專利名稱：可靈活使用的毛發(fā)護(hù)理器具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及毛發(fā)護(hù)理或毛發(fā)處理裝置，所述毛發(fā)處理裝置具有柄部、可連接到柄
部上并具有毛發(fā)處理裝置(特別是刷毛區(qū)和/或齒區(qū))的功能頭、以及用于將離子排放到 毛發(fā)上的離子排放裝置，所述離子排放裝置具有至少一個(gè)離子出口 。
背景技術(shù)：
近來，逐漸已知的是，毛發(fā)護(hù)理裝置、特別是毛發(fā)刷除了它們的主要功能(在毛發(fā) 刷的情況下是指對(duì)毛發(fā)進(jìn)行梳理、刷理和定型)之外，作為一種附加應(yīng)用，還可排放離子。 此類離子通常為用負(fù)電子充電的分子。借助于這種離子應(yīng)用，毛發(fā)和毛發(fā)護(hù)理可得到改善。 特別是，可避免毛發(fā)上的靜電荷導(dǎo)致毛發(fā)豎起。

發(fā)明內(nèi)容
—種具有集成的刷子連結(jié)件的毛發(fā)刷或毛發(fā)烘干機(jī)可見于US2005/284495，其在 裝置背面(背離刷毛區(qū))上和裝置正面(承載刷毛區(qū))上均具有離子出口，所述離子出口 允許離子在功能頭的方向上排出。 在此類具有離子應(yīng)用的毛發(fā)護(hù)理裝置中，一方面，離子當(dāng)然應(yīng)以定向方式排放到 毛發(fā)上，同時(shí)另一方面，對(duì)毛發(fā)的充電不應(yīng)集中在某些點(diǎn)上，而應(yīng)盡可能地均勻分布。此處， 離子排放不僅受到直接的機(jī)械障礙諸如位于離子出口前面的毛發(fā)或使用者的手的阻礙，而 且還受到靜電反向場(chǎng)的阻礙(所述反向場(chǎng)可發(fā)源于例如高度帶負(fù)電的會(huì)排斥帶負(fù)電的離 子的組件)，或受到具有強(qiáng)正電荷的對(duì)離子具有吸引場(chǎng)效應(yīng)的組件的阻礙。當(dāng)用刷毛區(qū)刷理 毛發(fā)時(shí)，此類電荷可例如產(chǎn)生于刷毛區(qū)自身處。在離子出口區(qū)域中，靜電場(chǎng)也可在裝置外殼 上形成，所述靜電場(chǎng)可阻礙離子的排出。 在上述類型的已知的毛發(fā)護(hù)理裝置中，有待改善的另一方面是使用者安全性，所
述使用者安全性可受到上述裝置處的強(qiáng)電荷的損害。此外，裝置還應(yīng)能夠進(jìn)行各種類型的
毛發(fā)處理，同時(shí)應(yīng)能夠以不同的方式抓持，同時(shí)仍然可始終有效且安全地發(fā)揮作用。 鑒于此，本發(fā)明基于如下目的創(chuàng)制一種改善的上述類型的毛發(fā)護(hù)理裝置，該毛發(fā)
護(hù)理裝置可避免現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)并且以有利的方式進(jìn)一步發(fā)展現(xiàn)有技術(shù)。特別是，旨在使
用簡單的部件來實(shí)現(xiàn)將離子均勻且有效地排放到毛發(fā)上，而不損害裝置的使用靈活性和使
用者安全性。 根據(jù)本發(fā)明，該目的通過如權(quán)利要求1所述的毛發(fā)護(hù)理裝置來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的優(yōu) 選實(shí)施方案是從屬權(quán)利要求的主題。 因此，建議功能頭和柄部應(yīng)在組件的外側(cè)上各具有導(dǎo)電表面，并且功能頭的導(dǎo)電
表面和柄部的導(dǎo)電表面應(yīng)以導(dǎo)電方式彼此連接。這些導(dǎo)電表面呈現(xiàn)毛發(fā)處理裝置的使用者
的電位。可在毛發(fā)處理裝置處獲得此電位，從而允許對(duì)毛發(fā)進(jìn)行更有效的操縱。 例如，以此方式，可使用合適的對(duì)策來去除至少在毛發(fā)護(hù)理裝置的那些部分上存
