專利名稱：足底按摩墊的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型屬于保健用品，更確切地說是足底按摩墊。
背景技術(shù)：
大家都了解沐足和足底按摩是是兩種醫(yī)療保健方法，為實現(xiàn)其中一種醫(yī)療保健方法提供的器具很多，但同時提供沐足和足底按摩兩種保健方法的器具則很少。實用新型97206488公開的足部沐浴按摩桶和94217404公開的按摩腳墊僅提供單一的按摩功能。

發(fā)明內(nèi)容本實用新型要克服上述欠缺，提供一種彈性按摩墊有弧面凸丘和內(nèi)腔藥液被擠壓噴射到足底的穴位處，同時對穴位形成凸丘機械按摩和藥液水流按摩的足底按摩墊。
采用的技術(shù)方案是一種足底按摩墊，按摩墊是一個彈性的中空體，中空體的底面與側(cè)壁及上表面共同圍住中部的空腔，中空體的弧面上表面上分布有高低不同，大小不同的弧面凸丘，上表面中央有一個較大的中央凸丘，凸丘的間隙處有與中空的內(nèi)腔連通的孔洞。
采用此方案，提供了同時對穴位形成凸丘機械按摩和藥液水流按摩的足底按摩墊。

圖1是本實用新型足底按摩墊具體實施方式
的結(jié)構(gòu)示意圖。
實施方式實施方式1一種足底按摩墊，如圖1，按摩墊是一個彈性的中空體，中空體的底面(5)與側(cè)壁及上表面(1)共同圍住中部的空腔(4)，中空體的弧面上表面(1)上分布有高低不同，大小不同的弧面凸丘(2)，上表面中央有一個較大的中央凸丘，凸丘的間隙處有與中空的內(nèi)腔連通的孔洞(3)。
將按摩墊浸入沐足桶或浴缸內(nèi)的藥液內(nèi)，按摩者按保健目的將敏感穴位對準凸丘，踩動按摩墊，凸丘對穴位機械按摩，且按摩墊被壓縮，其中的藥液被擠壓，從凸丘間隙處的孔洞噴射到足底的穴位處，同時對穴位形成藥液水流按摩。對準中央凸丘的穴位得到強刺激。
實施方式2如圖，中空體內(nèi)空腔(4)中有兩端分別與上表面和下表面接觸的彈簧(6)。其他同實施方式1。
中空體平行于底面的截面的周邊是圓形，或橢圓形，或正方形，或多邊形，或封閉曲線。
權(quán)利要求1.一種足底彈力按摩墊，其特征在于按摩墊是一個彈性的中空體，中空體的底面(5)與側(cè)壁及上表面(1)共同圍住中部的空腔(4)，中空體的弧面上表面(1)上分布有高低不同，大小不同的弧面凸丘(2)，上表面中央有一個較大的中央凸丘，凸丘的間隙處有與中空的內(nèi)腔連通的孔洞(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的足底彈力按摩墊，其特征在于中空體內(nèi)空腔(4)中有兩端分別與上表面和下表面接觸的彈簧(6)。
專利摘要一種足底按摩墊。按摩墊是一個彈性的中空體，中空體的底面與側(cè)壁及上表面共同圍住中部的空腔，中空體的上表面上分布有弧面凸丘，凸丘的間隙處有與中空的內(nèi)腔連通的孔洞。足底穴位對準凸丘，踩動浸入沐足桶或浴缸里藥液內(nèi)的按摩墊，其中藥液被擠壓，從凸丘間隙處的孔洞噴射到足底，同時進行凸丘機械按摩和藥液水流按摩。
文檔編號A61H9/00GK2616207SQ03222850
公開日2004年5月19日 申請日期2003年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月10日
發(fā)明者陳今堯 申請人:陳今堯