專利名稱：含有含不飽和碳硅烷的組分的牙科組合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種含有不飽和碳硅烷組分的可固化牙科組合物。這種組合物具有改進的性能并可用作例如牙科填料。
市場上的牙科填料通?？梢苑殖蓮秃象w，樹脂改性的玻璃離子膠合劑和玻璃離子膠合劑(GIZ)。復合體通常通過光引發(fā)不飽和組分(特別是(甲基)丙烯酸酯)的自由基聚合來固化。玻璃離子膠合劑通過膠合劑硬化反應來固化，而在樹脂改性的玻璃離子膠合劑中，使用這兩種機理實現(xiàn)固化。
特別關注的是牙科復合體，與玻璃離子膠合劑相比，它的固化得到極硬的材料，特別適于填充牙洞。然而，市場上的牙科復合體的公知缺點在于，組合物在固化時會收縮。另一個缺點在于，牙科復合體材料的一些組分對于水解極不穩(wěn)定和/或是相當親水性的，因此多年后會從固化的組合物中形成有害物質(zhì)。
已經(jīng)嘗試解決上述問題。
在此方面，美國專利6,653,375 B2描述了1，3-雙(1-異氰酸酯基-1-甲基乙基)苯的氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯衍生物。據(jù)描述，單體其折射率與常規(guī)牙科填料相容，不會變色，并可替代牙科材料中的雙-GMA，而不會損害材料的機械性能。
美國專利6,624,236 B1涉及環(huán)硅氧烷基可交聯(lián)的單體，其制備和其在可聚合材料中的用途，特別涉及從溶膠-凝膠-縮合的環(huán)硅氧烷(甲基)丙烯酸酯得到的聚硅氧烷以及樹脂狀組合物。
美國專利6,566,413 B1涉及用于牙科組合物的基于可硬化的硅氧烷化合物的可聚合材料。需要所用的硅氧烷化合物表現(xiàn)出低粘度，允許高填料吸收，并得到具有低聚合收縮的組合物。
在WO 01/92271 A1中，描述了預聚合的具有多環(huán)或芳香鏈段的(甲基)丙烯酸酯用于制備牙科材料。據(jù)描述，硅氧烷單體具有高分子量(例如超過600g/mol)，具有高(甲基)丙烯酸酯官能度和低粘度。
WO 2001095862 A1涉及低收縮的可聚合的牙科材料，包括二-或聚(甲基)丙烯酸酯，烷氧基化的雙酚二甲基丙烯酸酯，可聚合的單體，聚合引發(fā)劑和/或敏化劑，穩(wěn)定劑和填料的混合物。據(jù)描述，聚合中的體積收縮小于2vol-％。
EP 0451709 A2描述了某種通式的包括含有(甲基)丙烯酸酯部分的基團的硅烷。據(jù)描述，這種硅烷可以用作涂料組合物、塊狀材料、粘合劑和注射成型的組合物的添加劑。
然而，上述解決方案不能完全令人滿意。
因此，需要有所選擇。特別需要具有改進的性能的可選擇材料。
因此，本發(fā)明的一個目的是緩解上述一個或多個問題。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種用于牙科領域中的美感組合物。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種親脂性組合物。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種具有改進的性能的組合物，特別是一種能夠提供具有低收縮值的組合物的組合物。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過提供下述的組合物可以實現(xiàn)一個或多個上述目的。
令人驚訝的是，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)使用包括可聚合基團如不飽和基團并且不含有碳硅氧烷結(jié)構(gòu)的碳硅烷化合物能夠提供具有改進的性能的可固化牙科組合物。
因此，本發(fā)明涉及一種牙科組合物，其包括a)含有碳硅烷的組分(A)，其包括-至少1個Si-芳基鍵，-至少1個硅原子，-至少2個不飽和部分，-沒有Si-氧鍵，b)Si-H官能組分(B)，c)引發(fā)劑(C)，d)任選的填料(D)，e)任選的組分(E)，其選自改性劑，染料，顏料，觸變劑，流動改進劑，聚合增稠劑，表面活性劑，有氣味物質(zhì)，稀釋劑和香料。
本發(fā)明還涉及一種下述的制備該組合物的方法。
此外，本發(fā)明涉及一種下述的使用該組合物的方法。
含有碳硅烷的組分(A)可以單獨使用或與牙科材料中作為反應性化合物的其他不飽和組分混合使用，在需要時還可以含有其他反應性和/或不反應性化合物。
含有碳硅烷的組分(A)通常表現(xiàn)出相當高的折射率和相當?shù)偷恼扯?，使得所提供的牙科組合物通常具有良好的不透明度，因此高度美感。此外，該組合物在固化后與市場上的其他牙科組合物相比，表現(xiàn)出相當?shù)偷氖湛s以及對水和/或水溶性染料(例如源于咖啡，茶，紅酒)的低吸收。
本發(fā)明中術語″包括″和″含有″指對特征非詳盡列出。同樣，詞″一個(one)″或″一個(a)″應被理解成″至少一個″的含義。
根據(jù)本發(fā)明的術語″牙科組合物″是一種在牙科領域中用于不同目的(通常使用少量，幾克)的可固化組合物。
根據(jù)本發(fā)明的術語″Si-H官能組分″是一種物質(zhì)或物質(zhì)的混合物，各物質(zhì)的分子內(nèi)含有至少1個Si原子和至少1個直接與Si原子連接的H原子。
根據(jù)本發(fā)明的術語″引發(fā)劑″是一種能夠啟動固化反應的物質(zhì)或物質(zhì)的混合物，優(yōu)選氫化硅烷化固化反應。
根據(jù)本發(fā)明的術語″不飽和部分″指可聚合的部分，特別是通過氫化硅烷化反應，優(yōu)選包括末端烯屬基團。
根據(jù)本發(fā)明的術語″芳基″指芳香族部分，如苯基或萘基。除了連接的Si-原子外，芳基部分可以帶有1、2或3，優(yōu)選1或2個取代基，優(yōu)選烷基和/或芳基醚基團(例如C1-8烷基，C2-10烯基，C3-6環(huán)烷基，C4-6環(huán)烯基，C6-10芳基)和/或烯丙基。
含有碳硅烷的組分(A)例如可以通過氫化硅烷化反應(參見Marciniec，B.，Comprehensive Handbook on Hydrosilylation，Pergamon印刷，Oxford，1992)或例如通過Grignard反應(參見Houben-Weyl，Methoden der Organischen Chemie，卷XIII/2a，頁47ff.，Georg ThiemeVerlag，Stuttgart，1973，第4版)來合成。
