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      一種常壓等離子體鞋底處理裝置的制作方法

      文檔序號:716782閱讀:443來源:國知局
      專利名稱:一種常壓等離子體鞋底處理裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種新型的常壓等離子體鞋底處理裝置,尤其是指鞋底放置在傳送帶上,從等離子體噴槍的噴口下經(jīng)過,等離子體束流噴射到鞋底的表面上,對其表面進(jìn)行等離子體處理的裝置。
      背景技術(shù)
      目前在制鞋業(yè),為了提高鞋底的粘合強(qiáng)度,目前普遍所采用的方法是用鋼絲球來打磨鞋底,然后再用膠來粘合。這種打磨方式,一方面是工人勞動強(qiáng)度大,另一方面是打磨所產(chǎn)生的塵埃對環(huán)境造成污染,也對工人的健康帶來隱患。本實用新型是采用等離子體射流噴射到鞋底的表面,對鞋底表面進(jìn)行改性,提高鞋底的表面能,從而提高鞋底的粘接強(qiáng)度。這種方式即環(huán)保,又衛(wèi)生。

      實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:鞋底放置在傳送帶上,從等離子體噴槍的噴口下經(jīng)過,等離子體束流噴射到鞋底的表面上,對其表面進(jìn)行等離子體處理,傳送帶放置在一個控制柜上。所述的一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:等離子體噴槍是安裝在控制柜上方的水平支架上,噴口向下,放電所采用的氣體為空氣。所述的一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:傳送帶由步進(jìn)電機(jī)帶動,其傳送速度可調(diào)。所述的一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:控制柜內(nèi)放置驅(qū)動等離子體放電的電源、高壓變壓器,并設(shè)有控制開關(guān)和功率表頭。該裝置的優(yōu)勢是:⑴減少了工人的勞動強(qiáng)度;⑵環(huán)保衛(wèi)生。
      以下結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)行進(jìn)一步的描述,其中:


      圖1為本實用新型實施例一種常壓等離子體鞋底處理裝置。
      具體實施方式
      :下面參照附圖,結(jié)合具體的實施例對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述。首先,參閱
      圖1,
      圖1中所示為根據(jù)本實用新型的實施例——種常壓等離子體鞋底處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,包括等離子體噴槍100、鞋底傳送帶107、電源109、控制柜110等,其特征是:鞋底101放置在傳送帶107上,從傳送帶的一端到另一端,經(jīng)過等離子體噴槍100的噴口下經(jīng)過,等離子體束流102噴射到鞋底101的表面上,對其表面進(jìn)行等離子體處理,傳送帶107固定在一個控制柜110上。控制柜110內(nèi)放置驅(qū)動等離子體放電的電源109、高壓變壓器105,并設(shè)有控制開關(guān)106和功率表頭108。傳送帶107由與步進(jìn)電機(jī)連接的主動軸104帶動,其傳送速度可調(diào)。上面參考附圖結(jié)合具體的實施例對本實用新型進(jìn)行了描述,然而,需要說明的是,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言,在不脫離本實用新型的精神和范圍的情況下,可以對上述實施例作出許多改變和修改,這些改變和修改都落在本實用新型的權(quán)利要求限定的范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求1.本實用新型公開一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:鞋底放置在傳送帶上,從等離子體噴槍的噴口下經(jīng)過,等離子體束流噴射到鞋底的表面上,對其表面進(jìn)行等離子體處理,傳送帶放置在一個控制柜上。
      2.如權(quán)利要求1所述的一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:等離子體噴槍是安裝在控制柜上方的水平支架上,噴口向下,放電所采用的氣體為空氣。
      3.如權(quán)利要求1所述的一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:傳送帶由步進(jìn)電機(jī)帶動,其傳送速度可調(diào)。
      4.如權(quán)利要求1所述的一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是:控制柜內(nèi)放置驅(qū)動等離子體放電的電源、高壓變壓器,并設(shè)有控制開關(guān)和功率表頭。
      專利摘要本實用新型公開一種常壓等離子體鞋底處理裝置,包括等離子體噴槍、鞋底傳送帶、電源、控制柜等,其特征是鞋底放置在傳送帶上,從等離子體噴槍的噴口下經(jīng)過,等離子體束流噴射到鞋底的表面上,對其表面進(jìn)行等離子體處理,傳送帶放置在一個控制柜上。該裝置的用途是對鞋底表面進(jìn)行等離子體處理,以便提高鞋底與鞋面的粘結(jié)強(qiáng)度。
      文檔編號A43D25/047GK202932183SQ20122063388
      公開日2013年5月15日 申請日期2012年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月27日
      發(fā)明者王守國, 王玉國, 張宸 申請人:嘉興江林電子科技有限公司
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