間和控制吸收層上的輻射的能量密度來(lái)實(shí)現(xiàn)。輻射能量強(qiáng)度由調(diào)節(jié)通過(guò)弧光燈的放電電流來(lái)控制。能級(jí)適用于特殊的光學(xué)幾何形狀和探針表面積。吸收層的平穩(wěn)加熱由將來(lái)自弧光燈的光線由具有至少十倍于探針橫截面直徑的長(zhǎng)度的光波導(dǎo)混合而得以保證,而探針橫截面直徑一般為10mm。波導(dǎo)的橫截面優(yōu)選地為0.5~5cm2,優(yōu)選地為1~2cm2橫截面積的圓形和矩形。
      燈的典型脈沖持續(xù)時(shí)間在0.1~500ms范圍內(nèi),且重復(fù)率一般為0.5~5Hz。
      皮下層的熱作用深度將對(duì)應(yīng)于0.1~500ms的脈沖長(zhǎng)度范圍,根據(jù)圖2,該深度為7~500μm。熱作用深度的有效定義為從(被加熱的)表面到組織內(nèi)側(cè)、溫度升高大約為加熱脈沖終止時(shí)組織表面溫度升高的10%的點(diǎn)的距離。
      假設(shè)皮膚表面溫度在加熱脈沖—脈沖長(zhǎng)度0.1~500ms—終止時(shí)正好達(dá)到100℃(那么,組織中的水沸騰并蒸發(fā)),相應(yīng)的凝固深度將為2~127μm,即,溫度為70~72℃或更高處的皮下深度,見(jiàn)圖4。
      作為以恒定能量強(qiáng)度(W/m2)加熱的表面的大塊身體內(nèi)側(cè)溫度分布之間的基本關(guān)系由以下方程給出T(z)=T(z=0)*&Pi;*ierfc(z/(2*[K*e&prime;))]]>溫度分布 (1)其中K=e..(p*c):]]>熱擴(kuò)散率(m2/s)(2)方程(1)對(duì)于一維熱流是有效的,如果熱作用深度遠(yuǎn)小于表面熱源的橫截面尺寸,那么這可以成立。T(z=0)=2*P/&Lambda;*1/e..*(K*e&prime;/&Pi;)1/2:]]>表面溫度對(duì)脈沖時(shí)間(3)P=輻射功率A=被加熱的橫截面面積z=距被加熱表面的距離ě=材料的導(dǎo)熱系數(shù) p=材料的密度c=材料的熱容量T0=T(z-0)s=2*(K*e′) (4)s=由于熱擴(kuò)散造成的距表面的平均熱作用距離z=距表面的距離Eq.(1)給出了以下對(duì)于z的不同值的相關(guān)溫度升高(見(jiàn)圖3)z=0.5*s距溫度已經(jīng)達(dá)到表面溫度的35.4%的表面的距離;z=s距溫度已經(jīng)達(dá)到表面溫度的8.9%的表面的距離;z=2*s距溫度已經(jīng)達(dá)到表面溫度的0.2%的表面的距離。每單位面積的熱量脈沖的總能量由以下方程給出E=P*e′(5)方程(5)和方程(2)和(3)給出了對(duì)于脈沖長(zhǎng)度é所需的每單位面積的脈沖能量的估計(jì)。E/A=To*&Pi;1/2/2*(e..*p*c)1/2*e&prime;1/2---(6)]]>加熱組織和吸收層所附著的整體襯底所需的總能量給出以下的方程Etot/A=To*&Pi;1/2/2*(e..*p*c)1/2*e&prime;1/2[(e..*p*c)t1/2+(e..*p*c)s1/2]---(7)]]> 從方程(6),明顯可以看出項(xiàng) 對(duì)表面溫度TO和加熱脈沖的持續(xù)時(shí)間é的給定值所需的脈沖能量影響較大。用于吸收材料的整體襯底的兩個(gè)主要選擇為藍(lán)寶石和石英玻璃,這是由于這兩種材料對(duì)熱阻塞(thermalchock)具有良好的抵抗能力,并同時(shí)光學(xué)上透明。對(duì)于組織(水)、石英玻璃和藍(lán)寶石的項(xiàng) 相應(yīng)的為1530、1499和6734(國(guó)際單位)。通過(guò)這些圖,用于吸收層的整體襯底的明顯選擇為石英玻璃,這是由于在這種情況下所需的脈沖能量與作為整體襯底的藍(lán)寶石相比僅為37%。
      在每個(gè)加熱脈沖過(guò)程中耗散在整體襯底層中的熱能在下一個(gè)脈沖發(fā)射之前必須被排走,否則,探針將在下一個(gè)脈沖發(fā)射之前的時(shí)間內(nèi)預(yù)熱組織。組織的預(yù)熱是不希望有的。熱鋅(heat zinc)的優(yōu)選實(shí)施例為將整體襯底(石英)的未涂覆側(cè)附著到足夠大的具有較高導(dǎo)熱特性的藍(lán)寶石主體上。藍(lán)寶石優(yōu)選地應(yīng)該利用與藍(lán)寶石主體相接觸的珀耳帖元件持續(xù)冷卻。藍(lán)寶石主體定位在光束路徑上。在優(yōu)選實(shí)施例中,藍(lán)寶石主體為光波導(dǎo)的遠(yuǎn)端,即,藍(lán)寶石主體與光學(xué)系統(tǒng)分隔開(kāi)。如果整體襯底與藍(lán)寶石主體的附著以適當(dāng)?shù)姆绞叫纬?,它可以形成為一次性使用元件。例如,相?duì)于吸收層的表面可以制備有錫粘結(jié)膜,以便在新的處理開(kāi)始時(shí)輕易更換整體襯底。一次性使用的探針整體襯底防止了個(gè)體之間接觸傳染病的傳播。