氫化硅烷化反應是一種加成反應，其中如方案(I)所示，其中在催化劑存在下將Si-H官能化合物(i)加成到烯屬官能化合物(ii)中，形成新的Si-C單鍵并產(chǎn)生含有硅的化合物(iii) 方案(I)其中R1，R2，R3，R4＝(環(huán))脂肪族或芳香族或(環(huán))脂肪族芳香族或芳香族(環(huán))脂肪族部分，其中C和/或H原子可以被例如O，Br，Cl，和Si原子所取代，并還可以含有其他官能團如烯屬基團。
即，本發(fā)明的含有碳硅烷的組分(A)可以通過根據(jù)方案(I)的氫化硅烷化反應得到，例如按Marciniec，B.，Comprehensive Handbook onHydrosilylation，頁107ff.，Pergamon印刷，Oxford，1992所述的，或例如按美國專利6,245,828中(第19欄制備實施例2-3的合成第一步)對相似的硅氧烷基化合物所述的，通過使用例如常用貴金屬化合物作為催化劑，使多Si-H官能碳硅烷組分(i)與二烯屬或炔屬組分(ii)反應。
多Si-H官能碳硅烷組分(i)如1，3，5-三(二甲基甲硅烷基)苯和2，4，6-三(二甲基甲硅烷基)苯甲醚通過例如由Beck，H.，N.，Chaffee，R.，G.，J.Chem.Eng.Data 1963，8(3)，453-454所述的原位Grignard反應來合成。
二烯屬或炔屬組分(ii)如乙炔或1，5-己二烯是市售的。
本發(fā)明的含有碳硅烷的組分(A)也可以通過根據(jù)方案(II)的Grignard反應通過使(多)有機金屬官能組分(iv)與含有硅的組分(v)反應得到。
Grignard反應是一種親核取代反應，其中如方案(II)所示，金屬有機化合物(iv)取代例如含有硅的化合物(v)的離去基團LG，形成新的Si-C單鍵并產(chǎn)生含有硅的化合物(vi) 方案(II)其中R5，R6，R7，R8＝(環(huán))脂肪族或芳香族或(環(huán))脂肪族芳香族或芳香族(環(huán))脂肪族部分，其中C和/或H原子還可以被例如O，Br，Cl，和Si原子所取代，并還可以含有烯屬基團。
例如在美國專利4,788,268(在第6-17欄制備實施例1，2，4，5，6和7)中對相似的硅氧烷基化合物所述的，根據(jù)方案(II)的金屬有機化合物(iv)可以用作原位Grignard反應的中間體，通過例如由Beck，H.，N.，Chaffee，R.，G.，J.Chem.Eng.Data 1963，8(3)，453-454對其他碳硅烷化合物如1，3，5-三(二甲基甲硅烷基)苯和2，4，6-三(二甲基甲硅烷基)苯甲醚所述的原位Grignard反應從鹵代前體開始。
(多)鹵代前體如1，3，5-三溴-苯和2，4，6-三溴-苯甲醚是市售的，或可以被合成，例如在美國專利4,788,268(第6-9欄的制備實施例1和2)中所述的3-溴-烯丙基-苯和4-溴-烯丙基-苯，或例如在Houben-Weyl，Methoden der Organischen Chemie，卷VI/3，頁57(第一制備實施例)中或頁56(第一制備實施例)，Georg Thieme Verlag，Stuttgart，1965，第4版中對于相似的芳基烷基醚化合物(如烯丙基-苯基-醚或丁-2-烯基-(2-甲氧基-苯基)-醚)所述的例如1，5-雙(3，5-二氯-苯氧基)-戊烷或2，2-雙[3，5-二溴-4-(3-甲基丁氧基)-苯基]-丙烷，或例如由Tarbell，D.，S.，Wilson，J.，W.，J.Am.Chem.Soc.1942，64(5)，1066-1070所述的烯丙基-(2-氯-苯基)-醚。
含有硅的組分(v)如氯-二甲基-乙烯基-硅烷，烯丙基-氯-二甲基-硅烷，二氯-二甲基-硅烷，二氯-甲基-苯基-硅烷，甲基-三氯-硅烷，(2-苯基乙基)-三氯-硅烷，或四氯化硅是市售的。
本發(fā)明的組合物的含有碳硅烷的組分(A)優(yōu)選包括以下化學部分-Si-芳基鍵至少1，2，3或4個-硅原子至少1，2，3或4個-不飽和部分至少2，3或4個-Si-氧鍵沒有-芳香族部分至少1，2，3或4個-任選的衍生于雙酚的間隔基部分。
相對于固化的組合物，含有碳硅烷的組分(A)的量可以低至約1wt.-％，低至約3wt.-％，或低至約10wt.-％。
相對于固化的組合物，含有碳硅烷的組分(A)的量可以高至約90wt.-％，高至約65wt.-％，或高至約30wt.-％。
相對于固化的組合物，不飽和組分(B)的量可以低至約1wt.-％，低至約3wt.-％，或低至約10wt.-％。
相對于固化的組合物，不飽和組分(B)的量可以高至約90wt.-％，高至約65wt.-％，或高至約30wt.-％。
相對于固化的組合物，引發(fā)劑(C)的量可以低至約0.00005wt.-％，低至約0.0002wt.-％，或低至約0.002wt.-％，按元素金屬計算，并與組分(A)～(E)存在的材料總重相關。
相對于固化的組合物，引發(fā)劑(C)的量可以高至約1.0wt.-％，高至約0.5wt.-％，或高至約0.1wt.-％，按元素金屬計算，并與組分(A)～(E)存在的材料總重相關。
相對于固化的組合物，填料(D)的量可以低至約3wt.-％，低至約25wt.-％，或低至約50wt.-％。
相對于固化的組合物，填料(D)的量可以高至約90wt.-％，高至約80wt.-％，或高至約75wt-％。
相對于固化的組合物，任選的組分(E)可以存在達到約25wt.-％，達到約15wt.-％，或達到約3wt.-％的量。
本發(fā)明的牙科組合物優(yōu)選滿足以下參數(shù)中的至少一個含有碳硅烷的組分(A)的粘度通?？梢缘扔诨蚋哂诩s0.1Pa*s，等于或高于約1Pa*s，等于或高于約2Pa*s。
含有碳硅烷的組分(A)的粘度通常不超過約40Pa*s，可以等于或低于約20Pa*s，或等于或低于約5Pa*s。
含有碳硅烷的組分(A)的折射率通?？梢缘扔诨蚋哂诩s1.510，等于或高于約1.520，或等于或高于約1.530。
折射率通常不超過約1.600，可以等于或低于約1.580，或等于或低于約1.560。
固化的牙科組合物的不透明度通?？梢缘扔诨蚋哂诩s10％，等于或高于約40％，或等于或高于約70％。
不透明度通常不超過約92％，可以低于約90％，或低于約88％。
含有碳硅烷的組分(A)的分子量(Mw)通?？梢缘扔诨蚋哂诩s250，等于或高于約350，或等于或高于約600。
分子量(Mw)通常不超過約10,000，可以等于或低于約5,000，或等于或低于約2000。