在的靜電荷和反向場(chǎng)，所述部分妨礙將離子排放到毛發(fā)上或可損害離子排放。在沒有此類靜電反向場(chǎng)所造成的損害的情況下，可獲得均勻分布的但仍為定向且有效的對(duì)毛發(fā)的離子 充電，甚至在使用簡單設(shè)計(jì)的離子排放裝置時(shí)也是如此。所述簡單設(shè)計(jì)的離子排放裝置在 本發(fā)明的一個(gè)簡單實(shí)施方案中僅利用單一離子出口也可有效地工作。 原則上，導(dǎo)電表面可以各種方式來成型。特別是，接地表面可被成型為金屬表面， 所述金屬表面連結(jié)到功能頭和/或離子出口的優(yōu)選由塑料制成的非導(dǎo)電體或外殼組件上。 功能部件的或離子出口的主體自身可另外被成型為塑料注塑部件或以某種其它方式制造 的塑料部件。 關(guān)于導(dǎo)電表面的布置，各種實(shí)施方案可為有利的。在功能頭上，一種有利的布置可 為將導(dǎo)電表面連結(jié)到毛發(fā)處理裝置上、特別是連結(jié)到刷毛區(qū)和/或齒區(qū)上。例如，導(dǎo)電表面 可形成例如承載刷毛區(qū)的刷毛或齒的床、或承載處理工具的床，所述工具也可任選地為以 不同方式設(shè)計(jì)的用于毛發(fā)處理裝置的其它處理工具。作為另外一種選擇或除了上述的刷毛 區(qū)和/或齒區(qū)以外，毛發(fā)處理裝置還可例如具有處理表面，所述處理表面由適用于毛發(fā)護(hù) 理的材料諸如陶瓷制成。作為另外一種選擇或除此之外，還可提供加熱表面，所述加熱表面 具有合適的形狀，特別是為平滑的、凹的、和/或曲凸的處理表面。 作為另外一種選擇或除了上述的實(shí)施方案(其中導(dǎo)電表面直接連接到毛發(fā)處理 裝置上)以外，至少功能頭上的導(dǎo)電表面也可圍繞毛發(fā)處理裝置的周邊的至少片段，優(yōu)選 環(huán)形地圍繞，和/或可設(shè)置成直接鄰近毛發(fā)處理裝置。特別是，可在功能頭上在毛發(fā)處理裝 置的周圍提供金屬條作為導(dǎo)電表面。此處，毛發(fā)處理裝置自身，即例如刷毛區(qū)和/或齒區(qū)或 功能頭的外殼主體的自身，由非導(dǎo)電材料制成。有利的是，不將功能頭上的導(dǎo)電表面緊鄰所 述至少一個(gè)離子出口設(shè)置。 導(dǎo)電表面可有利地位于緊靠功能頭中的毛發(fā)處理裝置的邊緣上，所述頭部承載毛 發(fā)處理裝置。例如，功能頭可具有主體(其可為完全地非導(dǎo)電的或部分地非導(dǎo)電的)，所述 主體具有至少兩個(gè)彼此相對(duì)的側(cè)面，并且這兩個(gè)側(cè)面可各具有導(dǎo)電表面。作為另外一種選 擇或除此之外，至少一個(gè)附加即第三側(cè)面也可具有導(dǎo)電表面。例如，該主體的正面可具有導(dǎo) 電表面。 在本發(fā)明的范圍內(nèi)，毛發(fā)護(hù)理裝置的柄部旨在具有導(dǎo)電表面。這也可用來將正電 荷傳導(dǎo)給毛發(fā)護(hù)理裝置的使用者。以此方式，可防止使用者帶電。換句話講，負(fù)離子的發(fā)射 可使得使用者帶負(fù)電荷。另一方面，正電荷可通過柄部上的接觸表面轉(zhuǎn)移到使用者身上，從 而補(bǔ)償負(fù)離子的充電效應(yīng)。特別是，這在不具有電源連接的毛發(fā)護(hù)理裝置的實(shí)施方案中是 有利的，特別是所述電源連接的一個(gè)實(shí)施方案為電池裝置和/或蓄電池裝置。在這種非電 源裝置中，負(fù)離子的生成通常也會(huì)導(dǎo)致裝置處產(chǎn)生等同量的正電荷，因?yàn)樵撗b置(作為電 池或蓄電池裝置)缺乏基準(zhǔn)電位。由于裝置處存在此正電荷，使用者所帶的負(fù)電荷可通過 上述柄部上的電活性接觸表面得到補(bǔ)償。 柄部的導(dǎo)電表面和功能頭的導(dǎo)電表面可以任何方式彼此導(dǎo)電連接。例如，該連接 可通過金屬條、線材、或絞合線形式的導(dǎo)體來實(shí)現(xiàn)。在每種情形中，該連接可通過導(dǎo)體發(fā)生， 所述導(dǎo)體完全地或部分地在組件的外側(cè)上延伸、在組件的內(nèi)側(cè)上延伸或在組件的內(nèi)部中延 伸。例如，功能頭的導(dǎo)電表面和柄部的導(dǎo)電表面可通過導(dǎo)體導(dǎo)電連接，并且此導(dǎo)體可在功能 頭的組件的外側(cè)上延伸和/或在柄部的組件的外側(cè)上延伸。作為另外一種選擇，功能頭的 導(dǎo)電表面和柄部的導(dǎo)電表面可通過導(dǎo)體導(dǎo)電連接，并且此導(dǎo)體可在功能頭的組件的內(nèi)側(cè)上
5延伸和/或組件的內(nèi)部中延伸和/或在柄部的組件的內(nèi)側(cè)上延伸和/或組件的內(nèi)部中延 伸。特別是，導(dǎo)體的路徑可完全位于組件的內(nèi)部中。 導(dǎo)電表面也可用作接地表面。裝置的使用者的電位限定了毛發(fā)處理裝置的接地電 位。在毛發(fā)處理裝置上提供更多的接地點(diǎn)可增加其效率。 外殼組件(離子云分散在其上)的電接地有利地不在離子云的視場(chǎng)中發(fā)生，而是
在背離離子出口的外殼組件側(cè)面上發(fā)生，特別是是在外殼組件的內(nèi)表面上發(fā)生。 根據(jù)本發(fā)明的一種有利的改進(jìn)形式，裝置外殼在某個(gè)區(qū)域(從離子出口排出的離
