專利名稱：電子射線照射方法、電子射線照射裝置和開口容器用電子射線照射裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對對象物照射電子射線的電子射線照射方法和電子射線 照射裝置，特別涉及適用于將例如食品、水、醫(yī)藥品、中藥、化妝品、 飼料、肥料等或它們所使用的包裝材料等作為所述對象物并對其實施殺 菌的電子射線照射方法和電子射線照射裝置，進(jìn)而，特別涉及適合于對 塑料制的開口容器的內(nèi)外表面進(jìn)行殺菌的開口容器用電子射線照射裝 置。
背景技術(shù)：
作為這種電子射線照射方法和電子射線照射裝置，以往一般利用高 能量的電子射線的透射作用將該電子射線照射到對象物上。但是，在這 種高能量型的電子射線照射方法和電子射線照射裝置中，具有其設(shè)施大 規(guī)?；膬A向，并且存在能量效率低的問題。所以，以簡化設(shè)施、提高 能量效率為目的，提出了如下的低能量型的電子射線照射方法和電子射 線照射裝置其使用低能量的電子射線，并且，利用磁場使電子偏轉(zhuǎn)或 利用反射板使電子反射，從而能夠盡可能均勻地對對象物照射電子射線。
例如，作為其代表性示例，公開了專利文獻(xiàn)1和專利文獻(xiàn)2所述的 技術(shù)。
在專利文獻(xiàn)1所述的技術(shù)中，公開了如下的電子射線照射裝置其 具有向電子射線照射區(qū)域照射電子射線的電子射線照射單元；和多個磁 場偏轉(zhuǎn)器，其配置在電子射線照射區(qū)域的周圍并產(chǎn)生多個磁場。而且， 該電子射線照射裝置還具有將立體對象物搬送到電子射線照射區(qū)域內(nèi)的 搬送單元。
并且，在專利文獻(xiàn)2所述的技術(shù)中，公開了如下的電子射線照射裝置其具有對電子射線照射區(qū)域內(nèi)的立體對象物照射電子射線的電子射線照射單元；配置在對象物的下方的磁場偏轉(zhuǎn)器；和搬送對象物的搬送單元。根據(jù)這些專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2所公開的結(jié)構(gòu)，利用搬送單元將對象物搬送到電子射線照射區(qū)域內(nèi)，接著，利用電子射線照射單元產(chǎn)生 電子射線并對電子射線照射區(qū)域內(nèi)進(jìn)行照射，利用各個磁場偏轉(zhuǎn)器使該 所照射的電子射線偏轉(zhuǎn)，從而能夠?qū)ο笪锏母魈幷丈潆娮由渚€。但是，最近，飲料、食品、醫(yī)藥品以及化妝品的填充多使用塑料制 的開口容器。在填充內(nèi)容物前，對這些開口容器的內(nèi)部進(jìn)行滅菌處理， 使其成為無菌狀態(tài)，然后填充內(nèi)容物并進(jìn)行密封。關(guān)于開口容器的滅菌 處理，代替使得設(shè)備變大型化的使用藥劑的方法，而提出了使用電子射 線對高速搬送的開口容器的內(nèi)外表面進(jìn)行滅菌的方法。例如，提出了如下的電子射線照射裝置PET瓶等塑料制的開口容器以其中心軸與搬送方向垂直的方式，即在將開口容器放倒的狀態(tài)下， 通過搬送單元搬送到照射電子射線產(chǎn)生單元的電子射線的照射區(qū)域，利 用地板部傾斜設(shè)置的其他搬送單元以一邊旋轉(zhuǎn)一邊移動的方式搬送開口 容器，使開口容器一邊旋轉(zhuǎn)一邊通過電子射線產(chǎn)生單元的照射空間，由 此，對開口容器的外表面和內(nèi)表面全體照射電子射線，高效進(jìn)行滅菌處理(參照專利文獻(xiàn)3)。并且，作為其他示例，提出了如下的電子射線照射裝置縱長狀地配設(shè)電子射線產(chǎn)生單元，包含該電子射線產(chǎn)生單元的電子射線照射窗在 內(nèi)，在其前后部需要的長度范圍內(nèi)，通過不透射放射線的材料構(gòu)成滅菌 處理室，通過容器搬送單元，以直立姿勢從滅菌處理室的入口部向出口 部搬送處理對象即開口容器，而且具有旋轉(zhuǎn)賦予單元，在從即將到達(dá)電 子射線產(chǎn)生單元的電子射線照射窗的前方位置到通過結(jié)束期間，對開口 容器賦予自轉(zhuǎn)，能夠?qū)崿F(xiàn)小型化，同時提高開口容器的滅菌處理效果(參照專利文獻(xiàn)4)。進(jìn)而，還提出了如下的容器殺菌方法和裝置為了能夠利用電子射 線照射對通過搬送單元在直立狀態(tài)下搬送到殺菌處理室內(nèi)的容器的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌，利用交流磁場沿容器的搬送方向掃描來自電子射線照射裝 置的低能量的電子射線，利用放射狀噴嘴將電子射線細(xì)分并依次注入到 各容器內(nèi)，從而能夠利用一個電子射線照射單元對多個容器內(nèi)表面進(jìn)行 殺菌，能夠使裝置整體小型化(參照專利文獻(xiàn)5)。專利文獻(xiàn)1:日本特開2002-308229號公報 專利文獻(xiàn)2:日本特開平11-281798號公報 專利文獻(xiàn)3:日本特開平10-268100號公報 專利文獻(xiàn)4:日本特開平11-1212號公報 專利文獻(xiàn)5:日本特開2002-104334號公報這里，為了對對象物的整個表面均勻地照射電子射線，需要使磁場 偏轉(zhuǎn)器的配置及其磁場強(qiáng)度發(fā)生各種變化。但是，因為高速發(fā)射電子， 所以用于確保這種照射的均勻性的控制非常困難，即使利用上述各專利 文獻(xiàn)的技術(shù)，也不能完全實現(xiàn)對對象物的整個表面均勻地照射電子射線。并且，在對象物例如為復(fù)雜的具有凹凸的立體物或薄片狀部件的情 況下，對于電子射線照射單元的照射部而言，即使在使電子發(fā)生了偏轉(zhuǎn) 的情況下，因為拉莫爾半徑(Larmorradius)變大且具有邊緣(fringing), 所以對對象物的相反面?zhèn)鹊恼丈浜芾щy。另外，雖然也提出了通過對象 物或反射板的二次電子來對對象物的相反面?zhèn)日丈潆娮由渚€的方案，但 是這種二次電子因空間距離而產(chǎn)生的損失很大，所以確保其照射量并均 勻地進(jìn)行照射是相當(dāng)困難的。進(jìn)而，從這種電子射線照射裝置照射的電子射線，除了對象物以外， 還與其氛圍氣即周圍氣體和裝置的結(jié)構(gòu)部產(chǎn)生沖撞，進(jìn)一步消耗其能量。 因此，難以均勻地對對象物照射電子射線。并且，上述這種問題特別是在連續(xù)搬送對象物的連續(xù)生產(chǎn)線中應(yīng)用 的情況下，更難以能量效率良好地、均勻地對該所搬送的對象物照射低 能量的電子射線。發(fā)明內(nèi)容所以，本發(fā)明是著眼于這些問題而完成的，其目的在于，提供即使是低能量的電子射線，也能夠?qū)ο笪锞鶆虻卣丈潆娮由渚€的電子射線 照射方法和電子射線照射裝置。并且，本發(fā)明的目的在于，提供即使是低能量的電子射線，也能夠 抑制電子射線的能量消耗的電子射線照射方法和電子射線照射裝置，以 及能夠抑制電子射線的能量消耗，同時連續(xù)地照射電子射線的電子射線 照射裝置。但是，在上述專利文獻(xiàn)3所記載的電子射線照射裝置中，將以直立 狀態(tài)搬送的開口容器臨時放倒，在該放倒移送的狀態(tài)下進(jìn)行照射處理， 因此，在生產(chǎn)線中配置殺菌裝置時，需要放倒機(jī)構(gòu)和立起機(jī)構(gòu)，開口容 器的搬送速度因這些機(jī)構(gòu)而顯著降低，所以，具有難以組裝到希望高速 搬送開口容器來提高生產(chǎn)效率的生產(chǎn)線中的問題。并且，專利文獻(xiàn)4所記載的電子射線照射裝置雖然能夠組裝到各種 產(chǎn)品的生產(chǎn)線中，但是，在連續(xù)搬送開口容器時，在通過電子射線產(chǎn)生 單元的一個部位的電子射線照射窗部分的過程中，利用電子射線從側(cè)面 照射各個開口容器來實施滅菌處理，所以為了對開口容器的內(nèi)外表面充 分滅菌，具有要降低搬送速度或必須使用高能量的電子射線產(chǎn)生單元的 問題。進(jìn)而，在專利文獻(xiàn)5所記載的電子射線照射裝置中，為了對在生產(chǎn) 線中連續(xù)搬送的各開口容器進(jìn)行照射處理，需要在一個電子射線照射單 元中分支設(shè)置多個放射狀噴嘴，所以結(jié)構(gòu)變復(fù)雜，為了利用電子射線充 分地照射到開口容器的內(nèi)部，需要降低搬送速度，具有阻礙生產(chǎn)線效率 提高的問題。艮口，本發(fā)明的另一目的在于，提供能夠組裝到高速搬送開口容器的 生產(chǎn)線中，并且能夠使用低能量的電子射線產(chǎn)生單元，在維持負(fù)壓的照 射處理部內(nèi)，通過電子射線有效地對開口容器進(jìn)行滅菌處理的開口容器 用電子射線照射裝置。并且，本發(fā)明的另一目的在于，提供適當(dāng)?shù)嘏渲枚鄠€電子射線產(chǎn)生 單元，能夠利用各電子射線產(chǎn)生單元的電子射線，適當(dāng)?shù)貙σ耘c生產(chǎn)線 大致相同的高速搬送中的各開口容器的內(nèi)外表面進(jìn)行滅菌處理的開口容器用電子射線照射裝置。為了解決上述問題，本發(fā)明的對對象物照射電子射線的方法的特征 在于，該方法形成將在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的多個磁場連接起來的 磁場屏障，在該磁場屏障內(nèi)對對象物照射電子射線。并且，本發(fā)明的對對象物照射電子射線的電子射線照射裝置的特征 在于，該電子射線照射裝置具有電子射線照射單元，其對設(shè)置對象物 的電子射線照射區(qū)域內(nèi)照射電子射線；以及磁場屏障形成單元，其形成 將在所述電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的多個磁場連接起來而包圍所述對象 物的磁場屏障。這里，在本說明書中，"磁場屏障"是指，在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn) 生多個磁場，將這些多個磁場接合起來，而合成相互的磁場。另外，例 如在上述專利文獻(xiàn)1中，雖然在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生多個磁場，但 是，分別形成為單一的磁場，沒有構(gòu)成本發(fā)明這樣的將相互的磁場接合 起來的磁場屏障。根據(jù)本發(fā)明，通過將在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的多個磁場接合起 來形成磁場屏障。因此，通過在該磁場屏障內(nèi)對對象物照射電子射線， 能夠?qū)ο笪镎丈涞碾娮由渚€封閉在磁場屏障內(nèi)，并以各種角度進(jìn)行 反射。因此，能夠高效且均勻地對對象物照射電子射線。這里，優(yōu)選所述磁場屏障由會切(cusp)磁場或磁鏡(mirror)場形 成。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠在磁場屏障內(nèi)沒有能量損失地封入電子。 并且，能夠更有效地獲得電子反射方向的無序性。因此，能夠更加高效 地對對象物照射電子射線。并且，優(yōu)選所述磁場屏障形成單元調(diào)整該產(chǎn)生的磁場的強(qiáng)度，改變 所述磁場屏障內(nèi)的電子射線的反射距離和反射方向中的至少一方。如果 是這種結(jié)構(gòu)，則能夠進(jìn)一步有效地獲得電子反射方向的無序性。因此， 能夠更加高效且均勻地對對象物照射電子射線。并且，優(yōu)選所述磁場屏障形成單元通過該產(chǎn)生的磁場的方向的調(diào)整、 和旋轉(zhuǎn)磁場的產(chǎn)生的有無的調(diào)整中的至少一方，來改變所述磁場屏障內(nèi) 的電子射線的反射方向。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠進(jìn)一步有效地獲得電子反射方向的無序性。因此，能夠更加高效且均勻地對對象物照射電子 射線。并且，所述磁場屏障形成單元優(yōu)選采用具有多個磁場產(chǎn)生體的結(jié)構(gòu)， 該多個磁場產(chǎn)生體配置成包圍所述電子射線照射區(qū)域內(nèi)的對象物，分別 產(chǎn)生所述磁場。如果是這種結(jié)構(gòu)，則在形成包圍對象物的磁場屏障方面 為優(yōu)選結(jié)構(gòu)。而且，能夠使用低能量的電子射線均勻地對對象物照射電 子射線。并且，這種磁場產(chǎn)生體優(yōu)選具有永久磁鐵、電磁鐵或圓形線圈中的 任一種。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠根據(jù)適當(dāng)?shù)臈l件，效率良好地形成期 望的磁場。并且，優(yōu)選該電子射線照射裝置還具有照射槽，該照射槽在內(nèi)部收 納所述對象物，并且將該對象物周圍的氛圍氣管理成真空狀態(tài)、或被從 負(fù)壓到正壓的氛圍氣氣體充滿的狀態(tài)，所述氛圍氣氣體是從空氣、氧、 氮、氫、二氧化碳、氬和氦中選擇的一種或多種氣體。如果是這種結(jié)構(gòu)， 則特別是通過將氛圍氣管理成真空狀態(tài)、或被負(fù)壓的氛圍氣氣體充滿的 狀態(tài)，能夠進(jìn)一步降低電子的能量損失。并且，即使是常壓的氛圍氣， 如果使用比重小的氦氣等氣體作為氛圍氣氣體，則與氛圍氣氣體是空氣 等比重較大的氣體的情況相比，也能夠進(jìn)一步降低電子的能量損失。并 且，即使是正壓的氛圍氣，雖然也依賴于其壓力水平，但通過使用比重 小的氦氣等氣體作為氛圍氣氣體，也能夠充分減少電子的能量損失。而 且，根據(jù)對象物的種類和照射目的，適當(dāng)選擇氛圍氣氣體，能夠?qū)ο?物周圍的氛圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)。并且，優(yōu)選所述電子射線照射單元具有能夠改變其照射的電子射線 的照射角度的照射角度變更單元。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠改變對電子 射線照射區(qū)域內(nèi)照射的電子射線的進(jìn)入角度。因此，電子以各種角度撞 擊磁場屏障，能夠從更多方向進(jìn)行無序照射。因此，能夠更加高效且均 勻地對對象物照射電子射線。并且，優(yōu)選該電子射線照射裝置還具有可通過所述電子射線照射區(qū) 域來搬送所述對象物的對象物搬送單元。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠在移動該對象物的、間歇式生產(chǎn)線或連續(xù)式生產(chǎn)線的生產(chǎn)線途中應(yīng)用本發(fā)明。 并且，本發(fā)明優(yōu)選用于所述對象物為容器或薄片狀部件，對該容器 或薄片狀部件照射電子射線，以對其進(jìn)行殺菌的用途。即，根據(jù)對象物 的種類和形狀，從復(fù)雜形狀的立體物到平面狀物體都能夠應(yīng)用本發(fā)明， 能夠?qū)υ搶ο笪锔咝揖鶆虻卣丈潆娮由渚€，例如，本發(fā)明優(yōu)選用于對 清涼飲料用等的所謂PET瓶(聚酯瓶)及其他塑料制的中空容器照射電 子射線對其進(jìn)行殺菌的用途、和對組裝成牛奶飲料等用的紙容器之前的
紙制的薄片照射電子射線對其進(jìn)行殺菌的用途等。
進(jìn)而，為了解決上述問題，本發(fā)明的對對象物照射電子射線的方法 的特征在于，在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場，在該旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)對 對象物照射電子射線。
并且，本發(fā)明的對對象物照射電子射線的電子射線照射裝置的特征 在于，該電子射線照射裝置具有照射槽，其在內(nèi)部收納對象物，形成 電子射線照射區(qū)域；電子射線照射單元，其對該照射槽內(nèi)照射電子射線；
以及磁場產(chǎn)生單元，其在所述照射槽內(nèi)產(chǎn)生包圍所述對象物的旋轉(zhuǎn)磁場。 這里，本發(fā)明的"旋轉(zhuǎn)磁場"是指所產(chǎn)生的磁場以包圍對象物的方
式旋轉(zhuǎn)的磁場，包含以下情況所產(chǎn)生的磁場本身繞對象物旋轉(zhuǎn)的情況；
磁場本身不旋轉(zhuǎn)，但是使該對象物在包圍對象物的磁場內(nèi)旋轉(zhuǎn)，而形成
相對旋轉(zhuǎn)的磁場的情況；以及磁場本身繞對象物旋轉(zhuǎn)，并且也使該對象 物在包圍該對象物的該磁場內(nèi)旋轉(zhuǎn)的情況。
