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      干式剃須裝置的剃頭清洗器的制作方法

      文檔序號:685428閱讀:225來源:國知局
      專利名稱:干式剃須裝置的剃頭清洗器的制作方法
      技術(shù)領域
      本發(fā)明涉及一種干式剃須裝置的剃須頭清洗器,它具有一個用于容納剃須頭并由清洗液沖刷的容器,以及一個用來存放清洗液的貯液器,清洗液從貯液器輸送到容器內(nèi),又通過一根回流管從容器流回到貯液器。
      這種類型的清洗器見于DE 44 02 238 A1中。在該裝置中,干式剃須裝置的剃須頭插入容器內(nèi)。容器為槽形以符合于剃須頭的外形且完全容納所述剃須頭。容器具有一個出口和一根通向集流箱的溢流管。集流箱通過一根回流管連接于裝有清洗液的貯液器。為此,貯液器具有一個第一開口,回流管插入其中并密封在位。在清洗循環(huán)開始時,通過由電機驅(qū)動的推進裝置將清洗液通過一個第二開口推出貯液器,并經(jīng)由一根導管進入容器。在清洗循環(huán)過程中,清洗液不斷地流過容器。這意謂著輸送到容器內(nèi)的清洗液又通過回流管完全流回到貯液器。
      隨著清洗循環(huán)開始,清洗液從貯液器輸出進入到容器內(nèi)。在容器充滿直至溢流管之前,沒有清洗液或只有很少的清洗液流回到貯液器,因此貯液器內(nèi)的液面下降。液面下降促使貯液器內(nèi)的氣體容積增加,從而貯液器內(nèi)的氣壓降低。低于大氣壓力的該氣壓促使氣體通過連接容器于貯液器的回流管流入。鑒于在清洗循環(huán)開始時清洗液還未完全充滿容器,并且在它返回到貯液器的初期階段回流管的橫截面還沒有被回流的清洗液完全封閉,因此貯液器和周圍空氣之間的壓力差由通過回流管流入的空氣所補償。使空氣進入到貯液器。在容器充滿后,給入容器的清洗液又通過回流管流入貯液器。這最遲到切斷推進裝置之后導致貯液器內(nèi)液面的上升以及氣體容積的相應減少,于是貯液器內(nèi)的氣壓增加。由于當前較低的周圍氣壓,所以貯液器內(nèi)的空氣都競相從貯液器中逸出。但是,回流清洗液在回流管中產(chǎn)生一個流動水閘,從而阻止貯液器內(nèi)的氣體逸出。在貯液器內(nèi)積累起足夠高的氣壓之前,氣體無法克服回流清洗液的阻力而從貯液器中逸出。貯液器的排氣因此遲滯。由此產(chǎn)生的缺點是清洗液的回流受到了逸出氣體的阻隔。清洗液回流的這些暫時中斷導致容器內(nèi)的液體暫時積聚,使容器內(nèi)正在進行的液流被擾亂。該液流對于排放從剃須頭驅(qū)逐掉的須發(fā)渣是很重要的。而液流的擾動最終阻隔須發(fā)渣從容器中的排放。在一些場合下,貯液器的突然排氣還伴隨有一種噪聲,這會使清洗器的使用者感到煩擾。
      因此本發(fā)明的一個目的是提供一種開頭所提及的清洗器,它能夠使清洗液不受阻礙地流回到貯液器。而且,用來排除聚集在容器內(nèi)的須發(fā)渣的液體流不會受到擾亂。
      根據(jù)本發(fā)明,通過為貯液器提供一個排氣裝置來實現(xiàn)這一目的。依靠此獨立的排氣裝置,可以在內(nèi)部壓力過高時,使貯液器中的氣體通過其自身的一個出口逸出,而不會受到其它介質(zhì)的擾亂。這種清洗器的優(yōu)點是,當清洗液通過導管從容器流回到貯液器時,不會再受到從貯液器逸出的氣體的阻隔,從而能夠不斷地流入貯液器。同時這也防止了容器內(nèi)的暫時液體積聚,這是造成擾亂容器內(nèi)正常液流的主要原因。因此本發(fā)明的清洗器保證了須發(fā)渣從容器到貯液器的可靠排放。此外,排氣裝置使貯液器能夠平穩(wěn)地排氣。從而阻止了氣體的迅速和突然逸出,確保排氣過程始終無噪聲地進行。通過適當?shù)脑O計,排氣裝置可以另外用作一個通氣裝置。
      在本發(fā)明的一個有利方面,排氣裝置由一根排氣管構(gòu)成。