耐壓強度可以等于或高于約150MPa，等于或高于約200MPa，或等于或高于約250MPa。
撓曲強度通?？梢缘扔诨蚋哂诩s50MPa，等于或高于約65MPa，或等于或高于約80MPa。
如果未另有指明，根據(jù)下述方法在標準溫度和壓力(″STP″，即23℃和1023hPa)下進行測量。
可以用Kruess AR 4D裝置(根據(jù)Abbe測量原理的折射計)測量含有碳硅烷的組分(A)的折射率。在20.0℃下測量折射率。在波長589nm處測量折射率。
可以使用Haake RotoVisco RV1裝置(對于粘度達到8000mPa*s時用轉(zhuǎn)子C60/1，或?qū)τ谡扯雀哂?000mPa*s時用轉(zhuǎn)子C20/1，定子P61)測量含有碳硅烷的組分(A)的粘度。在23.0℃下在兩個平面和兩個平行板(即定子和轉(zhuǎn)子)之間測量粘度。在啟動并校正系統(tǒng)之后，安裝適合的轉(zhuǎn)子。然后降低轉(zhuǎn)子，將定子和轉(zhuǎn)子之間的距離調(diào)節(jié)到0.052mm(使用軟件RheoWin Pro Job Manager Software，Version 2.94)，進行粘度測量。然后升高轉(zhuǎn)子，將待測量的材料置于定子上(對于轉(zhuǎn)子C60/1用1.0ml，或?qū)τ谵D(zhuǎn)子C20/1用0.04ml)。沒有不適當?shù)匮舆t，將轉(zhuǎn)子降低回初步調(diào)節(jié)的測量位置。待測量的材料在23.0℃下回火。測量的剪切速率調(diào)節(jié)到產(chǎn)生至少5000μNm的轉(zhuǎn)矩的值(因此根據(jù)待測量的材料的粘度，通常使用的剪切速率為100，200，500，或1000s-1)。開始測量，進行60s。在開始測量后記錄20s的粘度值(Pa*s)，記錄值的平均值作為粘度。
含有碳硅烷的組分(A)的分子量(Mw)可以用GPC測定。適合的方法對于本領域所屬技術人員是已知的。此外，可以使用核磁共振譜測定分子量(端基測定)。
固化的牙科組合物的不透明度可以通過具有指定高度3.6(+/-0.1)mm和直徑20(+/-0.1)mm的樣品來測量。通過將待測量的材料填充進適合高度的、均勻并沒有氣泡的環(huán)，并通過在標準溫度或50℃下在平面、透明、硅油處理的載玻片間貯存過夜使其化學固化，來制備這些樣品。然后用Hunter Lab Associates Laboratory，Inc.，USA(軟件SpecWare Software，Version 1.01)的顏色測量裝置″HunterLab LabScanSpectralcolorimeter″測量不透明度，該裝置給出％值。
根據(jù)相當于ISO 9917的ISO 4049測量耐壓強度和撓曲強度。為測量耐壓強度，根據(jù)制造商的推薦制備每種材料的10個樣品(3×3×5mm)，相當于ISO 9917使用萬用測試機(Zwick Z 010，十字頭速度4mm/min)進行測量。按MPa給出耐壓強度。根據(jù)ISO 4049使用萬用測試機(ZwickZ 010，十字頭速度2mm/min)測量撓曲強度。按MPa給出撓曲強度。
本發(fā)明的組合物的含有碳硅烷的組分(A)可以由式(A)代表芳基-[Si(A)a(D-B)b]n(A)其中彼此獨立地選自A＝(環(huán))脂肪族部分(C1～C6，優(yōu)選C1)或芳香族部分(C6～C14，優(yōu)選苯基)；B＝連接在間隔基D上的不飽和部分(優(yōu)選末端烯屬)；D＝間隔基＝(環(huán))脂肪族部分(C2～C10的亞烷基，優(yōu)選C6和C9)，其中C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代，并可以包括雙環(huán)結(jié)構(gòu)單元；Br＝溴原子；C＝碳原子；
Cl＝氯原子；H＝氫原子；O＝氧原子；Si＝硅原子；芳基＝芳香族部分(例如C6～C14)，優(yōu)選苯，萘，烷氧基苯，烷氧基萘，雙酚A醚，雙酚F醚；a+b＝3；a＝0，1或2(優(yōu)選2)；b＝1，2或3(優(yōu)選1)；n＝1，2，3，4，5或6(優(yōu)選2～4)。
除了相當高的親脂性和相當高的分子量之外，含有碳硅烷的組分(A)可以具有相當高的折射率及相當?shù)偷恼扯取?br> 盡管不希望限于任何特定機理，但是可以認為，由于在含有碳硅烷的組分(A)內(nèi)存在芳香族部分，因此折射率和親脂性是相當高的，這對于牙科材料獲得適合的美感以及避免因吸收水和/或水溶性染料(例如源于咖啡，茶，紅酒)而著色和/或溶脹很重要。
依據(jù)間隔基D的化學結(jié)構(gòu)或不同類型間隔基D的混合化學結(jié)構(gòu)，可以調(diào)節(jié)使含有碳硅烷的組分(A)具有相當?shù)偷恼扯?，這對于牙科材料獲得適合的處理性能很重要。
此外，盡管不希望限于任何特定機理，但是可以認為，由于含有碳硅烷的組分(A)的相當高的分子量和/或含有碳硅烷的組分(A)中所用不飽和部分B的不同反應性，與常規(guī)(甲基)丙烯酸酯復合體相比，衍生的牙科組合物的體積收縮下降。
在同一分子內(nèi)間隔基D還可以包括相似的和/或不相似的化學結(jié)構(gòu)的不同類型間隔基的混合。在同一分子內(nèi)使用不同類型間隔基D的混合對于調(diào)節(jié)含有碳硅烷的組分(A)的粘度和/或反應性和/或極性和/或折射率以及固化的牙科組合物的性能如硬度是有利的。
在優(yōu)選的實施方案中，依據(jù)含有碳硅烷的組分(A)的分子結(jié)構(gòu)以及在含有碳硅烷的組分(A)中結(jié)構(gòu)單元{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m的數(shù)量m，含有碳硅烷的組分(A)的特征在于式(I-IV)。
在優(yōu)選的實施方案中，在結(jié)構(gòu)單元{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m的分子中，含有碳硅烷的組分(A)僅包括一個芳香族部分(即m＝1)以及僅包括一個芳基-Si鍵(即n＝1)，并且其特征在于式(I)，其中各標記按上面定義的B-D-E-{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(I)其中m＝1；n＝1；E＝(環(huán))脂肪族部分(例如C5～C11的亞烷基，優(yōu)選C7和C9)，其中至少一個C原子可以被Si原子所取代，和其中其他C和/或H原子也可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代，其中各標記按上面定義的。