根據(jù)本發(fā)明，在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生包圍對象物的旋轉(zhuǎn)磁場。 而且，在該旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)對對象物照射電子射線，因此，所照射的電子射 線在旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)部向旋轉(zhuǎn)方向偏轉(zhuǎn)，所以其能量不會因沖撞對象物以外 的結(jié)構(gòu)部而消耗，并且通過利用旋轉(zhuǎn)磁場使對對象物照射的電子射線偏 轉(zhuǎn)，從而尤其能夠在周向上均勻地對對象物照射電子射線。
這里，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生單元構(gòu)成為在包圍所述對象物的范圍內(nèi)產(chǎn) 生多個旋轉(zhuǎn)磁場。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠?qū)⒍鄠€旋轉(zhuǎn)磁場相互接合， 形成所謂的包圍對象物整體的屏障。由此，通過將電子封入，能夠良好 地抑制能量的消耗，在均勻地對對象物照射電子射線方面是更加優(yōu)選的。并且，更優(yōu)選的是所述磁場產(chǎn)生單元可分別單獨地產(chǎn)生所述多個旋 轉(zhuǎn)磁場。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠更加有效地獲得電子反射方向的無序 性。因此，能夠更加高效地對對象物照射電子射線。
并且，例如如果使單獨產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場相對于對象物分段地(例如 如果是上下延伸的部件，則按照劃分為上部、中央部、下部等的每個部 分)移動并照射電子射線，則在沒有遺漏地對對象物整體進(jìn)行照射的方 面是有效的。
并且，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生單元通過改變該產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的旋轉(zhuǎn)方 向，來改變所述旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)的電子射線的反射方向。如果是這種結(jié)構(gòu)， 則能夠進(jìn)一步有效地獲得電子反射方向的無序性。因此，能夠進(jìn)一步高 效且均勻地對對象物照射電子射線。
并且，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生單元具有多個磁場產(chǎn)生體，該多個磁場產(chǎn) 生體配置成包圍所述照射槽內(nèi)的對象物，并分別產(chǎn)生磁場。如果是這種 結(jié)構(gòu)，則在形成包圍對象物的旋轉(zhuǎn)磁場方面為優(yōu)選結(jié)構(gòu)。
并且，優(yōu)選構(gòu)成為所述磁場產(chǎn)生體由圓環(huán)狀的磁場產(chǎn)生線圈構(gòu)成， 通過對該磁場產(chǎn)生線圈通電而產(chǎn)生所述旋轉(zhuǎn)磁場。即使是這種結(jié)構(gòu)，在 形成包圍對象物的旋轉(zhuǎn)磁場方面也是優(yōu)選結(jié)構(gòu)。另外，作為上述通電用 的電源，能夠使用交流電源，其相數(shù)例如可以是三相交流，也可以是三 相以上的多相交流。而且，在使用低能量的電子射線均勻地對對象物照 射電子方面是優(yōu)選的。并且，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生單元使對所述磁場產(chǎn)生 線圈通電的交流電壓的例如有效值變化，來改變旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度。如果 是這種結(jié)構(gòu)，則電子的旋轉(zhuǎn)方向更加無序，能夠進(jìn)一步高效且均勻地照 射電子射線。
并且，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生體具有配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵； 和磁場產(chǎn)生體旋轉(zhuǎn)單元，其使該配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵繞其中心 軸旋轉(zhuǎn)，通過利用該磁場產(chǎn)生體旋轉(zhuǎn)單元使所述配置成圓環(huán)狀的多個永 久磁鐵旋轉(zhuǎn)，來產(chǎn)生所述旋轉(zhuǎn)磁場。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠根據(jù)適當(dāng) 的條件，效率良好地形成期望的旋轉(zhuǎn)磁場。
并且，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生體具有配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵；和對象物旋轉(zhuǎn)單元，其使所述對象物繞該配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵 的中心軸旋轉(zhuǎn)，通過利用該對象物旋轉(zhuǎn)單元使所述對象物在所述配置成 圓環(huán)狀的多個永久磁鐵的內(nèi)側(cè)旋轉(zhuǎn)，而產(chǎn)生與所述對象物相對旋轉(zhuǎn)的磁 場作為所述旋轉(zhuǎn)磁場。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠根據(jù)適當(dāng)?shù)臈l件，效率 良好地形成期望的旋轉(zhuǎn)磁場。
并且，優(yōu)選所述磁場產(chǎn)生單元還具有軸線方向移動單元，該軸線方 向移動單元使所述磁場產(chǎn)生體在所述磁場產(chǎn)生單元產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的軸 線方向上移動。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠進(jìn)一步有效地獲得電子反射方 向的無序性。因此，能夠進(jìn)一步高效且在軸向上更加均勻地對對象物照 射電子射線。
并且，優(yōu)選該電子射線照射裝置還具有照射槽，該照射槽在內(nèi)部收 納所述對象物，并且將該對象物周圍的氛圍氣管理成真空狀態(tài)、或被從 負(fù)壓到正壓的氛圍氣氣體充滿的狀態(tài)，所述氛圍氣氣體是從空氣、氧、 氮、氫、二氧化碳、氬和氦中選擇的一種或多種氣體。如果是這種結(jié)構(gòu)， 則特別是通過將氛圍氣管理成真空狀態(tài)、或被負(fù)壓的氛圍氣氣體充滿的 狀態(tài)，能夠進(jìn)一步降低電子的能量損失。并且，即使是常壓的氛圍氣， 如果使用比重小的氦氣等氣體作為氛圍氣氣體，則與氛圍氣氣體是空氣 等比重較大的氣體的情況相比，能夠進(jìn)一步降低電子的能量損失。并且， 即使是正壓的氛圍氣，雖然依賴于其壓力水平，但通過使用比重小的氦 氣等氣體作為氛圍氣氣體，也能夠充分減少電子的能量損失。
并且，優(yōu)選所述電子射線照射單元具有能夠改變其照射的電子射線 的照射角度的照射角度變更單元。如果是這種結(jié)構(gòu)，則能夠改變對電子 射線照射區(qū)域內(nèi)照射的電子射線的進(jìn)入角度。因此，電子以各種角度撞 擊旋轉(zhuǎn)磁場，能夠從更多方向進(jìn)行無序照射。因此，能夠更加高效且均 勻地對對象物照射電子射線。
并且，優(yōu)選該電子射線照射裝置還具有可通過所述電子射線照射區(qū) 域(或照射槽內(nèi))來搬送所述對象物的對象物搬送單元。如果是這種結(jié) 構(gòu)，則能夠在移動該對象物的、間歇式生產(chǎn)線或連續(xù)式生產(chǎn)線的生產(chǎn)線 途中應(yīng)用本發(fā)明。并且，本發(fā)明優(yōu)選用于所述對象物為容器或薄片狀部件，對該容器 或薄片狀部件照射電子射線，以對其進(jìn)行殺菌的用途。即，根據(jù)對象物 的種類和形狀，從復(fù)雜形狀的立體物到平面狀物體都能夠應(yīng)用本發(fā)明， 能夠?qū)υ搶ο笪锔咝揖鶆虻卣丈潆娮由渚€，例如，本發(fā)明優(yōu)選用于對 清涼飲料等用的所謂PET瓶(聚酯瓶)及其他塑料制的中空容器照射電 子射線并對其進(jìn)行殺菌的用途、和對組裝成牛奶飲料用等的紙容器之前 的紙制的薄片照射電子射線而對其進(jìn)行殺菌的用途等。
進(jìn)而，為了解決上述問題，本發(fā)明的方法從電子射線照射單元進(jìn)行 照射，該電子射線照射單元能夠向在內(nèi)部收納對象物的電子射線照射槽 內(nèi)對所述對象物的表面均勻地照射電子射線，該方法的特征在于，使所 述電子射線照射單元周圍的氛圍氣為被管理成第一負(fù)壓的氛圍氣，使所 述電子射線照射槽內(nèi)為被管理成絕對壓力比所述第一負(fù)壓高的第二負(fù)壓 的氛圍氣，來照射所述電子射線。
并且，本發(fā)明的電子射線照射裝置具有電子射線照射槽，其在內(nèi) 部收納對象物；以及電子射線照射單元，其可向該電子射線照射槽內(nèi)均 勻地照射所述對象物的表面，其特征在于，所述電子射線照射單元設(shè)置 在可維持內(nèi)部壓力的電子射線產(chǎn)生室內(nèi)，所述電子射線照射槽構(gòu)成為可 獨立于所述電子射線產(chǎn)生室來維持其內(nèi)部壓力，并與所述電子射線產(chǎn)生 室相鄰，進(jìn)而，所述電子射線照射裝置還具有壓力管理單元，該壓力管 理單元將所述電子射線產(chǎn)生室內(nèi)管理成第一負(fù)壓，并且將所述電子射線 照射槽內(nèi)管理成絕對壓力比所述第一負(fù)壓高的第二負(fù)壓。
根據(jù)本發(fā)明，使電子射線照射單元周圍的氛圍氣為被管理成第一負(fù) 壓的氛圍氣，使電子射線照射槽內(nèi)為被管理成絕對壓力比第一負(fù)壓高的 第二負(fù)壓的氛圍氣，來照射電子射線，所以，作為該氛圍氣的周邊氣體 變少，能夠抑制因與周邊氣體沖撞而引起的電子射線的能量消耗。
這里，優(yōu)選所述壓力管理單元通過改變所述第二負(fù)壓的高度來改變 電子的發(fā)散程度。如果是這種結(jié)構(gòu)，則通過改變電子射線照射槽(以下 簡稱為"照射槽")內(nèi)的第二負(fù)壓的高度，就能夠改變電子的發(fā)散程度， 所以，能夠獲得電子飛射方向的無序性。因此，能夠更加高效地對對象物照射電子射線。
并且，優(yōu)選所述電子射線照射裝置具有多個預(yù)備室，其構(gòu)成為可 獨立地維持內(nèi)部壓力，并與所述電子射線照射槽相鄰設(shè)置；以及對象物 搬送單元，其在該多個預(yù)備室和所述電子射線照射槽之間搬送所述對象
物，所述多個預(yù)備室構(gòu)成為至少具有前預(yù)備室，其設(shè)置在可利用所述 對象物搬送單元朝所述電子射線照射槽內(nèi)搬送所述對象物的位置上；以 及后預(yù)備室，其設(shè)置在可利用所述對象物搬送單元從所述電子射線照射 槽內(nèi)搬送所述對象物的位置上，進(jìn)而，所述壓力管理單元構(gòu)成為獨立于 所述電子射線照射槽來管理所述多個預(yù)備室的內(nèi)部壓力。如果是這種結(jié) 構(gòu)，則能夠在移動對象物的、間歇式生產(chǎn)線或連續(xù)式生產(chǎn)線的生產(chǎn)線中 途應(yīng)用本發(fā)明。特別是在構(gòu)成將對象物連續(xù)地從大氣環(huán)境搬入電子射線 照射室內(nèi)以及從電子射線照射室搬出，連續(xù)地移動所述對象物的生產(chǎn)線 的方面，因為在電子射線照射槽的前后分別設(shè)置預(yù)備室，所以能夠良好 地維持上述第二負(fù)壓的高度。
并且，優(yōu)選在具有所述多個預(yù)備室的結(jié)構(gòu)中，改變所述前預(yù)備室和 后預(yù)備室內(nèi)的壓力，以便與所述第二負(fù)壓的高度相符。如果是這種結(jié)構(gòu)， 則能更加可靠地維持上述電子射線照射槽內(nèi)的第二負(fù)壓。
并且，優(yōu)選所述照射槽內(nèi)的氛圍氣是從空氣、氧、氮、氫、二氧化 碳、氬和氦中選擇的一種或多種氣體。如果是這種結(jié)構(gòu)，例如使用比重 小的氦氣等，將氛圍氣管理成第二負(fù)壓狀態(tài)，能夠進(jìn)一步降低電子的能 量損失。而且，根據(jù)對象物的種類和照射目的，適當(dāng)選擇氛圍氣的氣體， 能夠?qū)ο笪镏車姆諊鷼夤芾沓梢?guī)定狀態(tài)。
并且，如果所述多個預(yù)備室構(gòu)成為與所述照射槽串聯(lián)或并聯(lián)地配置， 則在構(gòu)成對象物搬送單元的方面，容易進(jìn)行其布局。
并且，如果所述預(yù)備室在搬送方向上連續(xù)設(shè)置多個，相鄰的預(yù)備室 被隔壁相互分開，該隔壁具有旋轉(zhuǎn)式的門和迷宮環(huán)式密封結(jié)構(gòu)中的至少 一方，則在抑制壓力的泄漏并且連續(xù)搬送對象物的結(jié)構(gòu)方面，是優(yōu)選的。 進(jìn)而，在對象物為連續(xù)的薄片狀的情況下，優(yōu)選使用迷宮環(huán)式密封結(jié)構(gòu)。
并且，如果所述前預(yù)備室、電子射線照射槽和后預(yù)備室被供給滿足無塵或無菌中的至少一個條件的凈化空氣，作為管理所述第二負(fù)壓時所 使用的泄漏氣體，則更加優(yōu)選將例如食品、水、醫(yī)藥品、中藥、化妝品 等或它們所使用的包裝材料等作為所述對象物。
并且，優(yōu)選所述前預(yù)備室、電子射線照射槽和后預(yù)備室可分別多階 段地進(jìn)行壓力控制，并構(gòu)成為使氣流向期望的方向流動。如果是這種結(jié) 構(gòu)，例如如果使氣流從后工序向前工序流動，則能夠良好地防止來自未 處理工序(前工序)的懸浮細(xì)菌和灰塵流入，以及包含被殺菌而死亡的 細(xì)菌等的氣體無序地飛散。
并且，本發(fā)明優(yōu)選用于所述對象物為容器或薄片部件，對該容器或 薄片部件照射電子射線，以對其進(jìn)行殺菌的用途。即，根據(jù)對象物的種 類和形狀，從復(fù)雜形狀的立體物到平面狀物體都能夠應(yīng)用本發(fā)明，例如， 本發(fā)明優(yōu)選用于對清涼飲料等用的所謂PET瓶(聚酯瓶)及其他塑料制 的中空容器、包裝紙、塑料薄膜等薄片部件照射電子射線而對其迸行殺 菌的用途等。
進(jìn)而，為了解決上述問題，本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置 的特征在于，該開口容器用電子射線照射裝置構(gòu)成為，在具有降壓單元 來維持負(fù)壓狀態(tài)的照射處理槽的側(cè)面部一體地結(jié)合設(shè)置前壓力調(diào)整槽和 后壓力調(diào)整槽，在所述各槽內(nèi)分別可旋轉(zhuǎn)地配置旋轉(zhuǎn)搬送體，在所述各 旋轉(zhuǎn)搬送體的外表面大致等間隔地設(shè)置用于保持開口容器的多個保持機(jī) 構(gòu)，并且，可從前壓力調(diào)整槽側(cè)到后壓力調(diào)整槽側(cè)，在各旋轉(zhuǎn)搬送體相 互之間依次交接開口容器，在所述前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽內(nèi)的旋 轉(zhuǎn)搬送體上突出設(shè)有隔壁，以劃分各保持機(jī)構(gòu)，在旋轉(zhuǎn)搬送體移動時， 利用所述各隔壁和槽壁面形成多個小分區(qū)，該開口容器用電子射線照射 裝置具有降壓單元，該降壓單元對從所述前壓力調(diào)整槽中的開口容器的 搬入側(cè)到照射處理槽側(cè)的范圍、以及從后壓力調(diào)整槽中的開口容器的照 射處理槽側(cè)到搬出側(cè)的范圍的所述小分區(qū)進(jìn)行降壓，在所述照射處理槽 中配置有至少一個電子射線照射單元。