子云分散在其上)中、和/或在離子出口附近可具有離子導(dǎo)向裝置或離子控制裝置。此處，
可有利地來實(shí)現(xiàn)對(duì)離子的控制在離子出口附近設(shè)置多個(gè)獨(dú)立的外殼組件，所述外殼組件
中的至少一個(gè)為接地的，并且所述外殼組件中的至少另一個(gè)是未接地的。盡管未接地的外
殼部件會(huì)變得帶電荷并且因此可偏移離子，但離子可無阻礙地展開在接地的外殼組件上，
以便用合適模式的接地和未接地的外殼組件適當(dāng)?shù)乜刂婆懦鲭x子的分布。 取決于特定的應(yīng)用，這種離子導(dǎo)向裝置可以各種方式來成型以產(chǎn)生不同的分布模
式。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，可在離子出口附近設(shè)置接地和未接地的外殼組件
的模式，所述模式圍繞裝置的縱向平面對(duì)稱地布置，從而導(dǎo)致總體對(duì)稱的離子分布。然而，
作為另外一種選擇，為了產(chǎn)生針對(duì)例如慣用右手的使用者或慣用左手的使用者的裝置，不
同于此相對(duì)于縱向平面對(duì)稱的構(gòu)型也是可能的。 由于通過接地表面可實(shí)現(xiàn)基本上無損害地將離子排放到毛發(fā)上，并且從而可去除 或限制裝置上的電荷場(chǎng)，因此可獲得尤其簡單的離子排放裝置的設(shè)計(jì)，特別是是關(guān)于離子 出口的布置的設(shè)計(jì)。特別是，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，離子只在裝置的背面上發(fā)射，所 述背面背離執(zhí)行毛發(fā)護(hù)理裝置的主要功能的毛發(fā)處理裝置。令人驚訝的是，可以此方式將 均勻分布的且仍為定向的離子排放導(dǎo)向到毛發(fā)上。迄今為止，通常設(shè)法在裝置的正面在毛 發(fā)護(hù)理裝置的區(qū)域中排放至少一部分離子，以便例如將離子直接帶入到待處理區(qū)域中，因 為據(jù)認(rèn)為排放在裝置的背面的離子會(huì)或多或少地偏離目標(biāo)，即要護(hù)理的毛發(fā)。特別是，結(jié)合 上述的接地表面和對(duì)不可取的電荷場(chǎng)的去除或限制，在裝置的背面上排放離子可導(dǎo)致離子 尤其均勻的分布并且?guī)缀跬耆嘏欧诺矫l(fā)上，因?yàn)槊l(fā)通常具有正電荷，所述正電荷會(huì) 吸引離子以補(bǔ)償所排放的離子。如果沒有更強(qiáng)的干擾場(chǎng)存在于毛發(fā)護(hù)理裝置處而阻礙離子 排放，則此效應(yīng)是足夠的。通過將離子出口或全部離子出口定位在裝置的背面上，離子排放 可在沒有由使用者的手或由離子出口前面的毛發(fā)束所造成的機(jī)械干擾的情況下發(fā)生。
原則上，單一離子出口可為足夠的。如果需要，也有可能在裝置的背面上設(shè)置多個(gè) 離子出口。在這兩種情況下，均優(yōu)選使所述布置對(duì)稱于毛發(fā)護(hù)理裝置的縱向平面。優(yōu)選地， 所述至少一個(gè)離子出口或所述多個(gè)離子出口以如下方式設(shè)置離子的主排出方向或離子的 主排出方向的總和朝向背部表面的平面，或?qū)ΨQ于縱向平面而處在背面的表面上。以此方 式，離子出口的主排出方向有利地基本平行于背部表面對(duì)齊，以便離子基本平行于裝置的 背面在此表面上排出。作為另外一種選擇或除此之外，離子還可以很小的銳角(向上)發(fā) 射。此處，離子排放可與背面的表面傾斜成優(yōu)選O。至45° ，優(yōu)選0°至30°的角度。
為了將離子均勻地分布到毛發(fā)上，將所述至少一個(gè)離子出口設(shè)置在與毛發(fā)處理裝 置相對(duì)的裝置背部表面的邊緣處，以便在功能頭的背面上形成離子云。 如果僅存在單一離子出口，則可將此出口有利地設(shè)置在縱向平面自身中。在裝置背面上存在兩個(gè)離子出口的情況下，可將它們?cè)O(shè)置成使得它們相對(duì)于彼此處在與縱向平面 相距的相同水平上，并且優(yōu)選它們兩者均可朝縱向中平面略微向內(nèi)傾斜。作為另外一種選 擇，在給定裝置的背面上的兩個(gè)離子出口的情況下，可將它們彼此相對(duì)地設(shè)置成使得這兩 個(gè)離子出口位于功能頭的背部表面的相對(duì)邊緣上并且朝彼此指向，以便例如離子朝彼此排 出。 毛發(fā)處理裝置可牢固地安裝到功能頭上，并且也可永久地一體形成到功能頭中。 作為另外一種選擇，毛發(fā)處理裝置可有利地以可互換的形式連結(jié)到功能頭上，以便功能頭 可連接和使用各種毛發(fā)處理裝置。除了刷毛區(qū)或齒區(qū)以外，其它毛發(fā)處理裝置也是可能的， 包括例如熱處理裝置、可加熱的毛發(fā)矯直器、例如呈毛發(fā)烘干機(jī)或熱空氣刷形式的暖空氣 裝置。通常，此類不同的毛發(fā)處理設(shè)備要求不同類型的對(duì)裝置的操縱和不同的對(duì)裝置的抓 持方式，以便其可有利地以所公開的方式提供導(dǎo)電表面。此外，離子流還應(yīng)以如下方式發(fā) 射其強(qiáng)度和其幾何分布與很多功能頭均相容。