根據(jù)式(I)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中 D＝?jīng)]有間隔基或-(CH2)-或-(CH2)4-或-(CH2)6-或-(CH2)8-En＝(D-B) 或 或 或 或
其中A＝C1，a＝2，b＝1，E＝C7，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，E＝C7，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，E＝C7，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，E＝C7，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝萘基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，E＝C7，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝萘基含有碳硅烷的組分(A)可以通過根據(jù)上述方案(I)的氫化硅烷化反應得到，通過使用例如常用貴金屬化合物作為催化劑，使多Si-H官能碳硅烷組分(i)與二烯屬或炔屬組分(ii)反應。
以下化合物是合成滿足式(I)要求的碳硅烷化合物(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(i)的例子
以下化合物是合成滿足式(I)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的二烯屬或炔屬組分(ii)的例子乙炔
以下化合物是通過原位Grignard反應合成滿足式(I)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的金屬有機組分(iv)的優(yōu)選的多鹵代前體的例子 以下化合物是合成滿足式(I)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的優(yōu)選的含有硅的組分(v)的例子
在另一個優(yōu)選的實施方案中，在結(jié)構(gòu)單元{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m的分子中，含有碳硅烷的組分(A)僅包括一個芳香族部分(即m＝1)以及包括多于一個芳基-Si鍵(即n≥2)，并且其特征在于式(II)，其中各標記按上面定義的{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(II)其中m＝1n＝2，3，4，5或6(優(yōu)選2或3)，其中各標記按上面定義的。
根據(jù)式(II)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中B＝ D＝?jīng)]有間隔基或-(CH2)-或-(CH2)4-或-(CH2)6-或-(CH2)8-En＝(D-B) 或 或 或 或 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝2，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝2，芳基＝苯基
其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝2，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝2，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝4，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝2，芳基＝萘基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，n＝2，芳基＝萘基以下化合物是合成滿足式(II)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案
(I)所用的優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(i)的例子 以下化合物是合成滿足式(II)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的二烯屬或炔屬組分(ii)的例子乙炔
以下化合物是通過原位Grignard反應合成滿足式(II)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的可能金屬有機組分(iv)的優(yōu)選的多鹵代前體的例子
以下化合物是合成滿足式(II)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的優(yōu)選的含有硅的組分(v)的例子 在另一個優(yōu)選的實施方案中，在結(jié)構(gòu)單元{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m的分子中，含有碳硅烷的組分(A)包括多于一個芳香族部分以及包括多于一個芳基-Si鍵(即芳香族部分總是與硅原子連接)，并且依據(jù)m(即m≥2或m＝1)其特征在于式(IIIa和IIIb)，其中各標記按上面定義的F-{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(IIIa)其中彼此獨立地選自
m＝2，3或4(優(yōu)選2)；n＝1，2，3，4，5或6(優(yōu)選2～4)；F＝(環(huán))脂肪族部分(C0～C25的亞烷基，優(yōu)選C0～C9)，其中C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代，其中各標記按上面定義的。