      優(yōu)選地由石英制成的整體襯底的厚度應(yīng)在10~1000μm范圍內(nèi)。最佳厚度可以針對(duì)特定的脈沖重復(fù)率和脈沖持續(xù)時(shí)間來(lái)計(jì)算。


      以下將參照附圖更全面地陳述本發(fā)明的這些和其他目的及其操作和結(jié)構(gòu)的各種特征和細(xì)節(jié),其中圖1是用于實(shí)施本發(fā)明的裝置的示意圖,在上述裝置中,附圖標(biāo)記1標(biāo)示脈沖電磁源,如通過(guò)適宜的光學(xué)系統(tǒng)2匯聚的激光,附圖標(biāo)記3標(biāo)示波導(dǎo),而4標(biāo)示附著到波導(dǎo)出口橫截面上的整體襯底。元件5是諸如珀耳帖單元的冷卻裝置;圖2是表皮內(nèi)熱作用深度相對(duì)加熱脈沖的持續(xù)時(shí)間的曲線;圖3是相對(duì)溫度分布相對(duì)整個(gè)人體內(nèi)側(cè)相對(duì)深度的曲線;圖4是表皮內(nèi)凝固深度相對(duì)能量脈沖的持續(xù)時(shí)間的曲線;圖5是圖1的裝置如何用于處理表皮的示意圖。
      具體實(shí)施例方式
      參照?qǐng)D1和圖5,附圖標(biāo)記1標(biāo)示脈沖電磁源,優(yōu)選地是氣體放電管和激光器。從光源1發(fā)出的輻射通過(guò)利用適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)系統(tǒng)2予以匯聚。在電磁源包括放電燈的情況下,向后傳播的光線通過(guò)利用背反射鏡系統(tǒng),例如一個(gè)拋物面或橢圓面的反射鏡予以朝向光波導(dǎo)再次導(dǎo)引。如果光源的尺寸適于波導(dǎo)3的入口幾何圖形的尺寸,也可以使用其他類型的背反射鏡,諸如白色散射陶瓷。當(dāng)光源為激光器時(shí),匯聚光學(xué)系統(tǒng)一般包括透鏡陣列系統(tǒng),從而,所有沿著向前方向傳播的輻射盡可能地匯聚到波導(dǎo)3地進(jìn)入表面中。波導(dǎo)進(jìn)入表面地典型橫截面面積為0.3~3cm2。
      波導(dǎo)3優(yōu)選地由具有圓形或矩形橫截面地結(jié)晶藍(lán)寶石制成。也可以使用其他幾何形狀,如橢圓形。在波導(dǎo)中選擇藍(lán)寶石材料是由于這種材料較高的導(dǎo)熱特性。波導(dǎo)3適當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度處于20~60mm范圍內(nèi)。較大的橫截面需要較長(zhǎng)的波導(dǎo),這是因?yàn)槌藛渭兊妮椛鋵?dǎo)引之外,波導(dǎo)的主要功能為平整來(lái)自光源1的輻射場(chǎng)。一次性使用的整體襯底4以一薄層輻射透明光學(xué)膠水4.6附著到波導(dǎo)的出口橫截面上,該膠水4.6為光學(xué)匹配液體與用于整體襯底機(jī)械固定的裝置的組合到一起。完整的整體襯底應(yīng)該能夠在個(gè)體醫(yī)學(xué)處理之后進(jìn)行更換。整體襯底4的橫截面幾何形狀的大小應(yīng)該形成為稍大于波導(dǎo)3相應(yīng)的橫截面尺寸,以避免輻射泄漏。整體襯底4包括一片石英玻璃4.1和一疊層涂層,該涂層包括輻射吸收層4.2,優(yōu)選地為厚度1~10μm的碳或氧化物薄膜的濺射層,和無(wú)毒且組織親和的層,該層優(yōu)選地由0.2~2μm厚度的結(jié)晶藍(lán)寶石制成。為了改善熱量傳導(dǎo)到組織層內(nèi),軟膏或液體的接觸鹽浸作用層應(yīng)在處理之前施加到組織6的表皮層6的皮下層4.5上。由軟膏或液體構(gòu)成的接觸鹽浸作用層4.4應(yīng)該具有至少100℃的沸點(diǎn),優(yōu)選地為150到250℃。如果需要的話,組織麻醉劑可以包含在軟膏或液體中,以用于控制疼痛。由層4.2中吸收輻射而產(chǎn)生的過(guò)度熱量應(yīng)該通過(guò)將冷卻裝置附著到波導(dǎo)3.2的近端上予以去除。冷卻裝置5應(yīng)該為珀耳帖單元或者通過(guò)循環(huán)冷卻劑冷卻的金屬主體。
      在此雖然本發(fā)明已經(jīng)在上面借助于其優(yōu)選實(shí)施例予以描述,在不背離如所附權(quán)利要求書(shū)所限定的本發(fā)明的精髓和主題特征的前提下可以進(jìn)行改進(jìn)。
      權(quán)利要求