      為了減少構(gòu)件數(shù)量,排氣管可以與回流管結(jié)合形成一個共同的部件。
      在一個簡單結(jié)構(gòu)中,排氣管與回流管結(jié)合構(gòu)成一個部件,其由一個隔壁分為兩個流動區(qū)。這兩個流動通道的橫截面可以是同一的。但是,有利地,構(gòu)成回流管的流動通道具有比構(gòu)成排氣管的流動通道更大的橫截面。各導管的橫截面形狀可以采用任何的形式,例如,半圓形、矩形、橢圓形。
      為了防止清洗液從貯液器中的無意逸出,貯液器可以具有一個開口,排氣裝置穿過它并且由一個密封件密封。
      排氣管的下端必須設置在貯液器的最大液面之上,并且延伸到貯液器的外面。在最大液面上的布置保證了一直可靠的排氣。這種排氣裝置的結(jié)構(gòu)非常簡單,因此具有低成本和安裝方便的特性。為了使排氣裝置起作用,只要將排氣管直接終止于上貯液器壁之上即可。由于清洗器處于傾斜位置會導致清洗液通過排氣管逸出。所以,在一個改進的方面,貯液器上的排氣管上端伸長,藉此延伸部分可以延伸到容器的高度。排氣管的延伸可靠地阻止了清洗液的無意逸出,即使是當清洗器處于傾斜時。
      排氣裝置可以結(jié)合在裝有清洗液的貯液器中。而清洗液在一定間隔的補充意謂著要求貯液器是一個總體上比清洗器置換次數(shù)高的可置換部分。因此,如果把排氣裝置結(jié)合在貯液器中,就需要很大數(shù)量的排氣裝置。所以將排氣裝置固定在清洗器上更為有利。
      特別有利的是,將排氣裝置固定(特別是用鎖鉤固定)于支承清洗器機殼的機殼板上。排氣裝置可以可分離地連接于機殼板或與其構(gòu)成一個整體。在以可分離方式安置的情況下,相配的閉鎖點設置于排氣裝置和機殼板上。例如,在排氣裝置上可以采用與鎖鉤協(xié)作的徑向圓周軸環(huán)的形式。
      清洗液的從容器到貯液器的回流管已經(jīng)在清洗器上提供了一個經(jīng)由一個開口連接于貯液器的部件。如果把排氣管設置在回流管的開口內(nèi),那么就可以免去貯液器內(nèi)供排氣裝置的另一個開口。在一個有利的方面,排氣管連接于回流管并且與它一起插入到貯液器內(nèi)的共用開口。這樣布置的優(yōu)點是仍然只對一個開口進行密封以防止清洗液溢出??梢杂煤芏喾N方法將排氣管連接于回流管。排氣管和回流管可以通過利用閉鎖或夾子聯(lián)結(jié)的強制嚙合或者材料接合的方式來進行連接。也可以考慮用銷釘來連接兩根管。在另一個方面,兩根導管構(gòu)成一個具有一個將其分成兩個流動通道的隔壁的公共部件。
      在又一個方面,排氣裝置的至少一部分壁延伸到貯液器的底部。在這種情況下,排氣裝置的一部分壁或回流管的一部分可以構(gòu)造為使得有益于污粒沉降的液流形成于通過回流管流回的清洗液內(nèi)。為此,排氣裝置的一部分壁可以構(gòu)造為當清洗液離開回流管時使清洗液可以偏轉(zhuǎn)一個角度,優(yōu)選地大致平行于貯液器的底部。垂直填入貯液器底部的清洗液會促使湍流產(chǎn)生,使所有沉積在底部的污粒成漩渦向上移動。通過由壁所導致的偏轉(zhuǎn),清洗液平行或稍傾斜于貯液器底部。從而加強了液流,有利于這些被清洗液從容器中帶走的須發(fā)渣的沉積。使清洗液發(fā)生偏轉(zhuǎn)的壁部分也可以是回流管壁的一部分。經(jīng)證明,流入清洗液以遠離吸入路線方向的偏轉(zhuǎn),有利于促進污粒的最大可能的沉積,從而將污粒保留在循環(huán)清洗液的低位。
      在另一方面,當排氣裝置為一具有較小橫截面,優(yōu)選地具有約1mm-2mm,特別是1.5mm直徑的排氣孔時,本發(fā)明的清洗器尤其經(jīng)濟。例如,該排氣孔可以設置在回流管通過其穿入貯液器或貯液器壁內(nèi)的開口的密封件內(nèi)。當孔徑選擇為允許空氣逸出,而清洗液卻由于其表面張力不能出去時,就可靠地阻止了清洗液的溢出。另外一種可行的方法是,將排氣孔覆蓋以一層透氣但不透水的薄膜。