根據(jù)本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置，因為在維持負(fù)壓的照 射處理部內(nèi)進(jìn)行照射處理，所以能夠使用低能量的電子射線產(chǎn)生單元，能夠有效地利用電子射線對開口容器進(jìn)行殺菌處理。而且，因為能夠利 用保持機(jī)構(gòu)垂直地保持開口容器并在高速搬送中利用電子射線進(jìn)行滅菌 處理，所以能夠組裝到生產(chǎn)線中進(jìn)行使用。
并且，本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置的特征在于，該開口 容器用電子射線照射裝置構(gòu)成為，在具有降壓單元來維持負(fù)壓狀態(tài)的照 射處理槽的側(cè)面部一體地結(jié)合設(shè)置前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽，在所 述各槽內(nèi)分別可旋轉(zhuǎn)地配置旋轉(zhuǎn)搬送體，在所述各旋轉(zhuǎn)搬送體的外表面 大致等間隔地設(shè)置用于保持開口容器的多個保持機(jī)構(gòu)，并且，可從前壓 力調(diào)整槽側(cè)到后壓力調(diào)整槽側(cè)，在各旋轉(zhuǎn)搬送體相互之間依次交接開口 容器，在所述前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體上突出設(shè)有 隔壁，以劃分各保持機(jī)構(gòu)，在旋轉(zhuǎn)搬送體移動時，利用所述各隔壁和槽 壁面形成多個小分區(qū)，該開口容器用電子射線照射裝置具有降壓單元， 該降壓單元對所述前壓力調(diào)整槽中的開口容器的搬入側(cè)到照射處理槽側(cè)
的范圍、以及后壓力調(diào)整槽中的開口容器的照射處理槽側(cè)到搬出側(cè)的范 圍的所述小分區(qū)進(jìn)行降壓，在沿著所述照射處理槽的開口容器的搬送圓 弧位置配置有多個電子射線照射單元。
根據(jù)本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置，因為在沿著照射處理 槽的搬送圓弧的位置上配置了多個電子射線產(chǎn)生單元，所以，與生產(chǎn)線 大致相同，能夠更有效地對高速搬送的各開口容器的內(nèi)外表面迸行基于 電子射線的滅菌處理。
這里，在本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置中，優(yōu)選所述照射 處理槽形成為其直徑比所述前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽大，在所述照 射處理槽的上部排列有多個所述電子射線照射單元。
并且，在本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置中，優(yōu)選在成為電 子射線的電子射線照射室的所述照射處理槽內(nèi)，在與所述各電子射線照 射單元對置的位置、且照射電子射線的開口容器的高度方向的不同位置 上，分別配置使電子射線偏轉(zhuǎn)的電子射線偏轉(zhuǎn)單元。
并且，更加優(yōu)選多個所述電子射線偏轉(zhuǎn)單元配置成使電子射線的偏 轉(zhuǎn)方向相對于開口容器的中心軸向角度不同的圓周方向彎折。并且，更加優(yōu)選在設(shè)于所述照射處理槽內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體上的多個保 持機(jī)構(gòu)部分分別設(shè)置有自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，該自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)利用伴隨旋轉(zhuǎn)搬送體的移 動而產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力使開口容器自轉(zhuǎn)。
根據(jù)本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置，因為在維持負(fù)壓的照 射處理部內(nèi)進(jìn)行照射處理，所以能夠使用低能量的電子射線產(chǎn)生單元， 能夠有效地利用電子射線對開口容器進(jìn)行殺菌處理。而且，因為能夠利 用保持機(jī)構(gòu)垂直地保持開口容器并在高速搬送中利用電子射線進(jìn)行滅菌 處理，所以能夠組裝到生產(chǎn)線中進(jìn)行使用。
進(jìn)而，如果像本發(fā)明這樣構(gòu)成開口容器用電子射線照射裝置，因為 在與前工序和后工序的生產(chǎn)線相同的直立狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)搬送開口容器，因 此成為開口容器的搬送機(jī)構(gòu)部分進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)，所以，不需要對搬送 機(jī)構(gòu)施加多余的力，磨損也極少，不僅能夠長時間使用，而且因為不會 在開口容器上附著粉塵，所以適合于在飲料等的生產(chǎn)線中應(yīng)用。


圖1是表示本發(fā)明第一實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。
圖2是表示模擬了磁場屏障內(nèi)的電子的軌道的結(jié)果的圖。 圖3是表示本發(fā)明第二實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。
圖4是表示本發(fā)明第三實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。
圖5是表示本發(fā)明第四實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖6是表示本發(fā)明第五實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖7是表示本發(fā)明第六實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖8是表示本發(fā)明第七實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖9是表示本發(fā)明第八實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。
圖10是表示本發(fā)明第九實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略 結(jié)構(gòu)圖。
圖11是表示本發(fā)明第十實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。
圖12是本發(fā)明第九實施方式涉及的由電子射線照射裝置中的控制 盤所執(zhí)行的壓力管理處理的流程圖。
圖13是本發(fā)明第十實施方式涉及的由電子射線照射裝置中的控制 盤所執(zhí)行的壓力管理處理的流程圖。
圖14是表示本發(fā)明第十一實施方式涉及的電子射線照射裝置的概
略結(jié)構(gòu)圖。
圖15是表示本發(fā)明第十二實施方式涉及的開口容器用電子射線照
射裝置的原理的概略圖。
圖16是局部剖開地表示本發(fā)明第十二實施方式的開口容器用電子 射線照射裝置的概略俯視圖。
圖17是局部剖開地表示圖16的概略側(cè)視圖。
圖18是表示用于本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置的電子射 線照射單元部分的一例的縱剖面圖。
圖19是表示用于本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置的開口容 器的保持機(jī)構(gòu)部分的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖20是表示用于本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置的電子射 線偏轉(zhuǎn)單元的配置例的概略圖。
標(biāo)號說明
1、 21、 31、 60、 70:腔室(照射槽)；2:遮蔽材料；3:電子射線 產(chǎn)生室；3a:電子射線單元(電子射線照射單元)；4、 19、 23:永久磁 鐵(磁場產(chǎn)生體)；5、 20:電子射線照射窗；6:氣體封入口； 7:氣體 吸引口； 8、 9:小分區(qū)(小室)；10:電子偏轉(zhuǎn)器(照射角度變更單元)；11、 69:真空排氣裝置；11E、 21E、 31E:旋轉(zhuǎn)搬送體；12:(氦氣)貯 氣瓶；13:固定器具；14:轉(zhuǎn)臺；15:支承軸；17:架臺；18:腔室內(nèi) 周壁；22:磁鐵支承部件；26:對象物旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；27:遮蔽門；28:對 象物搬送裝置(對象物搬送單元)；30:飲料容器(對象物)；31:薄片 部件(對象物)；32:前方閘閥；33:后方閘閥；34、 61、 75:前壓力調(diào) 整槽(前預(yù)備室)；35、 62、 76:后壓力調(diào)整槽(后預(yù)備室)；41:汽缸 閥；42:手動閥；43:可變流量閥；50:空氣導(dǎo)入口； 51、 52:過濾器； 51a:風(fēng)扇；53:生物濾池(bio-filter); 54:凈化空氣產(chǎn)生裝置(清潔空 氣產(chǎn)生裝置)；63:外框架；64:內(nèi)框架；65:保持機(jī)構(gòu)(手機(jī)構(gòu))；66: 隔壁；67、 68:配管；69:真空排氣裝置；70:旋轉(zhuǎn)臺；71:磁場產(chǎn)生 線圈；72:交流電源；73:永久磁鐵；74:磁軛；75:同步帶；76:帶 輪；77:電動機(jī)；78:汽缸；81:三相變換器；83:電磁鐵；87:間隙 輥；88:輥；89:框架；90:滑動移動裝置；91:放置盤；92:連接軸； 93:軸承；94:連接部件；95:支承臂；96:(磁場產(chǎn)生線圈用的)凸輪 面；97:(對象物承受臺用的)凸輪面；98:(磁場產(chǎn)生線圈用的)凸輪 從動件；99:(對象物承受臺用的)凸輪從動件；100:搬送機(jī)構(gòu)；118: 驅(qū)動機(jī)構(gòu)；145:電子射線偏轉(zhuǎn)器；146:保護(hù)板；147:電子射線收束器； 148:水冷管；149:夾緊把手；150:自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；151:驅(qū)動圓板；152: 驅(qū)動輥；153:連接驅(qū)動單元；G:間隙；EB:電子射線；MF、 MF2: 磁場屏障。
具體實施例方式
下面，適當(dāng)參照附圖對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行說明。另外，在以下 各實施方式中，示出在如下用途中應(yīng)用本發(fā)明的電子射線照射裝置的例
子，即，對作為對象物的清涼飲料用等的PET瓶(聚酯瓶)等形狀復(fù)雜 的中空的飲料容器30照射電子射線以對其進(jìn)行殺菌。
圖1是表示本發(fā)明第一實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。另外，在該圖中，利用剖面示出電子射線照射裝置的成為主體部 分的大致圓筒形狀的電子射線的照射槽，該剖面包含了該照射槽的軸線。如該圖所示，該電子射線照射裝置具有電子射線EB的照射槽即腔 室1。該腔室1是具有足夠在其內(nèi)部收納飲料容器30的大小的耐壓結(jié)構(gòu) 的密封容器，并形成為將軸線作為上下方的大致圓筒形狀。腔室1的材 質(zhì)為鋼材或不銹鋼制，另外，雖然沒有圖示，但腔室1的周圍由能夠遮 蔽X射線的遮蔽材料包圍。
在腔室1的上部具有向成為電子射線照射區(qū)域的腔室內(nèi)照射電子射
線的電子射線照射單元3。電子射線照射單元3在多個部位(在該例中為 3個部位)具有緊貼在腔室1的上部設(shè)置的電子射線照射窗5，成為能夠 從各電子射線照射窗5對腔室1內(nèi)照射電子射線的結(jié)構(gòu)。該電子射線照 射單元3能夠照射低能量的電子射線，其主體的輸出被設(shè)定為200kV以 下。另外，在各電子射線照射窗5和腔室1內(nèi)部之間，分別裝有環(huán)狀的 電子偏轉(zhuǎn)器IO，以使電子以各種角度向腔室1內(nèi)進(jìn)入。即，該電子偏轉(zhuǎn) 器10成為能夠改變電子射線照射單元5照射的電子射線的照射角度的照 射角度變更單元。
在腔室1的規(guī)定位置(在該例中為腔室1的外壁面)以包圍電子射 線照射區(qū)域的周圍的方式排列設(shè)置有多個永久磁鐵4。這些多個永久磁鐵 4能夠分別在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生磁場，分別配置在作為上述規(guī)定位 置的可將相互的磁場接合起來的位置上。這里，這些多個永久磁鐵4的 相互的磁場構(gòu)成會切磁場。即，這些多個永久磁鐵4能夠沿著腔室內(nèi)周 壁18以包圍飲料容器30的方式將相互的磁場合成來形成基于會切磁場 的磁場屏障MF。另外，各永久磁鐵4對應(yīng)于上述磁場產(chǎn)生體。并且，這 些多個永久磁鐵4的整體對應(yīng)于上述磁場屏障形成單元。
進(jìn)而，在腔室1的壁面設(shè)有氣體封入口 6、氣體吸引口 7和空氣導(dǎo) 入口 50。氣體吸引口 7經(jīng)由配管和氣體排氣閥7A連接到真空排氣裝置 11上。另一方面，氣體封入口 6經(jīng)由配管和氣體吸氣閥6A連接到貯藏 有氦氣的貯氣瓶12上。并且，空氣導(dǎo)入口 50發(fā)揮漏氣口的功能，連接 有向大氣側(cè)敞開的配管，在該配管的中途設(shè)有空氣導(dǎo)入閥50A和過濾器 51。由此，該電子射線照射裝置能夠在腔室l內(nèi)將飲料容器30周圍的氛 圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)。更具體而言，該電子射線照射裝置通過打開氣體排氣閥7A，能夠通過真空排氣裝置11從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部 的空氣或氣體，使腔室1內(nèi)成為作為規(guī)定狀態(tài)的負(fù)壓狀態(tài)。并且，通過
打開氣體吸氣閥6A，能夠代替空氣而從氣體封入口 6向腔室1內(nèi)封入比 重輕的氦氣。并且，通過打開空氣導(dǎo)入閥50A，能夠從空氣導(dǎo)入口50向 腔室1內(nèi)導(dǎo)入大氣側(cè)的空氣，使腔室1內(nèi)成為大氣釋放狀態(tài)。另外，如 果上述的氣體吸氣閥6A、氣體排氣閥7A和空氣導(dǎo)入閥50A為分別通過 電氣或空氣壓等來驅(qū)動的可遠(yuǎn)方控制的閥，則能夠使腔室內(nèi)的氛圍氣管 理自動化，是優(yōu)選的。
并且，該電子射線照射裝置具有設(shè)于腔室1的壁面上的可開閉的未 圖示的對象物搬入口。而且，還具有作為對象物搬送單元的對象物搬送 裝置(未圖示)，該對象物搬送裝置將飲料容器30從該對象物搬入口搬 入腔室1內(nèi)以及從腔室1內(nèi)搬出。對象物搬送裝置具有由線等線材構(gòu)成 的固定器具13。該固定器具13能夠一邊卡定飲料容器30的頭部部分一 邊進(jìn)行搬送。由此，飲料容器30—邊卡定在對象物搬送裝置的固定器具 13上， 一邊被從對象物搬入口搬入到腔室1內(nèi)，如圖1所示，通過固定 器具13在腔室1內(nèi)垂下，從而能夠以所謂的懸空的狀態(tài)下設(shè)置在腔室1 內(nèi)的規(guī)定位置上。
接著，說明該電子射線照射裝置的作用和效果。
在該電子射線照射裝置中，首先，利用對象物搬送裝置，將飲料容 器30卡定在其固定器具13上并從對象物搬入口搬入到腔室1內(nèi)，設(shè)置 在腔室1內(nèi)的規(guī)定位置上后，關(guān)閉對象物搬入口。此時，在腔室1內(nèi)， 通過設(shè)置于腔室l (在該例中為外壁面)的多個永久磁鐵4，以包圍飲料 容器30的方式沿著腔室內(nèi)周壁18產(chǎn)生基于會切磁場的磁場屏障MF。然 后，通過固定器具13在腔室1內(nèi)使飲料容器30垂下，可以說成為懸空 狀態(tài)。