根據(jù)式(IIIa)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中彼此獨立地選自 D＝?jīng)]有間隔基或-(CH2)-或-(CH2)4-或-(CH2)6-或-(CH2)8-En＝(D-B) 或 或 或 或 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝1，F(xiàn)＝C1，其中C被O所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝1，F(xiàn)＝C1，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝1，2，F(xiàn)＝C3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，F(xiàn)＝C3，芳基＝苯基
其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，F(xiàn)＝C3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，F(xiàn)＝C3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，F(xiàn)＝C3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，F(xiàn)＝C7，其中C部分地被O所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，F(xiàn)＝C5，其中C部分地被O所取代，芳基＝萘基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝3，n＝2，F(xiàn)＝C8，其中C部分地被O所取代，芳基＝苯基
其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝4，n＝2，F(xiàn)＝C9，其中C部分地被O所取代，芳基＝苯基以下化合物是合成滿足式(IIIa)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(i)的例子

以下化合物是合成滿足式(IIIa)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的二烯屬或炔屬組分(ii)的例子乙炔 以下化合物是通過原位Grignard反應合成滿足式(IIIa)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的金屬有機組分(iv)的優(yōu)選的多鹵代前體的例子

以下化合物是合成滿足式(IIIa)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的優(yōu)選的含有硅的組分(v)的例子 在另一個優(yōu)選的實施方案中，在結(jié)構(gòu)單元芳基-[Si(A)a(D-B)b]n的分子中，含有碳硅烷的組分(A)僅包括一個硅原子和多于一個總是與硅原子連接的芳香族部分(即n＝1，b≥1)，并且其特征在于式(IIIb)，其中各標記按上面定義的芳基-[Si(A)a(D-B)b]n(IIIb)其中彼此獨立地選自芳基＝烯丙基-苯；A＝(環(huán))脂肪族部分(例如C1～C6，優(yōu)選C1)或脂肪族芳香族部分(例如C8～C16，優(yōu)選C8，如(2-苯基乙基))；B＝連接在間隔基D上的不飽和部分，如末端C2基烯屬部分；
D＝間隔基＝C7的芳香族脂肪族部分，如α，3/4-亞甲苯基，其中苯環(huán)與Si連接，亞甲基與脂肪族烯屬部分B連接；a＝0，1或2(優(yōu)選1或2)；b＝1，2或3(優(yōu)選1或2)；n＝1其中各標記按上面定義的。
根據(jù)式(IIIb)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中 或 或 其中A＝C1脂肪族，a＝2，b＝1，D＝α，4-亞甲苯基，芳基＝4-烯丙基-苯基 其中A＝C1脂肪族，a＝2，b＝1，D＝α，3-亞甲苯基，芳基＝3-烯丙基-苯基 其中A＝C1脂肪族和C6芳香族，a＝2，b＝1，D＝α，4-亞甲苯基，芳基＝4-烯丙基-苯基
其中A＝C1脂肪族和C6芳香族，a＝2，b＝1，D＝α，3-亞甲苯基，芳基＝3-烯丙基-苯基 其中A＝C1脂肪族，a＝1，b＝2，D＝α，4-亞甲苯基，芳基＝4-烯丙基-苯基 其中A＝C1脂肪族，a＝1，b＝2，D＝α，3-亞甲苯基，芳基＝3-烯丙基-苯基 其中A＝C8脂肪族芳香族，a＝1，b＝2，D＝α，4-亞甲苯基，芳基＝4-烯丙基-苯基 其中A＝C8脂肪族芳香族，a＝1，b＝2，D＝α，3-亞甲苯基，芳基＝3-烯丙基-苯基 其中a＝0，b＝3，D＝α，4-亞甲苯基，芳基＝4-烯丙基-苯基 其中a＝0，b＝3，D＝α，3-亞甲苯基，芳基＝3-烯丙基-苯基以下化合物是通過原位Grignard反應合成滿足式(IIIb)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的金屬有機組分(iv)的優(yōu)選的鹵代前體的例子 以下化合物是合成滿足式(IIIb)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的優(yōu)選的含有硅的組分(v)的例子 在優(yōu)選的實施方案中，在結(jié)構(gòu)單元{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m的分子中，含有碳硅烷的組分(A)包括多于一個芳香族部分，并且其特征在于式(IV)，其中各標記按上面定義的G-{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(IV)其中彼此獨立地選自m＝2，3或4(優(yōu)選2)；n＝1，2，3，4，5或6(優(yōu)選2～4)；G＝(環(huán))脂肪族或芳香族或(環(huán))脂肪族芳香族或芳香族(環(huán))脂肪族部分(C1～C100的二基，優(yōu)選C3～C63)，其中C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代，其中各標記按上面定義的。