      1.一種用于表皮組織層傳導(dǎo)性熱處理的裝置和方法,包括(1)用于產(chǎn)生電磁輻射的裝置;(2)用于匯聚所述輻射的裝置;(3)用于將所述電磁輻射能量轉(zhuǎn)化為薄吸收層內(nèi)的熱量的裝置;(4)用于有效冷卻吸收層中產(chǎn)生的過(guò)度熱量和預(yù)冷卻真皮層的裝置;以及(5)用于在吸收層和要被加熱的物體表面之間有效熱傳導(dǎo)的裝置。
      2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述用于產(chǎn)生電磁輻射能量的裝置是脈沖波長(zhǎng)至少為0.1μm,且最大為500ms的電燈。
      3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,該電燈為氣體放電弧光燈。
      4.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,電燈可以在吸收層上產(chǎn)生0.1~200J/cm2的光能強(qiáng)度。
      5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述用于產(chǎn)生電磁能量的裝置是脈沖長(zhǎng)度至少為1μs的激光器。
      6.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,激光源為大功率二極管激光器。
      7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述用于將所述電磁能量轉(zhuǎn)換為熱量的裝置包括至少一個(gè)輻射吸收層,該層厚度為0.1~1000μm。
      8.如權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述輻射吸收層包括厚度為0.5~50μm的氧化物和碳層。
      9.如權(quán)利要求8所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述氧化物材料層為以下元素中至少一種制成的氧化物,該元素為鋯、鋁、鎳、鋅、銦、鍶、鋇、硅。
      10.如權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述多個(gè)層包括至少一個(gè)具有較低熱擴(kuò)散率的光學(xué)透明的整體襯底層,該整體襯底層與所述輻射吸收層的一側(cè)物理接觸,并且,整體襯底的厚度為1~1000μm。
      11.如權(quán)利要求10所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述整體襯底由石英玻璃制成。
      12.如權(quán)利要求10所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述整體襯底為一次性零件,其通過(guò)可去除的膠水附著到與整體襯底具有相同橫截面幾何形狀的光波導(dǎo)上。
      13.如權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,在吸收層為非組織親和成份的情況下,所述多個(gè)層包括附著到吸收層組織側(cè)上的涂層。
      14.如權(quán)利要求13所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述涂層由組織親和材料制成。
      15.如權(quán)利要求14所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述層由厚度為0.1~10μm、優(yōu)選地為0.5~2μm的結(jié)晶體(藍(lán)寶石)或多晶鋁氧化物(氧化鋁)制成。
      16.如權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述吸收層的幾何形狀為0.1~5cm2面積的圓形或矩形。
      17.如權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述用于匯聚所述電磁能量的裝置包括光學(xué)元件,其中至少一個(gè)是折射/衍射光學(xué)元件和/或至少一個(gè)是反射光學(xué)元件。
      18.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述用于將所述電磁能量匯聚成熱量的裝置包括至少一個(gè)向遠(yuǎn)處的吸收層傳導(dǎo)所述電磁能量的光波導(dǎo)。
      19.如權(quán)利要求18所述的裝置,其特征在于,所述光波導(dǎo)是基于至少一種以下波導(dǎo)材料的介電波導(dǎo),該材料包括摻雜或未摻雜的石英玻璃、結(jié)晶藍(lán)寶石、火石玻璃或冕牌玻璃。