本發(fā)明的這些和其它特征是基于權(quán)利要求并且也基于以下說明和/或附圖，其中 所述特征可以彼此的各種組合和子組合的方式以及單獨(dú)的方式形成本發(fā)明的主題，而不考 慮它們?cè)跈?quán)利要求中的概括。在下文中，將根據(jù)優(yōu)選的示例性實(shí)施方案和附圖來更詳細(xì)地 說明本發(fā)明。
圖1顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)有利實(shí)施方案的呈毛發(fā)刷形式的毛發(fā)護(hù)理裝置的背 面的頂視圖，其顯示了功能頭的背面的邊緣上的處于縱向平面中的離子出口 ；
圖2顯示沿圖1中的線A-A穿過圖1的毛發(fā)刷的縱截面，其中導(dǎo)電表面設(shè)置在功 能頭上，處在提供在那里的齒區(qū)的下方； 圖3顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的毛發(fā)刷的正面的頂視圖，其中將功 能頭上的導(dǎo)電表面提供為在邊緣處圍繞齒區(qū)的金屬條； 圖4顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的毛發(fā)刷的背面的頂視圖，其顯示了 對(duì)稱于縱向平面而布置在功能頭的背面的邊緣上的兩個(gè)離子出口 ； 圖5顯示圖4的毛發(fā)刷的正視圖，其顯示了離子出口的主排出方向，所述出口彼此 成角度地背離并且基本平行于毛發(fā)刷的背部表面延伸； 圖6顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的毛發(fā)刷的背面的頂視圖，其中將兩 個(gè)離子出口布置在毛發(fā)刷的縱向平面中，彼此相對(duì)指向； 圖7顯示沿圖6中的線A-A的毛發(fā)刷的縱截面，其顯示了毛發(fā)刷的背面上的離子 出口的不同傾斜度； 圖8顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口和其出口外殼的示意透視
圖，其中出口外殼的底部表面被成型為接地表面； 圖9顯示圖8的離子出口的孔口側(cè)的正面頂視圖； 圖10顯示穿過前述兩個(gè)圖的離子出口的縱截面； 圖ll顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)可供選擇的有利實(shí)施方案的離子出口的透視示意 圖，其中出口外殼的底側(cè)的僅局部區(qū)域被成型為接地表面； 圖12顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口的示意透視圖，其中出口外殼的側(cè)面被局部地成型為接地表面； 圖13顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口的示意透視圖，其中出 口外殼的與孔口側(cè)相對(duì)的背面被成型為接地表面； 圖14顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口的示意透視圖，其中出 口外殼的兩個(gè)相對(duì)的側(cè)面每個(gè)均被局部地成型為接地表面； 圖15顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的呈毛發(fā)刷形式的在毛發(fā)刷的背面 上具有離子出口的毛發(fā)護(hù)理裝置的示意透視圖，其中裝置的外殼組件在離子出口附近接 地；并且 圖16顯示類似于圖15的毛發(fā)護(hù)理裝置的示意透視圖，其中在裝置的背面上的離 子出口的附近設(shè)置多個(gè)獨(dú)立的外殼組件，所述組件中的僅一個(gè)為接地的，并且其它的均為 未接地的。
具體實(shí)施例方式
圖1和2所示的毛發(fā)護(hù)理裝置1包括裝置的主體2，所述主體具有柄部3并且在其 內(nèi)部中或在其外殼上具有下文所述的電子器件。所述柄部3承載功能頭4，所述頭部在裝置 的正面7上承載作為毛發(fā)處理裝置5的刷毛區(qū)6。然而，應(yīng)當(dāng)了解，如果毛發(fā)護(hù)理裝置被成 型為毛發(fā)定型裝置和/或毛發(fā)烘干機(jī)，則也可提供其它毛發(fā)處理工具例如加熱棒或毛發(fā)定 型元件，或者也可能提供鼓風(fēng)機(jī)出口 。所述毛發(fā)處理工具也可任選地彼此組合。