根據(jù)式(IV)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中 D＝?jīng)]有間隔基或-(CH2)-或-(CH2)4-或-(CH2)6-或-(CH2)8-En＝(D-B) 或 或 或 或 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C3，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C10，其中C部分地被O所取代，芳基＝萘基以下化合物是合成滿足式(IV)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(i)的例子
在式(IV)的更詳細的實施方案中，含有碳硅烷的組分(A)可以由式(IVa)代表，其中各標記按上面定義的 (IVa)其中彼此獨立地選自p＝0，1，2，3或4；o＝0，1，2，3，4或5；Q＝H或CH3，R，S＝H，CH3，苯基或C5-9亞烷基(例如R+S＝(CH2)5，CH2-CH(CH3)-CH2-CH2-CH2，CH2-CH2-CH(CH3)-CH2-CH2，CH2-C(CH3)2-CH2-CH(CH3)-CH2)；T，U＝H或CH3；
V，W，X，Y＝H，Br或Cl其中各標記按上面定義的。
根據(jù)式(IVa)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中 D＝?jīng)]有間隔基或-(CH2)-或-(CH2)4-或-(CH2)6-或-(CH2)8-En＝(D-B) 或 或 或 或 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C49，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C59，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C57，其中C部分地被Br，O，和Si所取代，芳基＝苯基
其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C63，其中C部分地被Br，O，和Si所取代，芳基＝苯基在另一個更詳細的實施方案中，含有碳硅烷的組分(A)可以由式(IVb)代表，其中各標記按上面定義的 根據(jù)式(IVb)，以下結(jié)構(gòu)式是含有碳硅烷的組分(A)的優(yōu)選例子其中彼此獨立地選自 D＝?jīng)]有間隔基或-(CH2)-或-(CH2)4-或-(CH2)6-或-(CH2)8-En＝(D-B) 或 或 或 或 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C29，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基
其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C34，其中C部分地被O和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C33，其中C部分地被Br，O，和Si所取代，芳基＝苯基 其中A＝C1，a＝2，b＝1，m＝2，n＝2，G＝C37，其中C部分地被Br，O，和Si所取代，芳基＝苯基以下化合物是合成滿足式(IVa和IVb)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(i)的例子

這些優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(i)例如可以通過合成Si-H化合物(i)的方案(I)所用的不含硅的二烯屬前體(ia)和多Si-H官能碳硅烷組分(ib)的氫化硅烷化反應來合成。
不含硅的二烯屬前體(ia)的例子是









優(yōu)選的多Si-H官能碳硅烷組分(ib)的例子是 以下化合物是合成滿足式(IV，IVa，和IVb)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(I)所用的優(yōu)選的二烯屬或炔屬組分(ii)的例子乙炔 以下化合物是通過原位Grignard反應合成滿足要求式(IV)的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的金屬有機組分(iv)的優(yōu)選的多鹵代前體的例子 以下化合物是合成滿足式(IV)要求的含有碳硅烷的組分(A)的方案(II)所用的優(yōu)選的含有硅的組分(v)的例子 有用的Si-H官能化合物(B)可以通過氫化硅烷化反應與含有碳硅烷的組分(A)反應。這種Si-H官能化合物(B)包括具有Si-鍵合的氫原子的衍生于有機聚硅氧烷和/或碳硅烷的化合物。Si-H官能化合物(B)優(yōu)選是每個分子具有至少2個Si-鍵合的氫原子的有機聚硅氧烷和/或每個分子具有至少2個Si-鍵合的氫原子的碳硅烷。
有用的引發(fā)劑(C)在Si-H官能化合物(B)存在下可以引發(fā)組合物的含有碳硅烷的組分(A)的固化。
這種引發(fā)劑可以是光固化或化學固化。這兩種類型的引發(fā)劑對于本領域所屬技術人員是公知的。
這種引發(fā)劑的代表性例子包括例如在Marciniec，B.，Comprehensive Handbook on Hydrosilylation，頁8ff.，Pergamon Press，Oxford，1992中或例如在美國專利5,145,886,6,046,250,6,376,569中所述的例如鉑(氧化態(tài)0和/或+2)，鈀(氧化態(tài)0和/或+2)，或銠(氧化態(tài)0和/或+1)的絡合物。
引發(fā)劑(C)優(yōu)選是通過用四甲基二乙烯基二硅氧烷還原從六氯鉑酸制備的鉑絡合物。這些化合物是已知的?？梢源龠M加成交聯(lián)的其他鉑化合物也是適合的。適合的鉑-硅氧烷絡合物的例子例如記載在美國專利3,715,334，3,775,352和3,814,730。鉑催化劑優(yōu)選用量為0.00005～0.5wt.-％，特別是0.0002～0.2wt.-％，按元素鉑計算，并與組分(A)～(E)存在的材料總重相關。