      20.如權(quán)利要求18所述的裝置,其特征在于,所述光波導(dǎo)至少局部涂覆以高反射率的金屬層,如金、鋁或銀。
      21.如權(quán)利要求18所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光波導(dǎo)系統(tǒng)的遠(yuǎn)端部分由光學(xué)透明材料制成,該材料具有較高的導(dǎo)熱特性和擴(kuò)散率,而所述波導(dǎo)的一側(cè)與所述整體襯底物理接觸。
      22.如權(quán)利要求21所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,光波導(dǎo)的所述遠(yuǎn)端部分由結(jié)晶藍(lán)寶石玻璃制成。
      23.如權(quán)利要求21所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光波導(dǎo)的遠(yuǎn)端部分由結(jié)晶藍(lán)寶石玻璃制成。
      24.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述用于將吸收層內(nèi)產(chǎn)生的熱量有效傳導(dǎo)到生物組織表面上的裝置包括適當(dāng)粘度和沸點(diǎn)的凝膠或液體。
      25.如權(quán)利要求24所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述軟膏或液體是基于硅酮油的。
      26.如權(quán)利要求24所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述軟膏或液體是基于透明質(zhì)酸的。
      27.如權(quán)利要求24所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述軟膏或液體包括用于穿過(guò)皮膚沉積的麻醉劑。
      28.如權(quán)利要求24所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述軟膏或液體是基于水或生理鹽水溶液的。
      29.如權(quán)利要求24所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述軟膏或液體包括組織麻醉劑。
      30.如權(quán)利要求24所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述凝膠或液體的沸點(diǎn)為75~400℃,優(yōu)選地為150~300℃。
      31.如權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述用于將整體襯底中產(chǎn)生的過(guò)度熱量從所附著的吸收層中有效冷卻的裝置包括與所述整體襯底物理接觸的散熱器,該整體襯底在其相對(duì)側(cè)附著吸收層。
      32.如權(quán)利要求31所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述散熱器包括珀耳帖冷卻裝置。
      33.如權(quán)利要求31所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述散熱器包括具有允許冷卻液體循環(huán)的內(nèi)部通道的主體。
      34.如權(quán)利要求31所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述熱鋅將所述整體襯底層冷卻到-20到+20℃范圍內(nèi)的溫度。
      35.如權(quán)利要求34所述的結(jié)構(gòu),其特征在于,所述被冷卻的襯底層在加熱脈沖之前將外側(cè)組織層的溫度降低。
      全文摘要
      本發(fā)明公開(kāi)了一種表皮層、優(yōu)選地是諸如表皮層的生物組織的深度控制導(dǎo)熱處理的方法和裝置。本發(fā)明的方法為下壓附著到具有低熱擴(kuò)散率的整體襯底的薄輻射吸收層直接(和經(jīng)由吸收層上的保護(hù)性涂層間接地)與要加熱地物體表面物理接觸。吸收層的橫截面面積一般為1cm
      文檔編號(hào)A45D26/00GK1460008SQ00819955
      公開(kāi)日2003年12月3日 申請(qǐng)日期2000年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2000年2月22日
      發(fā)明者珀-阿恩·托斯坦森 申請(qǐng)人:摩根·古斯塔夫森, 珀-阿恩·托斯坦森
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