有利的是，毛發(fā)護(hù)理裝置1可具有包括若干個(gè)可互換的組件的模組化設(shè)計(jì)，其中 特別是，整個(gè)功能頭4和/或毛發(fā)處理裝置5可獨(dú)立于裝置的主體2而以所述方式成型。此 處，可在各種組件之間有利地提供型面配合連接，例如提供為扣合舌狀物和凹槽，從而可使 組件能夠被移除和重新安裝而無需使用工具。 如圖1和2所示，此外還將離子排放裝置9設(shè)置在裝置的主體2上，即，設(shè)置在其 背離毛發(fā)處理裝置5的裝置背面8上，所述排放裝置具有設(shè)置在裝置的主體2的內(nèi)部中的 離子發(fā)射器，和/或可具有設(shè)置在離子出口 11中的用以發(fā)射離子的高電壓元件12。所述高 電壓元件12可設(shè)置在盒型或夾套型出口外殼13中，所述外殼的壁在孔口側(cè)14上具有排出 開口 17，所發(fā)射的離子可通過該開口排出。 在所描繪的實(shí)施方案中，離子出口 ll被成型為噴嘴或擴(kuò)散器，因而導(dǎo)致離子的定 向排出；參見圖2。有利的是，離子出口 11設(shè)置在裝置背面8上，所述背面與刷毛區(qū)6相對(duì) 或背離它并且形成例如毛發(fā)刷的背面。有利的是，離子出口 ll位于縱向平面18中，所述平 面形成圖2的投影面，其中有利地的是，離子出口 11的主排出方向19相對(duì)于裝置背面的 表面傾斜成很小的銳角并且取向成背離它；參見圖2，其中傾斜角有利地介于0。和45°之 間，并且在所描繪的實(shí)施方案中可有利地介于大約20。和30°之間。如圖1和2所示，離 子出口 11設(shè)置在功能頭的背部表面的邊緣上，所述背部表面設(shè)置成與6相對(duì)，以便從離子 出口 11排出的離子可在功能頭4的背面之上形成離子云。特別是，離子出口 ll可如圖l 所示大致設(shè)置在柄部3和功能頭4之間的過渡區(qū)域中。 將電源單元(未具體示出)封裝在裝置的主體2的內(nèi)部中，所述單元可被優(yōu)選地 形成為電池裝置或蓄電池裝置。有利的是，毛發(fā)護(hù)理裝置1被成型為能量自給自足的；即， 其不具有可通過電源插座供電的永久電源適配器。當(dāng)然，也可插接電源線以便可對(duì)裝置的
8主體2內(nèi)的蓄電池進(jìn)行充電。離子排放裝置9由所述電源供電以生成離子。
如圖2所示，在一個(gè)實(shí)施方案中，毛發(fā)護(hù)理裝置1有利地具有接地裝置20以防止 裝置不可取地帶電，從而可防止妨礙離子的排出并且改善裝置的操作安全性。在根據(jù)圖2 的所繪實(shí)施方案中，功能頭4具有導(dǎo)電表面21，所述導(dǎo)電表面可防止大電荷場(chǎng)積聚在功能 頭4的區(qū)域中，特別是積聚在毛發(fā)處理裝置5的區(qū)域中。在根據(jù)圖2的實(shí)施方案中，導(dǎo)電表 面21直接連接到毛發(fā)處理裝置5上，其中導(dǎo)電表面被成型為載體并且位于扣緊到其上的毛 發(fā)處理裝置5的下方。此處，導(dǎo)電表面21有利地由連結(jié)到功能頭主體上的金屬表面和/或 金屬涂層制成，所述主體否則的話將由塑料制成。導(dǎo)電表面21可連接到電壓電路的接地電 位上，例如通過設(shè)置在裝置內(nèi)的接地組件來連接。導(dǎo)電表面(21)到接地裝置上的連接是任 選的，而不用考慮已示出了此類連接的事實(shí)。 另一個(gè)導(dǎo)電表面23設(shè)置在裝置的柄部上。導(dǎo)電表面23也有利地由施加到柄部上 的金屬表面和/或金屬涂層構(gòu)成，所述柄部否則的話將由塑料制成。 作為另外一種選擇或除此之外，功能頭側(cè)面上的導(dǎo)電表面21也可具有包括金屬 表面的主體，所述金屬表面處在刷毛區(qū)6的邊緣上，優(yōu)選為環(huán)形地圍繞刷毛區(qū)6或如圖3所 示以U形在三個(gè)側(cè)面上包封刷毛區(qū)的金屬條。刷毛區(qū)6和功能頭4的主體的其余部分可被 成型為非導(dǎo)電的，特別是由塑料制成。在根據(jù)圖3的刷毛區(qū)6的邊緣上的導(dǎo)電表面21的情 形中，導(dǎo)電表面21圍繞刷毛區(qū)6的足夠大的部分以足夠程度地補(bǔ)償在那里產(chǎn)生的電荷。有 利的是，金屬條將沿毛發(fā)處理裝置5的周邊的至少50%延伸。導(dǎo)電表面(21)與接地裝置的 連接是任選的，而不用考慮已描繪了此類連接的事實(shí)。 