      在另外一個方面,排氣裝置可以構(gòu)造成一個閥。經(jīng)證明,具有一個作為閉合件的隔膜的閥是特別有利的,可以利用隔膜對閥的非常低的開口壓力進行調(diào)整。而且,在不進行清洗剃須頭時,隔膜還具有閉合開口的優(yōu)點。這阻止了含有揮發(fā)性成份的清洗液的揮發(fā)。
      從以下實施例的描述中可以明了本發(fā)明的其它目的、特征、優(yōu)點和應用可能性。應當了解,無論權(quán)利要求書或后面的參考說明中如何敘述,通過例證所描述或顯示的任何單一特征或這些特征的合并體都構(gòu)成了本發(fā)明的主題。
      本發(fā)明的實施例示于附圖中并將在下面進行更為詳細的說明。附圖中

      圖1是一個清洗器的視圖;圖2是一個容器和一個排氣裝置的截面圖;圖3是具有圖2中的排氣裝置的容器的透視圖;以及圖4是一個排氣裝置的第二實施例的視圖。
      圖1中所示的清洗器1由底板2和機殼3構(gòu)成。機殼3由兩個殼體部分4、5構(gòu)成。為了進行清洗,干式剃發(fā)裝置的剃須頭(未示出)通過殼體部分4內(nèi)的開口6插入到容器7內(nèi)。設置在機殼3下面的是清洗干式剃發(fā)裝置所需的裝置,例如貯液器和清洗液推進裝置。
      圖2中所示的容器7設置在支承機殼3的機殼板8上。排氣裝置10插入到機殼板8的開口9內(nèi)。排氣裝置10具有一個軸環(huán)11,排氣裝置10通過它放置在開口9上。排氣裝置10通過其軸環(huán)11由設置在機殼板8上的鎖鉤12固定于機殼板8上。排氣裝置10插入到裝有清洗液15的貯液器14的開口13內(nèi)。
      一個唇形密封件16將排氣裝置10密封于開口13。容器7的下部區(qū)域具有一個開口17,排氣裝置10插入其中。一個O形環(huán)18對這一連接加以密封。
      排氣裝置10包括一根排氣管19,它從貯液器14內(nèi)的最大液面之上開始延伸,直至容器7的高度。排氣管19在最大液面之上的布置確保貯液器14一直充分地排氣。流出氣體由箭頭指示。由于排氣管19的長度限制,因此,即使清洗裝置1有相當大的傾斜,清洗液15也不可能通過排氣管19溢出。排氣管19與回流管20一起構(gòu)成了具有一個共用隔壁21的整件。
      為清洗剃須頭而輸送到容器7的清洗液15可以通過回流管10流回到貯液器14。排氣裝置10的一部分壁22沿向下的方向延伸。
      圖3顯示容器7在機殼板8上的布置。在開口17的區(qū)域,容器7插入到排氣裝置10內(nèi)。排氣裝置10依靠鎖鉤12穿過其軸環(huán)11而固定于機殼板8。排氣裝置10由一個唇形密封件16密封于貯液器,在該圖中未示出。排氣管19設置于靠近容器7的一側(cè)。
      在依照圖4的另一實施例中,排氣裝置10為一個排氣孔23。排氣孔23的直徑是1.5mm,并且設置在密封件16內(nèi),回流管20由密封件16密封于貯液器14的開口13?;亓鞴?0的壁的一部分24的下端彎曲。從而使回流的清洗液15側(cè)向偏轉(zhuǎn),促進了須發(fā)渣25的沉積。
      權(quán)利要求
      1.一種干式剃須裝置的剃須頭的清洗器,它具有一個用于容納剃須頭并由清洗液沖刷的容器,以及一個用來存放清洗液的貯液器,清洗液從貯液器輸送到容器內(nèi),又通過一根回流管從容器流回到貯液器,其特征在于,為貯液器(14)提供了一個排氣裝置(10)。
      2.如權(quán)利要求1所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)為一根排氣管(19)。
      3.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣管(19)與回流管(20)結(jié)合構(gòu)成一個公共部件。