接著，利用真空排氣裝置11從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣， 使腔室1內(nèi)部成為負(fù)壓狀態(tài)(在該例中為0.05MPa 0.1Pa的低真空狀 態(tài))。另外，根據(jù)對象物的種類，有時具有電子射線EB撞擊殘留的氧分 子產(chǎn)生臭氧而引起臭味或腐蝕等的問題，但是，在這種情況下，根據(jù)需要，代替空氣從氣體封入口 6封入比重輕的氦氣。并且，該情況下，也 可以在常壓狀態(tài)下吹入氦氣。
接著，利用電子射線照射單元產(chǎn)生電子并加速，通過電子偏轉(zhuǎn)器IO， 使低能量的電子射線EB從電子射線照射窗5進(jìn)入到腔室1內(nèi)。
這里，圖2表示模擬了磁場屏障MF內(nèi)的電子的軌道的結(jié)果。另外， 該圖所示的模擬條件設(shè)定為，腔室l內(nèi)部的尺寸為直徑①200mm、高度 200mm，磁鐵使用寬8mm、高度40mm (帶磁軛部分約20mm)的釹磁 鐵。另外，其殘留磁通密度為13000高斯。而且，作為上述規(guī)定位置， 將該磁鐵的安裝間距(會切磁場的間距)設(shè)定為大約30mm。并且，腔室 1內(nèi)部的氛圍氣條件為O.OlMPa的低真空狀態(tài)，氛圍氣氣體為空氣。該 圖是計算了將能量為100kV的電子朝向根據(jù)該設(shè)定形成的磁場屏障MF 內(nèi)撞擊磁場最弱的地方時的軌跡的圖。
由該圖可知，在磁場屏障MF內(nèi)，電子進(jìn)行無序地反復(fù)撞擊基于在 空間中形成的會切磁場的磁場屏障或進(jìn)行復(fù)雜運動的隨機(jī)反射。因此， 根據(jù)該電子射線照射裝置，在基于在腔室1內(nèi)部的空間中形成的會切磁 場的磁場屏障MF內(nèi)，電子射線EB隨機(jī)反射，能夠均勻地對飲料容器 30照射電子射線EB。進(jìn)而，該磁場屏障MF形成為沿著腔室內(nèi)周壁18 而包圍飲料容器30。因此，電子射線EB不會沖撞腔室1內(nèi)的構(gòu)成部。 因此，能夠降低電子射線EB由于腔室內(nèi)周壁18等的能量損失。
并且，在該電子射線照射裝置中，通過電子偏轉(zhuǎn)器IO，使電子射線 EB從電子射線照射窗5以各種角度進(jìn)入到腔室l內(nèi)。因此，從電子射線 照射窗5射出的電子射線EB無序地進(jìn)入腔室1內(nèi)。因此，進(jìn)一步有效地 引起在腔室1內(nèi)的磁場屏障MF處的隨機(jī)反射，能夠沒有不均地、均勻 地對腔室1內(nèi)的飲料容器30照射電子射線EB。
進(jìn)而，在該電子射線照射裝置中，利用真空排氣裝置11從氣體吸引 口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣，如上述那樣，使腔室1內(nèi)成為負(fù)壓狀態(tài)(在 該例中為0.05MPa 0.1Pa的低真空狀態(tài))。因此，能夠處于電子射線EB 在腔室l內(nèi)更加容易運動的狀態(tài)(能量損失少的狀況)。因此，能夠進(jìn)一 步降低電子射線EB由于腔室1內(nèi)部的氣體的能量損失，所以電子射線EB的無序運動被進(jìn)一步加速，能夠更加高效地對腔室1內(nèi)的飲料容器30
照射電子射線EB。
并且，在該電子射線照射裝置中，代替空氣，而從氣體封入口 6向 腔室1內(nèi)封入比重輕的氦氣，或者，在常壓狀態(tài)下吹入氦氣，由此也同 樣能夠變成電子射線EB在腔室1內(nèi)更加容易運動的狀態(tài)(能量損失少的 狀況)。另外，對于具有因電子射線EB撞擊殘留的氧分子而產(chǎn)生的臭氧 引起臭味和腐蝕等問題的對象物，優(yōu)選采用上述這種用氦氣作為腔室1 內(nèi)的氛圍氣氣體的結(jié)構(gòu)。
接著，說明本發(fā)明第二實施方式涉及的電子射線照射裝置。 圖3是表示本發(fā)明第二實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。另外，對與上述第一實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注同一標(biāo)號，并適當(dāng) 省略其說明。
該第二實施方式與上述第一實施方式的結(jié)構(gòu)的不同點在于，通過構(gòu) 成為能夠改變在腔室1的底部安裝的會切磁場產(chǎn)生用的磁場產(chǎn)生體即永 久磁鐵的配置距離和方向，從而能夠使進(jìn)入腔室1內(nèi)的電子EB進(jìn)一步無 序地運動。
艮P，不同點在于，在該電子射線照射裝置中，作為上述磁場屏障形 成單元，如該圖所示，在腔室1的底部還具有轉(zhuǎn)臺14。該轉(zhuǎn)臺14固定在 支承軸15的上端側(cè)，支承軸15的基端側(cè)經(jīng)由未圖示的連接器連接到未 圖示的電動機(jī)的輸出軸上。并且，在支承軸15的基端側(cè)還具有能夠使支 承軸15在上下方向移動的未圖示的致動器。而且，在轉(zhuǎn)臺14的上表面 與上述磁場屏障形成單元同樣，以規(guī)定的配置安裝有永久磁鐵19，以產(chǎn) 生會切磁場。由此，轉(zhuǎn)臺14通過電動機(jī)繞支承軸15旋轉(zhuǎn)，并且通過致 動器調(diào)整其在上下方向上的高度，從而成為使腔室1內(nèi)的會切磁場MF2 的強(qiáng)度發(fā)生變化的結(jié)構(gòu)。
根據(jù)具有這種結(jié)構(gòu)的電子射線照射裝置，在飲料容器30進(jìn)入到了腔 室l內(nèi)的狀態(tài)下， 一邊使轉(zhuǎn)臺14旋轉(zhuǎn)一邊調(diào)整其在上下方向上的高度， 能夠改變會切磁場MF2的強(qiáng)度。因此，特別是從該圖中央的電子射線照 射窗5進(jìn)入腔室1內(nèi)的電子射線EB，與上述第一實施方式相比，以電子射線EB的反射距離和反射方向更隨機(jī)的方式進(jìn)行反射。因此，能夠更加 沒有不均地、均勻地對飲料容器30 (在該例中特別是底部)照射電子射
線EB。
接著，說明本發(fā)明第三實施方式涉及的電子射線照射裝置。
圖4是表示本發(fā)明第三實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。該圖(a)表示其正視圖，該圖(b)表示其俯視圖，分別利用剖 面來圖示電子射線的照射槽。另外，對與上述各實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo) 注同一標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
該第三實施方式在包圍電子射線照射區(qū)域的腔室內(nèi)具有上述第一實 施方式的磁場屏障形成單元，特別例示出適合于在間歇式生產(chǎn)線中對飲 料容器30照射電子射線的裝置結(jié)構(gòu)。
如該圖(a)和(b)所示，該電子射線照射裝置具有沿生產(chǎn)線的流 向延伸的箱形的腔室21。該腔室21與上述各實施方式同樣為耐壓結(jié)構(gòu)的 密封容器，在腔室21的壁面上設(shè)有氣體封入口 6、氣體吸引口7和空氣 導(dǎo)入口 50。氣體吸引口 7經(jīng)由配管和氣體排氣閥7A連接到真空排氣裝 置11上。并且，氣體封入口 6經(jīng)由配管和氣體吸氣閥6A連接到貯藏有 氦氣的貯氣瓶12上。并且，空氣導(dǎo)入口 50發(fā)揮漏氣口的功能，連接有 向大氣側(cè)敞開的配管，在該配管的中途設(shè)有空氣導(dǎo)入閥50A和過濾器51 。 由此，該電子射線照射裝置能夠在腔室21內(nèi)將飲料容器30周圍的氛圍 氣管理成規(guī)定狀態(tài)。即，在第三實施方式中，該腔室21對應(yīng)于上述照射 槽。
進(jìn)而，在該腔室21上部的大致中央，具有能夠向腔室21內(nèi)以寬面 積照射電子射線EB的電子射線照射單元3。并且，在腔室21底部的大 致中央，在與電子射線照射單元的電子射線照射窗20下方的電子射線照 射區(qū)域?qū)?yīng)的位置上，在生產(chǎn)線流向上配置有兩組包含與上述第二實施 方式相同的轉(zhuǎn)臺14和配置在其上表面的永久磁鐵19的磁場屏障形成單 元，并且，在腔室21內(nèi)配置有與上述第一實施方式相同的磁場屏障形成 單元。
詳細(xì)地講，如該圖(a)所示，腔室21內(nèi)的磁場屏障形成單元被配置成具有將上述第一實施方式中的腔室1朝著上下方向從中央分割為二 的結(jié)構(gòu)的磁鐵支承部件22，在流向上具有兩組該磁鐵支承部件22，且每
一組的磁鐵支承部件22彼此相對。而且，各磁鐵支承部件22的分割為 二的各開口部朝向飲料容器30的流向，分別配置成飲料容器30可出入 電子射線照射區(qū)域內(nèi)的程度的出入口。進(jìn)而，在這些出入口的周圍分別 配置有能夠產(chǎn)生會切磁場的永久磁鐵23，對于各出入口能夠產(chǎn)生通過將 會切磁場相互合成而形成的磁場屏障MF。由此，該電子射線照射裝置能 夠使飲料容器30通過電子射線照射區(qū)域內(nèi)，并且電子射線照射區(qū)域內(nèi)的 電子射線EB不會從電子射線照射區(qū)域內(nèi)部的磁場屏障MF內(nèi)射出到其外 部。另外，腔室21構(gòu)成為盡可能接近地包圍磁鐵支承部件22和飲料容 器30的附近。另外，該圖(a)中的標(biāo)號29是電子射線照射單元3等的 電源部。并且，在該圖(b)中，省略了腔室21內(nèi)的磁場屏障形成單元 本身的圖示，僅示出所形成的磁場屏障MF (和MF2)的圖像。
并且，在腔室21中，如該圖(a)和(b)所示，在飲料容器30的 生產(chǎn)線的流向的進(jìn)入側(cè)和出來側(cè)，分別設(shè)有對象物搬入口 21a和對象物 搬出口21b。而且，在各對象物搬入搬出口 21a、 21b分別設(shè)有能夠在期 望的時機(jī)開閉的遮蔽門27。
進(jìn)而，該電子射線照射裝置具有作為對象物搬送單元的對象物搬送 裝置28，其將飲料容器30從對象物搬入口 21a搬入到腔室21內(nèi)，并將 飲料容器30從對象物搬出口 21b搬出。該對象物搬送裝置28具有未圖 示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)和與上述同樣的固定器具13。由此，對象物搬送裝置28通 過使未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)工作，能夠一邊利用固定器具13卡定飲料容器30 的頭部部分一邊從對象物搬入搬出口 21a、 21b搬入搬出。此時，飲料容 器30如該圖(b)所示，與上述第四實施方式同樣，通過固定器具13在 腔室21內(nèi)下垂，從而能夠以所謂的懸空狀態(tài)設(shè)置在腔室21內(nèi)的規(guī)定位 置。另外，在對象物搬入搬出口 21a、 21b部分具有能夠使固定器具13 和飲料容器30退避到非干擾區(qū)域的未圖示的退避機(jī)構(gòu)，以使固定器具13 和飲料容器30相對于各遮蔽門27的開閉而不會與各遮蔽門27發(fā)生干擾。
并且，該對象物搬送裝置28還具有對象物旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)26，該對象物旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)26通過構(gòu)成對象物搬送裝置28的固定器具13的線的一部分，
使飲料容器30在腔室21內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
根據(jù)具有這種結(jié)構(gòu)的電子射線照射裝置，首先，在腔室21的對象物 搬入搬出口 21a、 21b的各遮蔽門27打開的狀態(tài)下，通過對象物搬送裝 置28，使卡定在固定器具13上的生產(chǎn)線上的各飲料容器30在流向上移 動規(guī)定量。接著，分別關(guān)閉對象物搬入搬出口 21a、 21b的各遮蔽門27。 然后，與上述實施方式同樣，使腔室21內(nèi)成為負(fù)壓狀態(tài)。另外，在對具 有因電子射線EB撞擊殘留的氧分子而產(chǎn)生的臭氧引起臭味和腐蝕等問 題的對象物照射電子射線EB的情況下，根據(jù)需要，代替空氣而封入比重 輕的氦氣。接著，從寬闊的電子射線照射窗20整面對腔室21內(nèi)的電子 射線照射區(qū)域照射電子射線EB。由此，對電子射線照射區(qū)域內(nèi)的飲料容 器30照射電子射線EB。此時，從電子射線照射窗20對電子射線照射區(qū) 域照射的電子射線EB，通過基于在腔室21內(nèi)的各磁鐵支承部件22內(nèi)側(cè) 形成的會切磁場的磁場屏障MF和底部的磁場屏障MF2，與上述各實施 方式同樣，電子射線EB在磁場屏障MF、 MF2內(nèi)隨機(jī)反射，使磁場屏障 MF、 MF2內(nèi)成為所謂的電子簇射狀態(tài)。因此，能夠沒有不均地、均勻地 對電子射線照射區(qū)域內(nèi)的各飲料容器30照射電子射線EB。接著，在照 射電子射線EB達(dá)規(guī)定時間后，使腔室21內(nèi)恢復(fù)到大氣壓，然后分別打 開腔室21的對象物搬入搬出口 21a、 21b的各遮蔽門27。
通過重復(fù)以上的工序，能夠使從腔室21的對象物搬入口 21a依次搬 入的生產(chǎn)線上的飲料容器30，通過由于磁場屏障MF、 MF2而成為電子 簇射狀態(tài)的電子射線照射區(qū)域內(nèi)，對各飲料容器30均勻地照射電子射線 EB后，從腔室21的對象物搬出口 21b依次搬出。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，通過對象物搬送裝置28的對象物 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)26使飲料容器30旋轉(zhuǎn)。由此，能夠進(jìn)一步高效地對飲料容器 30照射電子射線EB。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，以僅包圍飲料容器30附近的方式 構(gòu)成腔室21。由此，能夠使X射線遮蔽和將飲料容器30周圍的氛圍氣 管理成規(guī)定狀態(tài)的區(qū)域成為最小限度。
32并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，在腔室21中設(shè)置對象物搬入搬出
口21a、 21b,并且分別具有遮蔽門27。由此，能夠更加容易地使腔室21 內(nèi)成為低真空和特定氣體的氛圍氣等、將對象物周圍的氛圍氣保持為規(guī) 定狀態(tài)。
如以上說明的那樣，根據(jù)上述各實施方式的電子射線照射方法和電 子射線照射裝置，即使是低能量的電子射線EB，也能夠均勻地對作為對 象物的飲料容器30照射電子射線EB。
另外，本發(fā)明的電子射線照射方法和電子射線照射裝置不限于上述 各實施方式，只要不脫離本發(fā)明的主旨，就能夠進(jìn)行各種變形。
例如，在上述各實施方式中，作為對象物以飲料容器30為例進(jìn)行了 說明，但是不限于此，例如，也能夠應(yīng)用于作為對象物的食品、水、醫(yī) 藥品、中藥、化妝品、飼料、肥料等或它們所使用的包裝材料等。艮口， 根據(jù)對象物的種類和形狀，從復(fù)雜形狀的立體物到平面狀的薄膜都能夠 適當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明，例如，也能夠用于對組裝成牛奶飲料用等的紙容器之 前的紙制的薄片照射電子射線而對其進(jìn)行殺菌的用途等。而且，根據(jù)本 發(fā)明，在對上述這種薄片狀部件照射電子射線的情況下，能夠?qū)㈦娮由?線封閉在形成為包圍薄片狀部件的磁場屏障內(nèi)，并且使電子射線以各種 角度進(jìn)行反射，所以，通過來自與薄片狀部件的一側(cè)的面對置配置的電 子射線照射單元的電子射線，能夠同時且以與一側(cè)的面同等的照射量對 薄片狀部件的另 一側(cè)的面進(jìn)行照射。
并且，在上述各實施方式中，以對對象物進(jìn)行殺菌的用途為例進(jìn)行 了說明，但是不限于此，也能夠應(yīng)用于殺菌以外的用途。