如圖4和5所示，毛發(fā)護(hù)理裝置1也可在裝置背面8上具有多個(gè)離子出口 11，其 中在根據(jù)圖4和5所描繪的實(shí)施方案中，所提供的兩個(gè)離子出口 11 (在裝置的縱向上觀察 時(shí))設(shè)置成處在相同的高度，并且相對(duì)于縱向平面18彼此對(duì)稱地設(shè)置。有利的是，離子出 口 11設(shè)置在功能頭的背面的邊緣上，其中它們相對(duì)于彼此傾斜成大約60。至120° ，優(yōu)選 大約90°大小的角度以便產(chǎn)生均勻分布的離子云。在所描繪的實(shí)施方案中，離子出口 ll取 向成使它們的主排出方向18平行于裝置背面8的表面以便離子基本平行于功能頭的背面 排出。在所描繪的實(shí)施方案中，離子出口 11導(dǎo)致離子在發(fā)散的方向上排出以便在功能頭4 或其背面上均勻地分布離子云。 作為根據(jù)圖4和5的實(shí)施方案的供選擇的替代方案，也可將多個(gè)離子出口 11布置 在縱向平面18中；參見圖6和7。有利的是，此處的兩個(gè)離子出口 ll取向成彼此相對(duì)的， 其中將它們?cè)诠δ茴^的背面的邊緣區(qū)域中設(shè)置在相對(duì)側(cè)上(參見圖6和7)，以便發(fā)射可在 功能頭的背面之上產(chǎn)生的離子云。 有利的是，這兩個(gè)離子出口 11可相對(duì)于裝置背面的表面以不同的方式傾斜。盡管 一個(gè)離子出口取向成使其主排出方向18基本平行于裝置背面8的表面，但另一個(gè)離子出口 11與裝置背面的所述表面成很小的銳角，優(yōu)選成0。至40° ，特別是IO。至30°的角度。 如圖6和7所示，此處如果設(shè)置在柄部3和功能頭4之間的過渡區(qū)域中的離子出口 11略微 傾斜，則可為尤其有利的，同時(shí)設(shè)置在背離柄部3的功能頭的背面末端處的離子出口 11可 設(shè)置成平行于裝置背面8。 如圖8至10所示，上述的接地裝置20也可有利地包括配置給離子出口 11的接地 表面22。特別是，此接地表面22處在出口外殼13的外表面上，所述外殼圍繞離子發(fā)射器10或其高電壓元件12。如圖8最佳所示，(大致)盒形的出口外殼13具有形成正面的孔 口側(cè)14，其中提供了排出開口 17以用于排出所發(fā)射的離子。高電壓元件12居中地設(shè)置在 出口外殼13中，并且在出口外殼13內(nèi)在所述排出開口 17之前不遠(yuǎn)處終止；參見圖10。高 電壓元件12通常包括線材或由線材構(gòu)成，所述線材的通常的路徑處在隔離護(hù)套內(nèi)，而出口 外殼通常由另一種即第三材料例如塑料制成(示意圖10未明顯示出材料的差別)。
在根據(jù)圖8至10的實(shí)施方案中，側(cè)面16(其周向地相對(duì)于高電壓元件12)具有接 地表面22。根據(jù)圖8至10，這可為面對(duì)裝置的主體2的出口外殼13的底側(cè)。作為另外一 種選擇或除此之外，這也可為出口外殼13的側(cè)壁表面16，如圖12所示。
根據(jù)圖8至10，出口外殼13的整個(gè)底側(cè)被成型為接地表面22，特別是成型為金屬 表面，其中外殼主體的其余部分可被成型為非導(dǎo)電的，特別是由塑料制成。如圖ll所示，出 口外殼13的對(duì)應(yīng)的表面(在圖ll所示的情形中為底部側(cè)面)也可僅在一些片段中具有接 地表面22 ;即，接地表面22無需必定要覆蓋整個(gè)側(cè)面；參見圖11。 同樣在根據(jù)圖12的實(shí)施方案中，側(cè)面16的僅大約一半被成型為接地表面22。
如圖13所示，出口外殼13的與孔口側(cè)14相對(duì)的背面也可被成型為接地表面22。
另一個(gè)實(shí)施方案顯示于圖14中。此處，出口外殼13的彼此相對(duì)設(shè)置的側(cè)面16各 具有接地表面22，其中在所繪實(shí)施方案中，它們被成型為僅為局部地覆蓋側(cè)面16的條。
圖15顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案的毛發(fā)護(hù)理裝置1。如果不是另有所 述，此毛發(fā)護(hù)理裝置可對(duì)應(yīng)于前述具體的實(shí)施方案，其中圖15中的對(duì)應(yīng)的附圖標(biāo)號(hào)用于對(duì) 應(yīng)的組件。根據(jù)圖15的毛發(fā)護(hù)理裝置與前述實(shí)施方案的基本不同之處在于功能頭的整個(gè) 背面均為接地的。外殼組件108(其形成功能頭4的背面并且圍繞離子出口 11)自身由非 導(dǎo)電材料特別是塑料組成，以便外殼組件108可帶靜電。然而，所述外殼組件108通過接觸 高電壓電路的接地電位來接地，從而靜電充電(盡管不是不可能)會(huì)受到足夠的限制，使得 因充電產(chǎn)生的反向電場(chǎng)很小，以致它們不會(huì)阻礙離子從離子出口的分布。此處，電接地可通 過外殼組件108中的螺桿轂中的電接觸螺桿發(fā)生。作為另外一種選擇或除此之外，還可將 金屬電極印刷到外殼組件108上，優(yōu)選印刷在其內(nèi)側(cè)上。在這兩種情況下，連接到接地電位 上的接地表面均因此設(shè)置在外殼組件108上，以防止或抑制所述外殼組件的靜電充電。