      4.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣管(19)與回流管(20)結(jié)合構(gòu)成一個公共部件,它由一個隔壁(21)分為兩個流動區(qū)域。
      5.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,貯液器(14)具有一個開口(13),排氣裝置(10)穿過它并且由一個密封件(16)所密封。
      6.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣管(19)的下端設置在貯液器(14)內(nèi)的最大液面之上。
      7.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣管(19)的上端延伸至容器(7)的高度。
      8.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)固定于清洗器(1)的機殼板(8)。
      9.如權(quán)利要求8所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)包括鎖閉點,優(yōu)選地一個沿徑向凸出的圓周軸環(huán)(11),用以固定于機殼板(8)。
      10.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)的至少一部分壁(22)延伸到貯液器(14)底部。
      11.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)的一部分壁(22)或回流管(20)的一部分(24)構(gòu)造為使得有益于污粒沉降的液流形成于通過回流管(20)流回的清洗液(15)內(nèi)。
      12.如以上權(quán)利要求中任何一項所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)的一部分壁(22)構(gòu)造為當清洗液(15)離開回流管(20)時使得清洗液(15)可以偏轉(zhuǎn)一個角度,優(yōu)選地平行于貯液器(14)的底部。
      13.如權(quán)利要求1所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)為一具有較小橫截面,優(yōu)選地具有1mm-2mm,特別地1.5mm直徑的排氣孔(23)。
      14.如權(quán)利要求1所述的清洗器,其特征在于,排氣裝置(10)構(gòu)造為一個閥,優(yōu)選地具有作為閉合件的隔膜。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種干式剃須裝置的剃須頭的清洗器(1)。清洗器(1)具有一個用于容納剃須頭并且由清洗液沖刷的容器(2),以及一個用來存放清洗液的貯液器(3)。容器(2)和貯液器(3)通過一根回流管(20)相互連接在一起。提供了一個排氣裝置(10)以確保貯液器(14)的可靠及無噪聲的通氣和/排氣,從而使清洗液能夠不受任何干擾地流回到貯液器(3)。
      文檔編號A45D27/00GK1622775SQ02828458
      公開日2005年6月1日 申請日期2002年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月8日
      發(fā)明者于爾根·霍澤, 黛安娜·卡佩斯, 安德列亞斯·拉斯謝德, 烏韋·呂達斯謝爾, 斯瓦托普拉克·克呂姆尼克爾 申請人:布勞恩股份有限公司
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