為控制反應性，需要加入抑制劑，以防止過早交聯(lián)成彈性體。這種抑制劑是已知的，并例如記載在美國專利3,933,880中。其例子包括炔屬不飽和醇，如3-甲基-1-丁炔-3-醇，1-乙炔基環(huán)己烷-1-醇，3、5-二甲基-1-己炔-3-醇和3-甲基-1-戊炔-3-醇?；谝蚁┗柩跬榈囊种苿┑睦影?，1，3，3-四甲基-1，3-二乙烯基硅氧烷和含有聚-，低聚-和二硅氧烷的乙烯基。
本發(fā)明的組合物還可以包括填料(D)，優(yōu)選無機填料，如石英，磨砂玻璃，氧化硅凝膠以及熱解硅酸和沉淀硅酸或它們的顆粒。優(yōu)選至少部分使用X-射線不透明的填料。這些例如可以是X-射線不透明的玻璃，即例如含有鍶，鋇或鑭(例如根據(jù)美國專利3,971,754)的玻璃。一些填料可以含有X-射線不透明的添加劑，如三氟化釔，六氟鋯酸鍶或稀土金屬的氟化物(例如根據(jù)EP 0238025A1)。為更好地加到聚合物基體中，有利的是憎水處理無機填料。常見憎水劑包括硅烷，例如(5-己烯基)三甲氧基硅烷或[2-(3-環(huán)己烯基)-乙基]三甲氧基硅烷。填料優(yōu)選平均粒徑＜20μm，特別是＜5μm，更特別是＜2μm，粒徑上限是150μm，特別是70μm，更特別是25μm。這種填料存在量占組合物的約3～約90wt.-％，特別是約25～約80或約50～約75wt.-％。
非增強填料也可以用在本發(fā)明中，如石英，方石英，硅酸鈣，硅藻土，硅酸鋯，蒙脫石如斑脫土，沸石，包括分子篩如鋁硅酸鈉，金屬氧化物粉末，如氧化鋁或氧化鋅或它們的混合氧化物，硫酸鋇，碳酸鈣，石膏，玻璃和塑料粉末。
適合的填料還包括增強填料，例如熱解或沉淀的硅酸和氧化硅鋁的混合氧化物。上述填料可以被憎水處理，例如用有機硅烷或硅氧烷處理或者用羥基醚化成烷氧基。可以使用一種類型的填料或至少兩種填料的混合物。
增強和非增強填料的組合是特別優(yōu)選的。在此方面，增強填料的量可以為約1～約10wt.-％，特別為約2～約5wt.-％。
在所述總范圍即約2～約89wt.-％中的差由非增強填料負責。
熱解制備的高度分散的硅酸優(yōu)選通過表面處理進行憎水處理，并優(yōu)選作為增強填料。例如可以用二甲基二氯硅烷，六甲基二硅氮烷，四甲基環(huán)四硅氧烷或聚甲基硅氧烷進行表面處理。
特別是優(yōu)選的非增強填料是可以被表面處理的石英，方石英，碳酸鈣和鋁硅酸鈉。通常按與增強填料相同的方法進行表面處理。
可以單獨或混合使用任選的添加劑(E)，如穩(wěn)定劑，改性劑，染料，顏料，觸變劑，流動改進劑，或降粘劑，聚合增稠劑，表面活性劑，和稀釋劑。
上述含有碳硅烷的組分(A)可以用作牙科組合物中的單體，優(yōu)選通過不飽和基團，特別是末端烯屬基團的氫化硅烷化反應固化。
本發(fā)明的牙科組合物例如可以用作牙科填料，牙冠和牙橋材料，膠合材料，鑲嵌物或裱貼物。
含有碳硅烷的組分(A)可用于制備牙科材料，其制備方法包括如下步驟a)提供含有含有碳硅烷的組分(A)的牙科組合物；b)將該牙科組合物涂布至表面；c)固化該牙科組合物。
該表面通常是牙齒，牙冠或牙橋的表面。
該牙科組合物可以是1部分混合物或2部分混合物。這通常取決于所用的引發(fā)劑。如果引發(fā)劑是光固化的，那么該牙科組合物可以是1部分混合物，如果引發(fā)劑是氧化還原固化的，那么該牙科組合物應該是2部分混合物。
因此，本發(fā)明還涉及一種包括基本部分(I)和催化劑部分(II)的部分的試劑盒，其中該基本部分(I)包括含有碳硅烷的組分(A)，Si-H官能組分(B)，和填料(D)，和該催化劑部分(II)包括引發(fā)劑(C)，和其中組分(E)存在于該基本部分或該催化劑部分中或存在于該基本部分和該催化劑部分中。
本發(fā)明的牙科組合物通常包裝在容器或盒子中，優(yōu)選在牙科強制器中。這種強制器的例子記載在美國專利5,322,440或4,391,590或5,165,890中。
本發(fā)明還涉及一種制造可固化牙科組合物的方法，包括如下步驟a)提供組分(A)，(B)，(C)，任選的(D)和任選的(E)；b)混合步驟a)的各組分，其中組分(A)通過氫化硅烷化反應得到或者通過Grignard反應或原位Grignard反應得到。
Grignard反應或原位Grignard反應包括使上述(多)有機金屬官能組分(iv)或(多)鹵代前體和含有硅的組分(v)反應。
氫化硅烷化反應包括使上述多Si-H官能碳硅烷組分(i)和二烯屬或炔屬組分(ii)反應。
下面通過實施例說明本發(fā)明。實施例僅用于說明目的，不用于限制本發(fā)明。
根據(jù)上述參考文獻制備表1中列出的化合物，測量它們的折射率和粘度。
表1
制備根據(jù)本發(fā)明的含有碳硅烷化合物的牙科組合物以及含有現(xiàn)有技術參考化合物的牙科組合物，測量它們的不透明度。
表權(quán)利要求
1.牙科組合物，其包括a)含有碳硅烷的組分(A)，其包括-至少1個Si-芳基鍵，-至少1個硅原子，-至少2個不飽和部分，-沒有Si-氧鍵，b)Si-H官能組分(B)，c)引發(fā)劑(C)，d)任選的填料(D)，e)任選的組分(E)，其選自改性劑，染料，顏料，觸變劑，流動改進劑，聚合增稠劑，表面活性劑，有氣味物質(zhì)，稀釋劑和香料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的牙科組合物，其滿足以下要求中的至少一個a)組分(A)其折射率等于或高于約1.510；b)組分(A)其粘度等于或高于0.1Pa*s；c)組分(A)其分子量等于或高于約250；d)固化的組合物的不透明度等于或高于約10％；e)固化的組合物的耐壓強度等于或高于約150MPa；f)固化的組合物的撓曲強度等于或高于約50MPa。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中相對于固化的組合物，a)含有碳硅烷的組分(A)其存在量至少1wt.-％，b)Si-H官能組分(B)其存在量至少1wt.-％，c)引發(fā)劑(C)其存在量至少0.00005wt.-％，按元素金屬計算，d)任選的填料(D)其存在量至少3wt.-％，e)任選的組分(E)其存在量小于25wt.-％。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中組分(A)由式(A)代表芳基-[Si(A)a(D-B)b]n(A)其中彼此獨立地選自A＝脂肪族或環(huán)脂肪族部分(C1～C6)或芳香族部分(C6～C14)；B＝連接在間隔基D上的不飽和部分；D＝間隔基＝(環(huán))脂肪族部分，其中C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代，并可以包括雙環(huán)結(jié)構(gòu)單元；Br＝溴原子；C＝碳原子；Cl＝氯原子；H＝氫原子；O＝氧原子；Si＝硅原子；芳基＝芳香族部分；a+b＝3；a＝0，1或2；b＝1，2或3；n＝1，2，3，4，5或6。