并且，在上述各實施方式中，電子射線的照射槽以可將對象物周圍 的氛圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)的耐壓結(jié)構(gòu)的密封容器即腔室為例進(jìn)行了說 明，但是不限于此，電子射線的照射槽也可構(gòu)成為開放型。即使是這種 結(jié)構(gòu)，只要由所產(chǎn)生的磁場來形成磁場屏障以包圍對象物，使對對象物 照射的電子射線在該磁場屏障內(nèi)進(jìn)行反射，就能夠發(fā)揮本發(fā)明的電子射 線照射方法和電子射線照射裝置的作用和效果。但是，在進(jìn)一步降低電 子射線的能量損失方面，優(yōu)選上述實施方式那樣可將對象物周圍的氛圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)的照射槽(腔室)。
并且，在上述各實施方式中，以利用會切磁場形成磁場屏障為例進(jìn) 行了說明，但是不限于此，本發(fā)明的磁場屏障也可以通過其它磁場的合 成來形成。例如，也可以通過磁鏡場來形成磁場屏障。
并且，在上述各實施方式中，以磁場產(chǎn)生體由永久磁鐵構(gòu)成為例進(jìn) 行了說明，但是不限于此，磁場產(chǎn)生體例如也可以包含電磁鐵、圓形線 圈或永久磁鐵，利用它們的組合來構(gòu)成。
并且，在上述實施方式中，以通過使轉(zhuǎn)臺14旋轉(zhuǎn)能夠改變該產(chǎn)生的 磁場的方向為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，只要是能夠改變磁場屏障 內(nèi)的電子射線的反射方向的結(jié)構(gòu)，都能夠有效獲得電子反射方向的無序 性。例如，也可以通過適當(dāng)?shù)禺a(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場，來改變磁場屏障內(nèi)的電子 射線的反射方向。
并且，在上述各實施方式中，以根據(jù)對象物的種類而預(yù)先決定腔室 的外形形狀為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，腔室也可以具有根據(jù)對象 物的形狀來改變其內(nèi)部形狀的內(nèi)部形狀可變結(jié)構(gòu)。作為這種內(nèi)部形狀可 變結(jié)構(gòu)的例子，具有構(gòu)成外形的隔壁可滑動的組合結(jié)構(gòu)。如果是這種結(jié) 構(gòu)，則根據(jù)對象物的形狀，能夠適當(dāng)改變腔室的內(nèi)部形狀來應(yīng)對。因此， 能夠進(jìn)一步高效且均勻地對對象物照射電子射線。
并且，在上述實施方式中，作為腔室內(nèi)的氛圍氣管理的具體例，例 示了從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣來使腔室1內(nèi)部成為負(fù)壓狀
態(tài)(在該例中為0.05MPa 0.1Pa的低真空狀態(tài))的情況、以及對于具有 因電子射線EB撞擊殘留的氧分子而產(chǎn)生的臭氧引起臭味和腐蝕等問題 的對象物，根據(jù)需要，代替空氣而封入比重輕的氦氣12的情況，但是本 發(fā)明的腔室內(nèi)的氛圍氣管理的結(jié)構(gòu)不限于此。即，在使腔室1內(nèi)成為負(fù) 壓狀態(tài)的情況下，不限于上述這種例如0.05MPa 0.1Pa左右的低真空狀 態(tài)，也可以是更高真空度的高真空狀態(tài)，真空度越高，越能夠進(jìn)一步降 低電子的能量損失。并且，腔室內(nèi)的氛圍氣氣體可以是從空氣、氧、氮、 氫、二氧化碳、氬和氦中選擇的一種或多種氣體，也可以根據(jù)對象物的 種類和照射目的，適當(dāng)選擇腔室內(nèi)的氛圍氣氣體，能夠?qū)ο笪镏車姆諊鷼夤芾沓梢?guī)定狀態(tài)。另外，如果使用比重小的氦氣等氣體作為氛圍 氣氣體，則即使是常壓的氛圍氣，與氛圍氣氣體是空氣等比重更大的氣 體的情況相比，也能夠進(jìn)一步降低電子的能量損失。并且，即使是正壓 的氛圍氣，雖然依賴于其壓力水平，但通過使用比重小的氦氣等氣體作 為氛圍氣氣體，也能夠充分減少電子的能量損失。另外，在對具有因電 子射線撞擊殘留的氧分子而產(chǎn)生臭氧引起臭味和腐蝕等問題的對象物照 射電子射線的情況下，作為適合的惰性氛圍氣氣體，除了上述氦氣以外， 也能夠使用例如氮和氬等氣體，但是，考慮到能夠進(jìn)一步降低電子的能 量損失這點，特別優(yōu)選比重輕的氦氣。
并且，在上述實施方式中，以適合于在間歇式生產(chǎn)線中對飲料容器 30照射電子射線的裝置結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，例如在連 續(xù)式生產(chǎn)線中對對象物照射電子射線時，也能夠應(yīng)用本發(fā)明。
并且，在上述各實施方式中，當(dāng)然可以適當(dāng)選擇各個結(jié)構(gòu)相互進(jìn)行 組合。
下面，適當(dāng)參照附圖對本發(fā)明的第四實施方式進(jìn)行說明。另外，在 以下各實施方式中，示出在如下用途中應(yīng)用本發(fā)明的電子射線照射裝置 的例子，即，對作為對象物的清涼飲料用等的PET瓶(聚酯瓶)等形狀 復(fù)雜的中空的飲料容器30照射電子射線而對其進(jìn)行殺菌。
圖5是表示本發(fā)明第四實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)
構(gòu)圖。另外，在該圖中，利用包含照射槽軸線的剖面來示出成為電子射 線照射裝置的主體部分的大致圓筒形狀的電子射線的照射槽。
如該圖所示，該電子射線照射裝置具有電子射線EB的照射槽即腔 室1 。該腔室1是具有足夠在其內(nèi)部收納飲料容器30的大小的耐壓結(jié)構(gòu) 的密封容器，并形成為將其軸線作為上下方向的大致圓筒形狀。該腔室l 的材質(zhì)為鋼材或不銹鋼制，另外，其周圍被能夠遮蔽X射線的遮蔽材料 2包圍。
在腔室1的上部具備電子射線產(chǎn)生室3，該電子射線產(chǎn)生室3具有 向成為電子射線照射區(qū)域的腔室內(nèi)照射電子射線EB的電子射線照射單 元。該電子射線產(chǎn)生室3在多個位置(在該例中為5個)具有緊貼在腔室l的上部而設(shè)置的電子射線照射窗5，成為能夠從各電子射線照射窗5 對腔室1內(nèi)照射電子射線的結(jié)構(gòu)。
在腔室1的壁面(在該例中為內(nèi)壁面)，在規(guī)定位置上配置有以包圍 腔室1內(nèi)部的電子射線照射區(qū)域的周圍的方式形成為圓環(huán)狀的多個磁場 產(chǎn)生線圈71。這些多個磁場產(chǎn)生線圈71構(gòu)成上述磁場產(chǎn)生單元，能夠分
別通過從交流電源72通電，而在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生所產(chǎn)生的磁場
本身繞對象物旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁場，上述規(guī)定位置為如下位置以包圍腔室l
內(nèi)的飲料容器30的方式，沿著飲料容器30的軸線方向并列配置為3級。 這些多個磁場產(chǎn)生線圈71分別產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場。即，這些多個磁場產(chǎn)生線 圈71能夠沿著腔室內(nèi)周壁18以包圍飲料容器30的方式將3級相互的旋 轉(zhuǎn)磁場合成，來形成所謂的基于磁場的屏障。另外，各磁場產(chǎn)生線圈71 對應(yīng)于上述磁場產(chǎn)生體。而且，通過改變從交流電源72提供的交流電壓 的有效值、分別對磁場產(chǎn)生線圈71通電，從而能夠改變各個旋轉(zhuǎn)磁場的 強(qiáng)度。進(jìn)而，進(jìn)行控制以使得其通電時機(jī)沿3級的并列方向依次切換。 由此，通過沿著飲料容器30的軸線方向依次使電子射線EB偏轉(zhuǎn)，從而， 按照劃分為飲料容器30的上部、中央部、下部的各分區(qū)依次切換，能夠 沒有遺漏且無序地照射飲料容器30的所有部分。
而且，上述電子射線產(chǎn)生室3在內(nèi)部具有能夠向腔室1內(nèi)照射低能 量的電子射線的電子射線照射單元，其主體的輸出被設(shè)定為200kV以下。 另外，在各電子射線照射窗5和腔室1內(nèi)部之間，分別裝有環(huán)狀的電子 偏轉(zhuǎn)器(未圖示)，以使電子以各種角度向腔室l內(nèi)進(jìn)入。即，該電子偏 轉(zhuǎn)器成為能夠改變從電子射線照射窗5照射的電子射線的照射角度的照 射角度變更單元。
這里，該電子射線照射裝置在腔室1內(nèi)將飲料容器30周圍的氛圍氣 管理成規(guī)定的處理程序所需要的規(guī)定的負(fù)壓狀態(tài)。該負(fù)壓狀態(tài)為即使是 例如PET瓶等細(xì)長的容器，也能夠使電子充分到達(dá)其底部的壓力值。詳 細(xì)來講，電子射線產(chǎn)生室3和腔室1被電子射線照射窗5相互隔開，能 夠分別獨立地管理壓力。而且，電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)的壓力被降壓為高 真空，將該狀態(tài)作為第一負(fù)壓時，腔室1內(nèi)被降壓為絕對壓力比該第一負(fù)壓高的低真空，將該狀態(tài)作為第二負(fù)壓，來管理各自的壓力。
更具體而言，如該圖所示，在腔室1的壁面設(shè)有氣體封入口 6和氣
體吸引口7。氣體吸引口 7經(jīng)由配管連接到真空排氣裝置11上。另一方 面，氣體封入口 6通過汽缸閥41的動作控制，從連接到貯藏有規(guī)定氣體
的貯氣瓶等(未圖示)上的氣體封入口 24，經(jīng)由配管向腔室1內(nèi)提供凈
化空氣或氣體等，由此能夠控制腔室1內(nèi)的壓力。而且，該壓力控制值 能夠?qū)?yīng)于由電子的必要射程和照射處理過程等決定的條件來進(jìn)行適當(dāng)
的調(diào)整。另外，在該圖中，標(biāo)號25是漏氣口， 41是汽缸閥，42是手動 閥，43是可變流量闊，44是過濾器，45是真空計。
由此，在該電子射線照射裝置中，對腔室1內(nèi)進(jìn)行負(fù)壓控制，作為 上述規(guī)定狀態(tài)，利用真空排氣裝置11從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的 空氣或氣體，使腔室1內(nèi)成為低真空狀態(tài)(在該例中為0.05MPa 0.1Pa)， 并且，能夠代替空氣，而從氣體封入口 6向腔室1內(nèi)封入比重輕的氦氣。
另外，該電子射線照射裝置具有設(shè)于腔室1的壁面上的可開閉的未 圖示的對象物搬入口。而且，還具有作為對象物搬送單元的對象物搬送 裝置(未圖示)，該對象物搬送裝置將飲料容器30從該對象物搬入口搬 入到腔室1內(nèi)以及從腔室1內(nèi)搬出。對象物搬送裝置具有由線等線材構(gòu) 成的固定器具13。該固定器具13能夠一邊卡定飲料容器30的頭部部分 一邊進(jìn)行搬送。由此，飲料容器30—邊卡定在對象物搬送裝置的固定器 具13上， 一邊從對象物搬入口搬入到腔室1內(nèi)，如圖5所示，通過固定 器具13在腔室1內(nèi)下垂，從而能夠以所謂的懸空狀態(tài)設(shè)置在腔室1內(nèi)的 規(guī)定位置。
接著，說明該電子射線照射裝置的作用和效果。
在該電子射線照射裝置中，首先，利用對象物搬送裝置，將飲料容 器30卡定在其固定器具13上并從對象物搬入口搬入到腔室1內(nèi)，設(shè)置 在腔室1內(nèi)的規(guī)定位置上后，關(guān)閉對象物搬入口。此時，飲料容器30通 過固定器具13在腔室1內(nèi)下垂，成為所謂的懸空狀態(tài)。
接著，利用真空排氣裝置11從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣， 使腔室1內(nèi)成為低真空狀態(tài)(在該例中為0.05MPa 0.1Pa)。進(jìn)而，根據(jù)照射處理過程，能夠從氣體封入口6封入比重輕的氦氣。進(jìn)而，在腔室l 內(nèi)，通過沿著腔室1的壁面(在該例中為內(nèi)壁面)設(shè)置的多個磁場產(chǎn)生 線圈71，以包圍飲料容器30的方式沿著腔室內(nèi)周壁18產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場。
接著，在電子射線產(chǎn)生室3中產(chǎn)生電子并進(jìn)行加速，通過電子偏轉(zhuǎn) 器，使低能量的電子射線EB從電子射線照射窗5進(jìn)入腔室1內(nèi)。
由此，根據(jù)該電子射線照射裝置，利用真空排氣裝置ll從氣體吸引 口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣，使腔室1內(nèi)成為低真空狀態(tài)(在該例中為 0.05MPa 0.1Pa)，即，使飲料容器30周圍的氛圍氣成為負(fù)壓，所以， 能夠抑制所照射的電子射線EB沖撞氛圍氣氣體的情況，能夠變成使電子 射線EB在腔室1內(nèi)容易運動的狀態(tài)(能量損失少的狀況)。因此，能夠 進(jìn)一步降低電子射線EB由于腔室1內(nèi)部的氣體的能量損失，所以電子射 線EB的無序運動被進(jìn)一步加速。因此，能夠效率良好地對腔室1內(nèi)的飲 料容器30照射電子射線EB。
而且，在基于在腔室1內(nèi)部的空間中形成的多個磁場產(chǎn)生線圈71的 旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)，使電子射線EB進(jìn)行無序的隨機(jī)反射，能夠均勻地對飲料容 器30照射電子射線EB。進(jìn)而，該旋轉(zhuǎn)磁場形成為沿著腔室內(nèi)周壁18包 圍飲料容器30。因此，電子射線EB幾乎不沖撞腔室1內(nèi)的結(jié)構(gòu)部。因 此，能夠進(jìn)一步降低電子射線EB由于腔室內(nèi)周壁18等的能量損失。
并且，在該電子射線照射裝置中，通過電子偏轉(zhuǎn)器，使電子射線EB 從電子射線照射窗5以各種角度進(jìn)入腔室1內(nèi)。因此，從電子射線照射 窗5射出的電子射線EB更加無序地進(jìn)入腔室1內(nèi)。因此，進(jìn)一步有效地 引起在腔室1內(nèi)的旋轉(zhuǎn)磁場中的隨機(jī)反射，能夠沒有不均地、均勻地對 腔室l內(nèi)的飲料容器30照射電子射線EB。
并且，在該電子射線照射裝置中，代替空氣，通過從氣體封入口 6 向腔室1內(nèi)封入比重輕的氦氣，或者，在常壓狀態(tài)下吹入氦氣，從而也 同樣能夠變成使電子射線EB在腔室1內(nèi)更加容易運動的狀態(tài)(能量損失 少的狀況)。另外，對于具有因電子射線EB撞擊殘留的氧分子產(chǎn)生的臭 氧引起臭味和腐蝕等問題的對象物，優(yōu)選上述這種用氦氣作為腔室1內(nèi) 的氛圍氣氣體的結(jié)構(gòu)。并且，在該電子射線照射裝置中，多個磁場產(chǎn)生線圈71構(gòu)成為在包 圍飲料容器30的范圍內(nèi)產(chǎn)生多個旋轉(zhuǎn)磁場(在上述例中為3級)。由此，
多個旋轉(zhuǎn)磁場相互接合起來，形成為所謂的包圍飲料容器30整體的屏障，
由此，通過封入電子，能夠良好地抑制能量的消耗，能夠更加均勻地對
飲料容器30照射電子射線EB。
并且，在該電子射線照射裝置中，構(gòu)成為可針對多個磁場產(chǎn)生線圈 71的每一個，分別獨立地產(chǎn)生所述多個旋轉(zhuǎn)磁場。由此，能夠更有效地 獲得電子反射方向的無序性。因此，能夠更加高效地對飲料容器30照射 電子射線。而且，因為使獨立產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場相對于飲料容器30分段地 適當(dāng)移動到其上部、中央部、下部并照射電子射線，所以，能夠沒有遺 漏地對飲料容器30整體進(jìn)行照射。
并且，在該電子射線照射裝置中，通過分別改變針對該多個磁場產(chǎn) 生線圈71的每一個所產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的旋轉(zhuǎn)方向，能夠改變所述旋轉(zhuǎn)磁 場內(nèi)的電子射線EB的反射方向。由此，能夠更有效地獲得電子反射方向 的無序性。因此，能夠更加高效且均勻地對飲料容器30照射電子射線。
接著，說明本發(fā)明第五實施方式涉及的電子射線照射裝置。