如圖15所示，接地的外殼組件108延伸至離子出口 11的附近，基本上遍及裝置的 主體的整個(gè)背部表面或其如下的分段從離子出口 ll排出的離子云在所述分段上分散。接 地的外殼組件108從背離離子出口 11的孔口側(cè)14的離子出口 11的背面開始延伸，特別是 遍及直至離子出口 ll之前某點(diǎn)的大表面，即在離子從所述離子出口 11的排出方向上觀察 時(shí)處在所述離子出口 11的下游；參見圖15。離子出口 11在接地的外殼組件108的表面中 形成例如一個(gè)島，外殼組件108的大部分(在所描繪的實(shí)施方案中為外殼組件108的三分 之二以上)設(shè)置在離子出口 11的排出側(cè)面上；參見圖15。 所述離子出口 11 一體形成到所述外殼組件108中。特別是，后者具有穹頂形狀的 曲率以便產(chǎn)生用于離子出口 11的排出開口 17的空間，所述離子出口在所描繪的實(shí)施方案 中由優(yōu)選用塑料制成的套管170形成，所述套管在出口側(cè)圍繞離子發(fā)射器；參見圖15。
替代將圖15所示的外殼組件的全表面在離子發(fā)射器10的排出區(qū)域中接地，還可 能如圖16所示地在離子出口 11附近設(shè)置多個(gè)獨(dú)立的外殼組件108a和108b，所述組件中的 至少一個(gè)為接地的，同時(shí)至少另一個(gè)組件為不接地的。未接地的部件可帶靜電，從而導(dǎo)致離子被偏轉(zhuǎn)。與此形成對(duì)比的是，離子可不受影響地在接地的部件上傳播而無損害，以便實(shí)現(xiàn) 對(duì)離子云的總體控制。以此方式，離子出口 ll的附近的接地和未接地的外殼部件的模式形 成離子導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。 如圖16所示，此離子導(dǎo)向機(jī)構(gòu)或接地的和未接地的外殼組件108a和108b的模式 可被有利地設(shè)置成或成型為對(duì)稱于毛發(fā)護(hù)理裝置1的縱向平面18。特別是，圖16顯示了 中心外殼組件108a，其背離離子出口 11以梯形形狀延伸，以上述方式接地。此中心條形的 外殼組件108a在右側(cè)和左側(cè)上與兩個(gè)側(cè)部外殼組件108b相接，所述側(cè)部外殼組件保持為 未接地的，并且因此可帶靜電。在該示例性實(shí)施方案中，離子導(dǎo)向機(jī)構(gòu)形成例如排出溝道或 通道，所述溝道或通道允許定向的離子發(fā)射并且抑制過度的側(cè)向擴(kuò)展。然而，取決于應(yīng)用， 也可提供其它模式的接地或未接地的外殼組件，以根據(jù)特定的應(yīng)用實(shí)現(xiàn)對(duì)離子云分散的控 制。
1權(quán)利要求
一種毛發(fā)處理裝置，所述毛發(fā)處理裝置具有柄部(3)、可連接到所述柄部(3)上并具有毛發(fā)處理裝置(5)的功能頭(4)、以及用于將離子排放到毛發(fā)上的離子排放裝置(9)，所述離子排放裝置(9)具有至少一個(gè)離子出口(11)，其特征在于所述功能頭(4)和所述柄部在組件的外側(cè)上各具有導(dǎo)電表面，并且所述功能頭的導(dǎo)電表面和所述柄部的導(dǎo)電表面以導(dǎo)電方式彼此連接。
2. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)處理裝置，其中所述功能頭(4)具有優(yōu)選由塑料制成的 非導(dǎo)電體部件和/或外殼壁部件。
3. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)處理裝置，其中所述功能頭(4)上的導(dǎo)電表面 (21)至少在一些分段中圍繞所述毛發(fā)處理裝置(5)，和/或被設(shè)置成直接鄰近所述毛發(fā)處 理裝置(5)。
4. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)處理裝置，其中所述功能頭(4)具有包括至少兩 個(gè)相對(duì)設(shè)置的側(cè)面的非導(dǎo)電體，所述兩個(gè)側(cè)面各具有導(dǎo)電表面(21)。
5. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)處理裝置，其中附加的第三側(cè)面，例如所述端面，也具有 導(dǎo)電表面。
6. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)處理裝置，其中所述功能頭的導(dǎo)電表面和所述柄部的導(dǎo) 電表面通過導(dǎo)體導(dǎo)電連接，并且該導(dǎo)體在所述功能頭的組件的外側(cè)上延伸和/或在所述柄 部的組件的外側(cè)上延伸。
7. 如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的毛發(fā)處理裝置，其中所述功能頭的導(dǎo)電表面和所 述柄部的導(dǎo)電表面通過導(dǎo)體導(dǎo)電連接，并且該導(dǎo)體在所述功能頭的組件的內(nèi)側(cè)上延伸和/ 或所述組件的內(nèi)部中延伸和/或在所述柄部的組件的內(nèi)側(cè)上延伸和/或所述組件的內(nèi)部中 延伸。
8. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述離子出口 (11)的孔口側(cè)(14)被成 型為不具有反電極。
9. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中在所述離子出口 (11)的附近設(shè) 置離子導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，所述離子導(dǎo)向機(jī)構(gòu)包括獨(dú)立的外殼組件(108a、108b)，所述外殼組件中的 至少一個(gè)具有接地表面，所述外殼組件中的至少另一個(gè)被成型為不具有這種接地表面。
10. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述至少一個(gè)接地表面(21、 22、122)設(shè)置在所述裝置的組件表面上，所述組件表面背離從所述離子出口 (11)排出的離 子云。
11. 如前述兩項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述功能頭(4)的導(dǎo)電 表面用作接地表面(21、22、122)。
12. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述至少一個(gè)離子出口 (11)設(shè) 置在背離所述毛發(fā)處理裝置(5)的裝置的背面(8)上。
13. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述至少一個(gè)離子出口 (11)被 設(shè)置成使其主排出方向(18)相對(duì)于所述裝置的背面(8)的表面傾斜成0。至45° ，優(yōu)選 0°至30°的角度。
14. 如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述至少一個(gè)離子出口 (11)或 全部所述離子出口 (11)均設(shè)置在所述功能頭(4)的背面的邊緣區(qū)域中，使得可產(chǎn)生在所述 功能頭的背面上升起的離子云。
15.如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護(hù)理裝置，其中所述功能頭(4)和/或所述毛發(fā)處理裝 置(5)被成型為可從形成所述柄部(3)的裝置的主體(2)上分離。
全文摘要
本發(fā)明涉及毛發(fā)處理器具(1)，所述毛發(fā)處理器具具有柄部(3)、可連接到柄部(3)上并具有毛發(fā)處理裝置(5)的功能頭(4)、以及用于將離子施加到毛發(fā)上的離子施用裝置(9)，所述離子施用裝置具有至少一個(gè)離子出口(11)，其中在每種情況下，功能頭(4)和柄部(3)在組件的外側(cè)上還具有導(dǎo)電區(qū)域，并且功能頭(4)的導(dǎo)電區(qū)域和柄部(3)的導(dǎo)電區(qū)域彼此導(dǎo)電連接。
文檔編號(hào)A45D1/04GK101765385SQ200880100679
公開日2010年6月30日 申請(qǐng)日期2008年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月27日
發(fā)明者J·森, K·洪納費(fèi)勒, M·克勒佩爾-里希, N·斯梅塔納, O·澤倫森 申請(qǐng)人:博朗有限公司