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中組分(A)由式(I)，(II)，(IIIa)或(IIIb)之一代表B-D-E-{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(I)其中彼此獨立地選自m＝1；n＝1；E＝(環(huán))脂肪族部分，其中至少一個C原子可以被Si原子所取代，和其中其他C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代；其中其他標記按權(quán)利要求4所定義的；{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(II)其中彼此獨立地選自m＝1n＝2，3，4，5或6；其中其他標記按權(quán)利要求4所定義的；F-{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(IIIa)其中彼此獨立地選自m＝2，3或4；n＝1，2，3，4，5或6；F＝(環(huán))脂肪族部分，其中C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代；其中其他標記按權(quán)利要求4所定義的；芳基-[Si(A)a(D-B)b]n(IIIb)其中彼此獨立地選自芳基＝烯丙基-苯；A＝(環(huán))脂肪族部分或脂肪族芳香族部分；B＝連接在間隔基D上的不飽和部分，如末端C2基烯屬部分；D＝間隔基＝C7的芳香族脂肪族部分，如α，3/4-亞甲苯基，其中苯環(huán)與Si連接，亞甲基與脂肪族環(huán)氧部分B連接；a＝0，1或2；b＝1，2或3；n＝1其中其他標記按權(quán)利要求4所定義的。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中組分(A)由式(VI)，(IVa)或(IVb)之一代表G-{芳基-[Si(A)a(D-B)b]n}m(IV)其中彼此獨立地選自m＝2，3或4；n＝1，2，3，4，5或6；G＝(環(huán))脂肪族或芳香族或(環(huán))脂肪族芳香族或芳香族(環(huán))脂肪族部分，其中C和/或H原子可以被O，Br，Cl，和Si原子所取代；其中其他標記按權(quán)利要求4所定義的； (IVb)其中彼此獨立地選自p＝0，1，2，3或4；o＝0，1，2，3，4或5；Q＝H或CH3，R，S＝H，CH3，苯基或亞烷基；T，U＝H或CH3；V，W，X，Y＝H，Br或Cl其中各標記按上面定義的。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中含有碳硅烷的組分(A)選自 其中En＝ 或 或 或 或
8.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中Si-H官能組分(B)是具有Si-鍵合的氫原子的衍生于有機聚硅氧烷或碳硅烷的化合物。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中引發(fā)劑(B)包括光固化引發(fā)劑或氧化還原固化引發(fā)劑或二者的組合。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其中填料(C)包括增強和/或非增強填料。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項所述的牙科組合物，其填充在容器或盒子中。
12.包括基本部分(I)和催化劑部分(II)的部分的試劑盒，其中基本部分(I)包括含有碳硅烷的組分(A)，Si-H官能組分(B)，和填料(D)，催化劑部分(II)包括引發(fā)劑(C)，和其中組分(E)存在于該基本部分或該催化劑部分中或存在于該基本部分和該催化劑部分中。
13.制造根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項所述的牙科組合物的方法，包括如下步驟a)提供根據(jù)權(quán)利要求1～10中所述的組分(A)，(B)，(C)，任選的(D)和任選的(E)；b)混合步驟a)的各組分，其中組分(A)通過氫化硅烷化反應得到或者其中組分(A)通過Grignard反應或原位Grignard反應得到。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中氫化硅烷化反應包括使Si-H官能碳硅烷組分和二烯屬或炔屬組分反應，Grignard反應或原位Grignard反應包括使(多)有機金屬官能組分或(多)鹵代前體和含有硅的組分反應。
15.使用根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項所述的牙科組合物作為牙科填料，牙冠和牙橋材料，膠合材料，鑲嵌物或裱貼物的方法。
16.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的含有碳硅烷的組分(A)用于制備牙科材料的用途，其制備方法包括如下步驟a)提供牙科組合物；b)將該牙科組合物涂布至表面；c)固化該牙科組合物。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種牙科組合物，其包括a)含有碳硅烷的組分(A)，其包括至少1個Si－芳基鍵，至少1個硅原子，至少2個不飽和部分，沒有Si－氧鍵，b)Si－H官能組分(B)，c)引發(fā)劑(C)，d)任選的填料(D)，和e)任選的組分(E)，其選自改性劑，染料，顏料，觸變劑，流動改進劑，聚合增稠劑，表面活性劑，有氣味物質(zhì)，稀釋劑和香料。
文檔編號A61K6/093GK1988874SQ200480043568
公開日2007年6月27日 申請日期2004年7月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月14日
發(fā)明者彼得·比辛格爾, 阿德里安·?？颂? 賴因霍爾德·黑希特, 烏韋·霍艾澤爾 申請人:3M埃斯佩股份公司