圖6是表示本發(fā)明第五實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。該圖(a)表示其正視圖，該圖(b)表示其局部俯視圖，分別利 用剖面來圖示電子射線的照射槽。另外，對與上述第四實施方式相同的 結(jié)構(gòu)標(biāo)注同一標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
該第五實施方式相對于上述第四實施方式的不同點在于，磁場產(chǎn)生 體具有配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵；和磁場產(chǎn)生體旋轉(zhuǎn)單元，其使 該配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。
即，該第五實施方式是通過使所產(chǎn)生的磁場本身繞對象物旋轉(zhuǎn)來形 成與所述旋轉(zhuǎn)磁場對應(yīng)的磁場的例子，與上述第四實施方式的不同點在 于，利用該磁場產(chǎn)生體旋轉(zhuǎn)單元，使所述配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵 旋轉(zhuǎn)來產(chǎn)生與所述旋轉(zhuǎn)磁場對應(yīng)的磁場。進(jìn)而，在該第五實施方式中， 磁場產(chǎn)生單元還具有軸線方向移動單元，該軸線方向移動單元使磁場產(chǎn) 生體在該產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的軸線方向上移動。詳細(xì)來講，在腔室21的外周，在其徑向上對置的位置上配置有一對
永久磁鐵73。這一對永久磁鐵73構(gòu)成為使徑向的外側(cè)分別被磁軛74相 互連接，可抑制磁場泄漏。而且，這些永久磁鐵73和磁軛74放置并固 定在可繞腔室21的中心軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺70上。在旋轉(zhuǎn)臺70的外周面上 形成有與鏈輪齒(sprocket)同樣的齒。而且，該旋轉(zhuǎn)臺70的外周面經(jīng) 由同步帶75與帶輪76連接，帶輪76連接到電動機(jī)77的輸出軸上，所 以，通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電動機(jī)77，利用該驅(qū)動力使旋轉(zhuǎn)臺70繞腔室21的中 心軸旋轉(zhuǎn)。由此，旋轉(zhuǎn)臺70上的永久磁鐵73和磁軛74旋轉(zhuǎn)，能夠在腔 室21內(nèi)沿其壁面產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場。
進(jìn)而，產(chǎn)生該旋轉(zhuǎn)磁場的結(jié)構(gòu)整體如該圖所示，經(jīng)由滑動移動裝置 90支承在壁面上，該滑動移動裝置90具有配置成可沿腔室21的軸向移 動的線性引導(dǎo)件等。而且，在該圖的電動機(jī)77的下端側(cè)配置有具有可沿 腔室21的軸向移動的軸部的汽缸78。而且，電動機(jī)77的下端部分連接 到該汽缸78的軸部上。由此，通過往復(fù)驅(qū)動汽缸78，產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場的結(jié) 構(gòu)整體能夠沿腔室21的軸向移動。
進(jìn)而，不同點在于，在該電子射線照射裝置中，作為形成與所述旋 轉(zhuǎn)磁場對應(yīng)的磁場的單元，如該圖所示，在腔室21的底部還具有往復(fù)驅(qū) 動和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動用的機(jī)構(gòu)。
艮口，在本實施方式中，通過構(gòu)成為使飲料容器30也進(jìn)行旋轉(zhuǎn)并上下 移動，從而還具有一組實質(zhì)上可形成旋轉(zhuǎn)磁場的結(jié)構(gòu)。即，通過該結(jié)構(gòu)， 能夠形成在包圍對象物的磁場內(nèi)使該對象物旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行相對旋轉(zhuǎn)的磁 場。
詳細(xì)來講，如該圖所示，飲料容器30設(shè)置在用于放置該飲料容器 30的放置盤91上。該放置盤91成為所謂的轉(zhuǎn)臺。詳細(xì)來講，該放置盤 91的底部側(cè)連接到連接軸92的一端。而且，連接軸92的另一端側(cè)的中 途部分被具有氣密密封結(jié)構(gòu)的軸承93支承成可上下滑動移動，進(jìn)而，端 部側(cè)向下方延伸并伸出到腔室21的外部。而且，該伸出的端部經(jīng)由連接 器安裝在汽缸79的軸部上。另外，雖然在該圖中沒有圖示，但該連接軸 92與上述標(biāo)號75、 76、 77同樣，具有經(jīng)由同步帶連接到電動機(jī)的輸出軸上的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，構(gòu)成為可以繞該軸旋轉(zhuǎn)。
由此，通過往復(fù)驅(qū)動汽缸79，放置盤91在放置有飲料容器30的狀
態(tài)下向腔室21的軸向滑動移動，進(jìn)而，通過包含未圖示的電動機(jī)的旋轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)而繞連接軸92旋轉(zhuǎn)。因此，在腔室21內(nèi)，形成如下的旋轉(zhuǎn)磁場
在包圍對象物的磁場內(nèi)使該對象物旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行相對旋轉(zhuǎn)的磁場。即，根
據(jù)具有這種結(jié)構(gòu)的電子射線照射裝置，在飲料容器30置于腔室21內(nèi)的 狀態(tài)下， 一邊旋轉(zhuǎn)放置盤91 一邊調(diào)整上下方向上的高度，能夠形成旋轉(zhuǎn) 磁場。因此，特別是從該圖中央的電子射線照射窗5進(jìn)入到腔室21內(nèi)的 電子射線EB，與上述第一實施方式同樣，以電子射線EB的反射距離和 反射方向隨機(jī)的方式反射。因此，能夠沒有不均地、均勻地對飲料容器 30照射電子射線EB。
另外，即使在不使上述的永久磁鐵73和磁軛74移動的情況下，也 利用在飲料容器30的底部側(cè)安裝的往復(fù)驅(qū)動和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動用的機(jī)構(gòu)，使飲 料容器30在軸向上的位置上下移動，再通過旋轉(zhuǎn)改變周向上的朝向，由 此來形成相對旋轉(zhuǎn)的磁場，所以，實質(zhì)上能夠獲得與上述第四實施方式 的旋轉(zhuǎn)磁場相同的效果。因此，通過該旋轉(zhuǎn)磁場，能夠使進(jìn)入腔室21內(nèi) 的電子EB無序運動，能夠均勻地對飲料容器30照射電子射線EB。
而且，只要能夠?qū)嵸|(zhì)上形成本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)磁場，也能夠適當(dāng)組合上 述例示的結(jié)構(gòu)。例如，可以構(gòu)成為不使上述永久磁鐵73和磁軛74移動， 而使飲料容器30旋轉(zhuǎn)并上下移動，并且，也可以構(gòu)成為不使飲料容器30 移動，而使上述永久磁鐵73和磁軛74旋轉(zhuǎn)并上下移動?；蛘?，還可以 構(gòu)成為使永久磁鐵73和磁軛74上下移動，使飲料容器30旋轉(zhuǎn)，也可以 構(gòu)成為使永久磁鐵73和磁軛74旋轉(zhuǎn)，使飲料容器30上下移動。
另外，在將上述第五實施方式的結(jié)構(gòu)應(yīng)用于連續(xù)生產(chǎn)線的情況下， 可以根據(jù)照射處理過程，采用構(gòu)成為將各種永久磁鐵配置在搬送飲料容 器30等對象物的旁邊位置上，使對象物一邊旋轉(zhuǎn)一邊通過電子射線照射 區(qū)域等適當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)。
接著，說明本發(fā)明第六實施方式涉及的電子射線照射裝置。
圖7是用俯視圖表示本發(fā)明第六實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)構(gòu)圖，利用剖面來圖示電子射線的照射槽即腔室31。另外，對 與上述各實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注同一標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
該第六實施方式在包圍電子射線照射區(qū)域的腔室31內(nèi)具有磁場產(chǎn) 生單元，是特別適合于在間歇式生產(chǎn)線中對飲料容器30照射電子射線的 裝置結(jié)構(gòu)的例子。
如該圖所示，該電子射線照射裝置具有腔室31。該腔室31在生產(chǎn)
線的流向的中央部具有俯視圖為大致圓形的電子射線照射區(qū)域。而且， 在夾持該圓形部分的生產(chǎn)線的流向兩側(cè)，形成為具有內(nèi)部分別連通并延
伸的箱形的搬送路徑。該腔室31與上述各實施方式同樣，為耐壓結(jié)構(gòu)的 密封容器，在腔室31的壁面設(shè)有氣體封入口 6和氣體吸引口 7，并與上 述同樣地配管。即，氣體吸引口7經(jīng)由配管連接到真空排氣裝置11上。 并且，氣體封入口 6通過汽缸閥41的動作控制，從氣體封入口 24經(jīng)由 配管向腔室31內(nèi)提供凈化空氣或氣體等，由此能夠控制腔室31內(nèi)的壓 力。由此，該電子射線照射裝置能夠在腔室21內(nèi)將飲料容器30周圍的 氛圍氣管理成規(guī)定的負(fù)壓狀態(tài)。
進(jìn)而，在俯視圖呈圓形的該腔室31大致中央的上部，具有能夠以寬 面積對腔室31內(nèi)照射電子射線EB的電子射線產(chǎn)生室3。并且，在腔室 31大致中央的周圍，在與電子射線照射單元的電子射線照射窗下方的電 子射線照射區(qū)域?qū)?yīng)的位置上，設(shè)有磁場產(chǎn)生單元。另外，腔室31構(gòu)成 為盡可能包圍飲料容器30的附近。
這里，該磁場產(chǎn)生單元配置有多個電磁鐵83作為磁場產(chǎn)生體。詳細(xì) 來講，該電磁鐵83沿著呈圓形的腔室31的周圍，在周向上大致等間隔 地配置在6處。
而且，配置在6處的各電磁鐵83的相鄰的鐵芯之間被連接部件94 相互連接，并且，各電磁鐵83的磁場產(chǎn)生線圈71分別被可勵磁地連接 在三相變換器81上。另外，在圖7中，上述連接部件94僅圖示了在該 圖中深處側(cè)3處的電磁鐵83的部分，上述磁場產(chǎn)生線圈71和三相變換 器81的連接僅圖示了在該圖中近前側(cè)3處的電磁鐵83的磁場產(chǎn)生線圈 71。并且，在該圖中標(biāo)號82是電容器，標(biāo)號80是轉(zhuǎn)換器。通過這種結(jié)構(gòu)，該磁場產(chǎn)生單元能夠通過利用三相變換器81對6處的電磁鐵83進(jìn) 行勵磁，來產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場。因此，通過在電子射線照射區(qū)域的周圍形成
包圍飲料容器30的磁場，來形成所謂的基于高速旋轉(zhuǎn)的磁場的屏障，能
夠形成與上述旋轉(zhuǎn)磁場對應(yīng)的磁場。
而且，在該例中，能夠通過利用三相變換器81來改變輸出電流(或
輸出電壓)的有效值來改變磁場的強(qiáng)度，并且，能夠通過改變輸出頻率
來改變磁場的轉(zhuǎn)速。另外，作為上述磁場產(chǎn)生線圈71和三相變換器81 的連接結(jié)構(gòu)，例如，能夠釆用如下結(jié)構(gòu)在6處的各電磁鐵83的磁場產(chǎn) 生線圈71中的、位于隔著腔室31的圓形部分而對置的位置上的3對磁 場產(chǎn)生線圈71的每一個上，連接三相變換器81的輸出的各個相。并且， 在該例中，作為磁場產(chǎn)生體的磁極結(jié)構(gòu)，示出了沿著室31的圓形部分的 周圍在6處配置電磁鐵83而構(gòu)成的6極結(jié)構(gòu)，但是磁極結(jié)構(gòu)不限于6極 結(jié)構(gòu)。并且，在該例中，示出了利用三相交流來對磁場產(chǎn)生體的電磁鐵 進(jìn)行勵磁的結(jié)構(gòu)，但是勵磁用交流電源的結(jié)構(gòu)不限于三相交流，也可以 使用三相以上的多相交流。
進(jìn)而，該電子射線照射裝置具有作為對象物搬送單元的對象物搬送 裝置28，其從對象物搬入口 (該圖右側(cè)的遮蔽門27)將飲料容器30搬 入腔室31內(nèi)，并從對象物搬出口 (該圖左側(cè)的遮蔽門27)將飲料容器 30搬出。該對象物搬送裝置28具有未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)和與上述同樣的固 定器具13。由此，對象物搬送裝置28通過使未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)工作，能 夠一邊利用固定器具13卡定飲料容器30的頭部部分， 一邊從成為對象 物搬入搬出口的左右遮蔽門27搬入搬出。此時，飲料容器30與上述第 一實施方式同樣，通過固定器具13在腔室31內(nèi)下垂，從而能夠以所謂 的懸空狀態(tài)設(shè)置在腔室31內(nèi)的規(guī)定位置上。另外，在對象物搬入搬出口 部分具有能夠使固定器具13和飲料容器30退避到非干擾區(qū)域的未圖示 的退避機(jī)構(gòu)，以使固定器具13和飲料容器30相對于各遮蔽門27的開閉 而不與門發(fā)生干擾。
根據(jù)具有這種結(jié)構(gòu)的電子射線照射裝置，首先，在腔室31的對象物 搬入搬出口的各遮蔽門27打開的狀態(tài)下，通過對象物搬送裝置28，使卡定在固定器具13上的生產(chǎn)線上的各飲料容器30在流向上移動規(guī)定量。 接著，分別關(guān)閉對象物搬入搬出口的各遮蔽門27。然后，與上述各實施
方式同樣，使腔室31內(nèi)成為低真空狀態(tài)。另外，在對具有因電子射線EB
撞擊殘留的氧分子產(chǎn)生的臭氧而引起臭味和腐蝕等問題的對象物照射電
子射線EB的情況下，根據(jù)需要，代替空氣而封入比重輕的氦氣。接著， 從電子射線照射窗對腔室31內(nèi)的電子射線照射區(qū)域照射電子射線EB。 由此，對電子射線照射區(qū)域內(nèi)的飲料容器30照射電子射線EB。此時， 從電子射線照射窗對電子射線照射區(qū)域照射的電子射線EB，通過基于由 腔室31內(nèi)的各電磁鐵83形成的磁場的旋轉(zhuǎn)磁場，與上述各實施方式同 樣，電子射線EB在旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)隨機(jī)反射，使旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)成為所謂的電子 簇射狀態(tài)。因此，能夠沒有不均地、均勻地對電子射線照射區(qū)域內(nèi)的各 飲料容器30照射電子射線EB。接著，在照射電子射線EB達(dá)規(guī)定時間后， 使腔室31內(nèi)恢復(fù)到大氣壓，然后分別打幵腔室31的對象物搬入搬出口 的各遮蔽門27。
通過重復(fù)以上的工序，能夠使從腔室31的對象物搬入口依次搬入的 生產(chǎn)線上的飲料容器30，通過由于旋轉(zhuǎn)磁場而成為電子簇射狀態(tài)的電子 射線照射區(qū)域內(nèi)，對各飲料容器30均勻地照射電子射線EB后，從腔室 31的對象物搬出口依次搬出。
特別地，該電子射線照射裝置如該圖所示，將電子射線照射區(qū)域周 圍的多個電磁鐵83進(jìn)行所謂的上下二分割，配置成飲料容器30可在上 下部分之間通過，并且能夠形成包圍飲料容器30的磁場。因此，在間歇 式或連續(xù)搬送飲料容器30的生產(chǎn)線中形成旋轉(zhuǎn)磁場的情況下，該第六實 施方式是優(yōu)選的。
艮P，腔室31周圍的磁場產(chǎn)生單元配置成從腔室中央分割為二，并具 有在流向兩側(cè)使磁場產(chǎn)生單元彼此相對的結(jié)構(gòu)。而且，每個分割為二的 電磁鐵83的分割為二的各開口部朝向飲料容器30的流程方向，分別配 置成飲料容器30可出入電子射線照射區(qū)域內(nèi)的程度的出入口。由此，該 電子射線照射裝置能夠使飲料容器30通過電子射線照射區(qū)域內(nèi)，并且電 子射線照射區(qū)域內(nèi)的電子射線EB幾乎不會從電子射線照射區(qū)域內(nèi)部的
44旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)射出到其外部。
并且，在腔室31中，如該圖所示，在飲料容器30的生產(chǎn)線的流向 的進(jìn)入側(cè)和出來側(cè)，分別設(shè)有能夠在期望的時機(jī)開閉的遮蔽門27。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，以僅包圍飲料容器30附近的方式 構(gòu)成腔室31。由此，能夠使X射線遮蔽和將飲料容器30周圍的氛圍氣 管理成規(guī)定狀態(tài)的區(qū)域為最小限度的區(qū)域。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，在腔室31設(shè)置有對象物搬入搬出 口，并且分別具有遮蔽門27。由此，能夠更加容易地使腔室31內(nèi)成為低 真空或特定氣體的氛圍氣等、將對象物周圍的氛圍氣保持為規(guī)定狀態(tài)。
接著，關(guān)于構(gòu)成間歇式或連續(xù)搬送飲料容器30的生產(chǎn)線的另一例 子，以本發(fā)明第七實施方式涉及的電子射線照射裝置為例進(jìn)行說明。
圖8是表示該第七實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié)構(gòu) 圖，圖8 (a)是表示從俯視方向觀察該電子射線照射裝置的上半部分的 圖，圖8 (b)是對象物的進(jìn)給方向的展開圖，并且，圖8 (c)是放大表 示使旋轉(zhuǎn)磁場產(chǎn)生部和使對象物上下移動的凸輪機(jī)構(gòu)部分的圖。另外， 對與上述說明的實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注同一標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
如該圖所示，該處理槽60的成為電子射線照射區(qū)域的內(nèi)部空間形成 為圓環(huán)狀，在該電子射線照射區(qū)域內(nèi)，沿著呈圓環(huán)狀的形狀，設(shè)置有多 個磁場產(chǎn)生線圈71和對象物承受臺84形成為一體的搬送機(jī)構(gòu)100。
在圓環(huán)狀的處理槽60的中心部分設(shè)有未圖示的旋轉(zhuǎn)裝置。該旋轉(zhuǎn)裝 置具有與上述實施方式的轉(zhuǎn)臺同樣的結(jié)構(gòu)，能夠以規(guī)定的角速度繞處理
槽60的中心軸旋轉(zhuǎn)。而且，在該旋轉(zhuǎn)裝置的周圍，在周向上大致等間隔 地設(shè)有上述多個搬送機(jī)構(gòu)100。進(jìn)而，各搬送機(jī)構(gòu)100通過支承臂95分 別將磁場產(chǎn)生線圈71和對象物承受臺84連接到旋轉(zhuǎn)裝置的外周面。這 里，該連接部分經(jīng)由可在上下方向上滑動移動的滑動引導(dǎo)裝置而連接。 由此，約束了周向上的移動且可在上下方向上移動。而且，上述多個搬 送機(jī)構(gòu)100整體沿著上述圓環(huán)狀的處理槽60旋轉(zhuǎn)。
進(jìn)而，如該圖(b)的展開圖所示，磁場產(chǎn)生線圈71和對象物承受 臺84分別連接到凸輪機(jī)構(gòu)86上，在電子射線照射區(qū)域內(nèi)分別獨立地上升和下降，使對象物即飲料容器30整體沿著容器的長度方向在容器整體 的范圍內(nèi)移動。詳細(xì)來講，在各個搬送機(jī)構(gòu)100的底部，分別對應(yīng)于磁
場產(chǎn)生線圈71和對象物承受臺84，具有用于沿著凸輪面96、 97移動的 凸輪從動件98、 99，各個凸輪從動件98、 99經(jīng)由連接桿分別連接到磁場 產(chǎn)生線圈71和對象物承受臺84上。而且，各個搬送機(jī)構(gòu)100的凸輪從 動件98、 99通過沿著在其下部設(shè)置的凸輪機(jī)構(gòu)86的凸輪面96、 97移動， 從而能夠在上下方向上移動規(guī)定的揚程。另外，凸輪面96是磁場產(chǎn)生線 圈用的凸輪面，凸輪面97是對象物承受臺用的凸輪面。
根據(jù)具有上述結(jié)構(gòu)的該第七實施方式，適合于在間歇式或連續(xù)搬送 飲料容器30的生產(chǎn)線中形成旋轉(zhuǎn)磁場的情況。
這里，在該圖中，示出了磁場產(chǎn)生線圈71和飲料容器30均在上下 方向上移動的結(jié)構(gòu)例，但是也可以構(gòu)成為使任一方上下移動。并且，在 該圖中，作為磁場產(chǎn)生部，以采用磁場產(chǎn)生線圈71為例進(jìn)行了說明，但 是也可以由永久磁鐵來構(gòu)成磁場產(chǎn)生部。這些可以根據(jù)電子射線的照射 處理過程來適當(dāng)選擇。并且，也可以構(gòu)成為在上述對象物承受臺84的上 表面設(shè)置用于保持飲料容器30的吸附墊或氣壓夾具(airclamp)等。
如以上說明的那樣，根據(jù)上述第四到第七實施方式的電子射線照射 方法和電子射線照射裝置，即使是低能量的電子射線EB，也能夠均勻地 對作為對象物的飲料容器30照射電子射線EB。
另外，本發(fā)明的電子射線照射方法和電子射線照射裝置不限于上述 第四到第七實施方式，只要不脫離本發(fā)明的主旨，就能夠進(jìn)行各種變形。
例如，在上述第四到第七實施方式中，作為對象物以飲料容器30為 例進(jìn)行了說明，但是不限于此，例如，也能夠應(yīng)用于作為對象物的食品、 水、醫(yī)藥品、中藥、化妝品、飼料、肥料等或它們所使用的包裝材料等。 即，根據(jù)對象物的種類和形狀，從復(fù)雜形狀的立體物到平面狀的薄膜都 能夠適當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明，例如，也能夠用于對組裝成牛奶飲料用等的紙容 器之前的紙制的薄片照射電子射線而對其進(jìn)行殺菌的用途等。而且，根 據(jù)本發(fā)明，在對上述這種薄片狀部件照射電子射線的情況下，使薄片狀 部件通過旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)，從而通過在旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)產(chǎn)生的電子簇射，能夠均勻且高效地對薄片兩面和端部照射電子射線。
并且，在上述第四到第七實施方式中，以對對象物進(jìn)行殺菌的用途 為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，也能夠應(yīng)用于殺菌以外的用途。
并且，在上述第四到第七實施方式中，對于電子射線的照射槽，以 可將對象物周圍的氛圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)的耐壓結(jié)構(gòu)的密封容器即腔室 為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，電子射線的照射槽也可構(gòu)成為開放型。 但是，在進(jìn)一步降低電子射線的能量損失方面，優(yōu)選上述實施方式那樣 可將對象物周圍的氛圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)的照射槽(腔室)，并使該處理 槽內(nèi)為負(fù)壓，并且，由以包圍對象物的方式產(chǎn)生的磁場來形成旋轉(zhuǎn)磁場， 使對對象物照射的電子射線在該旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)反射。
并且，在上述第四到第七實施方式中，以磁場產(chǎn)生體由永久磁鐵、 電磁鐵和圓形線圈構(gòu)成為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，磁場產(chǎn)生體例 如也可以包含電磁鐵、圓形線圈或永久磁鐵，利用它們的組合來構(gòu)成。
并且，在上述第四到第七實施方式中，以根據(jù)對象物的種類而預(yù)先 決定腔室的外形形狀為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，也可以構(gòu)成為具 有根據(jù)對象物的形狀來改變其內(nèi)部形狀的內(nèi)部形狀可變結(jié)構(gòu)。作為這種 內(nèi)部形狀可變結(jié)構(gòu)的例子，具有構(gòu)成外形的隔壁可滑動的組合結(jié)構(gòu)。如 果是這種結(jié)構(gòu)，則根據(jù)對象物的形狀，能夠?qū)?yīng)地適當(dāng)改變腔室的內(nèi)部 形狀。因此，能夠進(jìn)一步高效且均勻地對對象物照射電子射線。
并且，在上述第四到第七實施方式中，作為腔室內(nèi)的氛圍氣管理的 具體例，以從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣來使腔室1內(nèi)成為負(fù)
壓狀態(tài)(在該例中為0.05MPa 0.1Pa)的情況、以及對于具有因電子射 線EB撞擊殘留的氧分子產(chǎn)生的臭氧而引起臭味和腐蝕等問題的對象物， 根據(jù)需要，代替空氣而封入比重輕的氦氣的情況為例進(jìn)行了說明，但是 本發(fā)明的腔室內(nèi)的氛圍氣管理的結(jié)構(gòu)不限于此。即，在使腔室1內(nèi)成為 負(fù)壓狀態(tài)的情況下，不限于上述這種例如0.05MPa 0.1Pa左右的低真空 狀態(tài)，也可以是更高真空度的高真空狀態(tài)，真空度越高，越能夠進(jìn)一步 降低電子的能量損失。并且，腔室內(nèi)的氛圍氣可以是從空氣、氧、氮、 氫、二氧化碳、氬和氦中選擇的一種或多種氣體，也可以根據(jù)對象物的種類和照射目的，適當(dāng)選擇腔室內(nèi)的氛圍氣氣體，能夠?qū)ο笪镏車?氛圍氣管理成規(guī)定狀態(tài)。另外，在要降低常壓的氛圍氣時的能量損失的 情況下，與空氣等比重更大的氣體的情況相比，使用比重小的氦氣等也 更適合。另外，如果使用比重小的氦氣等氣體作為氛圍氣氣體，則即使 是常壓的氛圍氣，與氛圍氣氣體是空氣等比重更大的氣體的情況相比， 也能夠進(jìn)一步降低電子的能量損失。并且，即使是正壓的氛圍氣，雖然 依賴于其壓力水平，但通過使用比重小的氦氣等氣體作為氛圍氣氣體， 也能夠充分減少電子的能量損失。
并且，在上述實施方式中，以適合于在間歇式生產(chǎn)線中對飲料容器 30照射電子射線的裝置結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，例如在連 續(xù)式生產(chǎn)線中對對象物照射電子射線時，也能夠應(yīng)用本發(fā)明。
并且，在上述各實施方式中，當(dāng)然可以適當(dāng)選擇各個結(jié)構(gòu)相互進(jìn)行 組合。
接著，適當(dāng)參照附圖對本發(fā)明第八實施方式進(jìn)行說明。 圖9是表示本發(fā)明第八實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖。另外，在該圖中，利用包含照射槽的軸線的剖面來示出成為電子 射線照射裝置的主體部分的大致圓筒形狀的電子射線照射槽。
如該圖所示，該電子射線照射裝置具有電子射線EB的照射槽即腔
室1。該腔室1是具有足夠在其內(nèi)部收納被照射電子射線EB的未圖示的 對象物(例如后述的例子中的飲料容器30)的大小的耐壓結(jié)構(gòu)的密封容 器，呈現(xiàn)將軸線作為上下方向的四方筒形狀，并構(gòu)成為可維持其內(nèi)部的 壓力。腔室1的材質(zhì)為鋼材或不銹鋼制，另外，其周圍由能夠遮蔽X射 線的遮蔽材料2包圍。在腔室1的壁面上具有設(shè)置成可開閉的未圖示的 對象物搬入口，可以將對象物從該對象物搬入口搬入到腔室1內(nèi)以及從 腔室1內(nèi)搬出。
在腔室1的上部具備中空半球狀的耐壓結(jié)構(gòu)的密封容器即電子射線 產(chǎn)生室3。該電子射線產(chǎn)生室3的中空半球狀的下表面部經(jīng)由電子射線照 射窗5緊貼在上述腔室1的上部來設(shè)置，構(gòu)成為可獨立于上述腔室1來 維持其內(nèi)部的壓力。而且，該電子射線產(chǎn)生室3在內(nèi)部具有向成為電子射線照射區(qū)域的腔室內(nèi)照射電子射線的作為電子射線照射單元的電子射
線單元3a。該電子射線單元3a能夠照射低能量的電子射線EB，其主體 中的輸出被設(shè)定為200kV以下。由此，電子射線單元3a構(gòu)成為能夠通過 電子射線照射窗5對腔室1內(nèi)照射低能量的電子射線EB。
這里，該電子射線照射裝置分別在腔室1和電子射線產(chǎn)生室3附加 設(shè)置有內(nèi)部壓力控制用的配管和壓力控制設(shè)備。
詳細(xì)來講，在腔室1的壁面設(shè)有氣體封入口 6和氣體吸引口 7。氣 體吸引口 7經(jīng)由手動閥42、汽缸閥41C和配管連接到真空排氣裝置11 上。另外，真空排氣裝置11使用干式真空泵(drypump)。另一方面，氣 體封入口 6經(jīng)由可變流量閥43和汽缸閥41連接到凈化空氣產(chǎn)生裝置54 上。在該凈化空氣產(chǎn)生裝置54上安裝有HEPA過濾器52和生物濾池53， 在這些HEPA過濾器52和生物濾池53的流向上游側(cè)裝備有風(fēng)扇51a。該 風(fēng)扇51a取入來自該圖上方的外部氣體和凈化空氣產(chǎn)生裝置54的內(nèi)部氣 體后，向下方送風(fēng)，構(gòu)成可為經(jīng)由HEPA過濾器52和生物濾池53向腔 室1內(nèi)提供凈化空氣。由此，所提供的凈化空氣作為無塵或無菌狀態(tài)的 泄漏氣體，被提供給腔室l內(nèi)。并且，凈化空氣產(chǎn)生裝置54側(cè)的配管和 真空排氣裝置11側(cè)的配管經(jīng)由汽缸閥41B相互連接。
進(jìn)而，在上述電子射線產(chǎn)生室3中也附加設(shè)置有壓力控制用的配管 和壓力控制設(shè)備。即，附加設(shè)置有與上述腔室l中的配管等相同結(jié)構(gòu)的、 以下未圖示的氣體吸引口，該氣體吸引口經(jīng)由配管連接到電子射線產(chǎn)生 室3用的真空排氣裝置上。而且，使電子射線單元3a周圍的氛圍氣成為 被管理成規(guī)定的第一負(fù)壓的氛圍氣。具體而言，通過該電子射線產(chǎn)生室3 用的真空排氣裝置從氣體吸引口吸引電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)部的空氣或氣 體，使電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)成為第一負(fù)壓即10—3Pa以下的高真空狀態(tài)。
但是，對腔室1內(nèi)照射電子射線EB時，腔室1內(nèi)存在的氧等通過 自由基反應(yīng)或氧等離子化而消耗，所以，在負(fù)壓的環(huán)境下，氧容易耗盡。 因此，可能對照射處理造成影響。所以，為了緩解該影響，在該電子射 線照射裝置中具備控制盤(未圖示)，該控制盤具有分別控制上述可變流 量閥43和汽缸閥41A 41C的壓力管理單元，通過該控制盤進(jìn)行的壓力管理處理，提供消耗部分的氧，并將腔室1內(nèi)的壓力控制成設(shè)定成規(guī)定 的第二負(fù)壓的一定范圍內(nèi)。并且，在該壓力管理處理中，通過改變所述 第二負(fù)壓的高度來改變電子的發(fā)散程度。由此，能夠獲得腔室1內(nèi)的電 子射程方向的無序性。并且，控制盤進(jìn)行的壓力管理處理同時管理電子 射線產(chǎn)生室3內(nèi)的第一負(fù)壓。
這里，該控制盤進(jìn)行的將電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)管理成規(guī)定的第一負(fù) 壓，并且將腔室1內(nèi)管理成絕對壓力比所述第一負(fù)壓高的第二負(fù)壓的壓 力管理處理對應(yīng)于上述壓力管理單元。
詳細(xì)來講，作為該控制盤的控制功能，該控制盤根據(jù)規(guī)定的控制信 號，控制各部的電源的接通/斷開、汽缸閥的打開/關(guān)閉、可變流量閥的流 量調(diào)整、真空排氣裝置11的電源的接通/斷開等，構(gòu)成為可執(zhí)行上述壓力 管理處理。而且，該控制盤構(gòu)成為具有以下各部，該各部都沒有圖示 根據(jù)規(guī)定的控制程序，控制運算和該電子射線照射裝置的系統(tǒng)整體的 CPU;預(yù)先在規(guī)定區(qū)域中存儲CPU的控制程序等的ROM;用于存儲從
ROM等讀出的數(shù)據(jù)、和CPU的運算過程中需要的運算結(jié)果的RAM;以
及對包含電子射線照射裝置的操作面板等在內(nèi)的外部裝置作為數(shù)據(jù)的輸
入輸出的媒介的I/F (接口)。它們通過傳輸數(shù)據(jù)用的信號線即總線，相
互連接成可進(jìn)行數(shù)據(jù)收發(fā)。而且，能夠從該操作面板輸入上述壓力管理 處理的執(zhí)行指令、和與規(guī)定的負(fù)壓的氛圍氣對應(yīng)的必要的設(shè)定值。另外， 作為具體的例子，上述控制盤優(yōu)選使用可編程序控制器等。
由此，該電子射線照射裝置能夠通過控制盤進(jìn)行的壓力管理處理， 在腔室1內(nèi)，將對象物(例如飲料容器)周圍的氛圍氣管理成規(guī)定的狀 態(tài)。在該電子射線照射裝置中，作為規(guī)定狀態(tài)，被管理成通過真空排氣
裝置11從氣體吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣或氣體，將腔室1內(nèi)維持 絕對壓力比上述第一負(fù)壓即10'3Pa以下的高真空狀態(tài)高的第二負(fù)壓。具 體而言，將腔室1內(nèi)管理成超過10—3Pa且在O.lMPa以下的范圍的低真空
狀態(tài)。另外，被控制的壓力控制值能夠與由電子的必要射程和照射處理 過程等決定的條件對應(yīng)起來。
接著，說明該電子射線照射裝置的作用和效果。
50在該電子射線照射裝置中，首先，將對象物(例如飲料容器)從對 象物搬入口搬入腔室1內(nèi)，設(shè)置在腔室1內(nèi)的規(guī)定位置上后，關(guān)閉對象 物搬入口。
接著，通過控制盤執(zhí)行壓力管理處理，利用真空排氣裝置ll從氣體 吸引口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣，將腔室1內(nèi)管理成所述第二負(fù)壓，即
超過10—3Pa且在O.lMPa以下的范圍的低真空狀態(tài)。
接著，利用電子射線照射單元產(chǎn)生電子并進(jìn)行加速，使低能量的電 子射線EB從電子射線照射窗5進(jìn)入腔室1內(nèi)。此時，通過控制盤進(jìn)行的 壓力管理處理，電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)成為第一負(fù)壓即l(T3Pa以下的高真 空狀態(tài)。因此，電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)的電子射線EB幾乎沒有能量損失。
這里，在該電子射線照射裝置中，利用真空排氣裝置ll從氣體吸引 口 7吸引腔室1內(nèi)部的空氣，管理成超過10'3Pa且在O.lMPa以下的范圍 的低真空狀態(tài)，維持絕對壓力比上述第一負(fù)壓高的第二負(fù)壓，因此，因 為氣體的存在量少，所以能夠成為使電子射線EB在腔室1內(nèi)容易運動的 狀態(tài)(能量損失少的狀況)。因此，能夠降低電子射線EB由于腔室l內(nèi) 部的氣體的能量損失。因此，即使是低能量的電子射線，也能夠抑制電 子射線的能量消耗，效率良好地照射電子射線EB。并且，在該情況下， 雖然沒有圖示，但是通過在腔室l的內(nèi)表面或外表面設(shè)置電子偏轉(zhuǎn)單元， 能夠更高效地進(jìn)行照射。
進(jìn)而，在該電子射線照射裝置中，利用控制盤進(jìn)行的壓力管理處理， 改變所述第二負(fù)壓的高度來使空氣密度發(fā)生變化而改變電子的發(fā)散程 度，所以，能夠獲得電子射程方向的無序性。因此，能夠均勻地對對象 物照射電子射線，能夠更高效地進(jìn)行電子射線的照射。
另外，在上述壓力管理處理的結(jié)構(gòu)不限于此，通過基于對象物的形 狀等的照射條件，使腔室1內(nèi)部的氛圍氣壓力變化為與各照射條件對應(yīng) 的設(shè)定壓力值，在照射中使氛圍氣壓力恒定的結(jié)構(gòu)，也可以構(gòu)成為在照 射中有意地改變氛圍氣壓力。
并且，作為上述的在照射中改變腔室1內(nèi)部的氛圍氣壓力、即改變 第二負(fù)壓的高度的壓力管理處理的具體結(jié)構(gòu)例，例如，在對一個對象物的電子射線照射工序中，首先，利用真空排氣裝置11從氣體吸引口 7吸
引腔室1內(nèi)部的空氣，在維持超過10—3Pa且在O.lMPa以下的范圍的第二 負(fù)壓的恒定的低真空狀態(tài)的狀態(tài)下，開始對對象物照射電子射線EB，然 后馬上對經(jīng)由可變流量閥43連接到氣體封印口 6上的汽缸閥41A，按照 關(guān)閉、打開、關(guān)閉的順序進(jìn)行操作，向腔室1內(nèi)部提供來自凈化空氣產(chǎn) 生裝置54的凈化空氣，由此，瞬間、例如1秒以下的極短的時間內(nèi)在腔 室1內(nèi)部封入凈化空氣，使腔室1內(nèi)的氛圍氣壓力變化為絕對壓力比剛 才的第二負(fù)壓高的負(fù)壓狀態(tài)，如果進(jìn)行以上這種氛圍氣切換控制，則在 即將進(jìn)行該氛圍氣切換之前到達(dá)腔室1內(nèi)部的遠(yuǎn)離電子射線照射窗5的 下部區(qū)域中的電子射線EB，在氛圍氣切換后，瞬間被絕對壓力比切換前 的第二負(fù)壓高的負(fù)壓狀態(tài)的凈化空氣氛圍氣包圍，即使是腔室1內(nèi)部的 下部區(qū)域，也劇烈地產(chǎn)生電子射線EB與大量存在的氛圍氣氣體分子的沖 撞，所以，雖然是短時間，但在腔室1內(nèi)部的下部區(qū)域，也能夠形成足 夠量的電子簇射，能夠均勻地對對象物進(jìn)行照射。
另一方面，在對一個對象物的電子射線照射工序的整個行程中，在 將腔室1內(nèi)部例如維持成接近常壓的負(fù)壓狀態(tài)的凈化空氣氛圍氣的狀態(tài) 下進(jìn)行電子射線照射的結(jié)構(gòu)的情況下，對腔室1內(nèi)部進(jìn)行照射的電子射 線EB，在腔室l內(nèi)部的靠近電子射線照射窗5的上部區(qū)域中，其能量由
于與大量存在的氛圍氣氣體分子的沖撞而消耗，由此，到達(dá)遠(yuǎn)離電子射 線照射窗5的下部區(qū)域中的電子射線EB的量少，所以無法在下部區(qū)域形 成足夠量的電子射線簇射，對對象物的電子射線照射的均勻性相應(yīng)地降 低。因此，在如上所述的電子射線照射工序中，進(jìn)行將第二負(fù)壓的高度、 即腔室1內(nèi)部的氛圍氣壓力瞬間切換為絕對壓力比之前的第二負(fù)壓高的 負(fù)壓狀態(tài)的氛圍氣切換控制的壓力管理處理的結(jié)構(gòu)，雖然是短時間，但 在對對象物進(jìn)行均勻性高的電子射線照射這點上是優(yōu)選的，并且，通過 適當(dāng)設(shè)定電子射線EB的照射量等，能夠在上述短時間的均勻照射的期間 內(nèi)，充分對對象物進(jìn)行殺菌。
另外，雖然在圖9中沒有圖示，但是通過構(gòu)成為串聯(lián)設(shè)置2個經(jīng)由 可變流量閥43連接到氣體封入口 6上的汽缸閥41A并進(jìn)行串行地開閉的控制，或者，構(gòu)成為代替上述汽缸閥41A而使用能夠更快速動作的蝶閥， 從而能夠更加快速地進(jìn)行氛圍氣切換控制。
并且，如果構(gòu)成為串聯(lián)多個經(jīng)由可變流量閥43連接到氣體封入口 6 的汽缸閥41A，并且設(shè)置成在相鄰的汽缸閥41A相互之間隔開規(guī)定間隔， 則通過進(jìn)行如下的閥開閉操作，能夠容易地對腔室1內(nèi)部提供規(guī)定量的 凈化空氣，在該閥開閉操作中，將多個汽缸閥41A在其之間的配管內(nèi)充 滿凈化空氣的狀態(tài)下關(guān)閉，然后打開靠近腔室1側(cè)的汽缸閥41A。
進(jìn)而，在上述結(jié)構(gòu)中，如果串聯(lián)設(shè)置的汽缸閥41A的個數(shù)為3個以 上，則通過選擇在氛圍氣切換控制前關(guān)閉的2個汽缸閥41A的組合，能 夠改變在關(guān)閉的2個汽缸閥41A之間的配管內(nèi)充滿的凈化空氣的量，能 夠選擇調(diào)整對腔室1內(nèi)部的凈化空氣供給量。
并且，本申請的發(fā)明者們根據(jù)關(guān)于電子射線的射程或發(fā)散程度與氛 圍氣條件之間的關(guān)系的考察，來考慮進(jìn)行上述的氛圍氣切換控制的壓力 管理處理的結(jié)構(gòu)，但是，例如在YoshiakiArataet.el. "Some Fundamental Properties of Nonvacuum Electron Beam" Transactions of J. W. S. September 1970 p.40-p.59的研究論文中，公開了電子射線的射程或發(fā)散程度依賴于 電子射線照射區(qū)域的氛圍氣壓力或氛圍氣氣體的種類。而且，在該研究 論文中，關(guān)于上述依賴性，示出了使用以60kV的電壓加速后的電子射線， 針對空氣和氦氣這兩種氛圍氣氣體，在13.33Pa (10"mmHg) 101325Pa (760mmHg)的范圍內(nèi)改變氛圍氣壓力而進(jìn)行的電子射線發(fā)散(等離子 化)的實驗結(jié)果。
并且，在該電子射線照射裝置中，作為管理所述第二負(fù)壓時所使用 的泄漏氣體，對腔室1內(nèi)提供無塵且無菌的凈化空氣，所以，在將例如 食品、水、醫(yī)藥品、中藥、化妝品等或它們所使用的包裝材料等作為所 述對象物時是優(yōu)選的。
另外，在上述實施方式的例子中，考慮殺菌和材料改質(zhì)的處理利用， 以具備凈化空氣產(chǎn)生裝置54為例進(jìn)行了說明，但是，根據(jù)照射處理過程， 也可以代替凈化空氣產(chǎn)生裝置54而連接各種氣體的產(chǎn)生裝置或貯氣瓶 等。例如，能夠代替凈化空氣產(chǎn)生裝置54，而經(jīng)由配管連接到貯藏有氦氣的貯氣瓶。而且，通過代替空氣而從氣體封入口 6向腔室1內(nèi)封入比 重輕的氦氣，也同樣能夠使電子射線EB成為在腔室1內(nèi)容易運動的狀態(tài) (能量損失少的狀況)。
接著，適當(dāng)參照圖io對本發(fā)明第九實施方式涉及的電子射線照射裝
置進(jìn)行說明。
圖10是表示本發(fā)明第九實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略 結(jié)構(gòu)圖，示出將上述第八實施方式的電子射線照射裝置應(yīng)用于連續(xù)處理 生產(chǎn)線的例子。并且，在該實施方式中，示出在如下用途中應(yīng)用本發(fā)明
的電子射線照射裝置的例子，即，對作為對象物的清涼飲料用等的PET 瓶(聚酯瓶)等形狀復(fù)雜的中空的飲料容器30照射電子射線而對其進(jìn)行 殺菌。另外，圖10 (a)是表示從俯視方向觀察該電子射線照射裝置的圖， 利用搬送方向的剖面來表示處理槽。并且，圖10 (b)是從正面方向觀察 的圖，在該圖中，也利用搬送方向的剖面來圖示處理槽。另外，對與上 述第八實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注同一標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
在該第九實施方式中，具有與照射槽31相鄰設(shè)置的多個預(yù)備室；
以及作為對象物搬送單元的對象物搬送裝置28，其在該多個預(yù)備室和照 射槽31之間搬送飲料容器30。另外，照射槽31除了沿著搬送方向形成 為箱形這點以外，與上述同樣，為耐壓結(jié)構(gòu)的密封容器，能夠在照射槽 31內(nèi)將飲料容器30周圍的氛圍氣管理成規(guī)定的狀態(tài)。進(jìn)而，與上述第八 實施方式同樣，在該照射槽31上部的大致中央，具有能夠以寬面積對照 射槽31內(nèi)照射電子射線EB的電子射線產(chǎn)生室3。并且，雖然沒有圖示， 但根據(jù)需要，在照射槽31的內(nèi)表面和外表面設(shè)置有電子偏轉(zhuǎn)單元。
對于多個預(yù)備室，在該照射槽31的前后分別設(shè)置有多個，作為前預(yù) 備室34和后預(yù)備室35。在該圖的例子中，示出分別沿著搬送方向并列具 有3個室的例子。對于各室內(nèi)的壓力，構(gòu)成為可獨立地維持內(nèi)部壓力， 與上述的照射槽1同樣，通過控制盤進(jìn)行的壓力管理，可獨立地從大氣 壓變化到期望的負(fù)壓。
對象物搬送裝置28構(gòu)成為能夠利用未圖示的傳送帶機(jī)構(gòu)沿著搬送 方向搬送飲料容器30。另外，搬送機(jī)構(gòu)不限于傳送帶機(jī)構(gòu)，也可以釆用例如進(jìn)給絲杠方式的搬送機(jī)構(gòu)。
而且，在前預(yù)備室34和后預(yù)備室35的搬送方向下游側(cè)，分別設(shè)有
前方閘閥32。并且，在前預(yù)備室34和后預(yù)備室35的搬送方向上游側(cè)， 分別設(shè)有后方閘閥33。這里，成為各室的隔斷的閘閥32、 33形成有薄薄 的對象物搬送裝置28的交接部。由此，在各室的隔斷部分不需要特別的 交接機(jī)構(gòu)。
并且，在該照射槽31及其前后的前預(yù)備室34和后預(yù)備室35，同樣 設(shè)置有上述的壓力控制用的配管和壓力控制設(shè)備。即，如該圖所示，與 上述第八實施方式同樣，考慮殺菌和材料改質(zhì)的處理過程利用，能夠從 搭載有HEPA過濾器52和生物濾池53的凈化空氣產(chǎn)生裝置54提供凈化 空氣。并且，真空排氣裝置ll也與上述第八實施方式同樣，在前預(yù)備室 34和后預(yù)備室35上分別采用使用了千式真空泵的結(jié)構(gòu)。另外，在本實施 方式中，根據(jù)照射處理過程，當(dāng)然可以代替凈化空氣產(chǎn)生裝置54，而與 上述示例同樣連接各種氣體產(chǎn)生裝置或貯氣瓶。
進(jìn)而，在照射槽31及其前后的前預(yù)備室34和后預(yù)備室35，分別設(shè) 置有可確認(rèn)有無飲料容器30的未圖示的接近傳感器。而且，各接近傳感 器被連接成，可經(jīng)由信號線將與有無飲料容器30相關(guān)的規(guī)定信號輸出到 控制盤。并且，通過由控制盤執(zhí)行的、以下說明的規(guī)定的壓力管理處理， 來控制各閘閥32、 33在期望的時機(jī)開閉。
圖12是控制盤所執(zhí)行的壓力管理處理的流程圖。
如該圖所示，當(dāng)控制盤執(zhí)行壓力管理處理時，首先，轉(zhuǎn)移到步驟S1， 打開前預(yù)備室34的前方閘閥32，轉(zhuǎn)移到步驟S2。在步驟S2中，利用對 象物搬送裝置28將飲料容器30搬入到前預(yù)備室，轉(zhuǎn)移到步驟S3，在步 驟S3中，關(guān)閉前方閘閥32，轉(zhuǎn)移到步驟S4。
在接下來的步驟S4中，進(jìn)行使前預(yù)備室34內(nèi)和照射槽31內(nèi)成為相 同壓力的處理，轉(zhuǎn)移到步驟S5，接著，在步驟S5中，打開前預(yù)備室34 的后方閘閥33，轉(zhuǎn)移到步驟S5a。在步驟S5a中，確認(rèn)在其它預(yù)備室中 將飲料容器30送入照射槽31的完成情況，如果已經(jīng)完成，則立即轉(zhuǎn)移 到步驟S6。即，在該處理中，將前預(yù)備室34內(nèi)和照射槽31內(nèi)的壓力設(shè)定為上述第八實施方式所說明的第二負(fù)壓，并管理成該規(guī)定的范圍。
這里，在該控制盤進(jìn)行的壓力管理處理中，在打開成為各室的隔斷 的閘閥32、 33的情況下，必須將前工序側(cè)的壓力設(shè)定得較低。因此，在
該步驟S6的處理中，雖然設(shè)成相同的第二負(fù)壓，但是，在打開閘閥32 之前，前預(yù)備室34內(nèi)的壓力比照射槽31內(nèi)低。由此，有意地將裝置內(nèi) 的氣流的流動控制成從后工序側(cè)向前工序側(cè)流動，能夠防止來自前工序 的細(xì)菌和灰塵混入到后工序內(nèi)(在其它閘閥開閉中也同樣。)。
接著，在步驟S6中，利用對象物搬送裝置28，與從其它預(yù)備室送 入的飲料容器30連續(xù)地，將飲料容器30搬入照射槽31內(nèi)，轉(zhuǎn)移到步驟 S7。在步驟S7中，進(jìn)行照射電子射線EB的處理，轉(zhuǎn)移到步驟S8。在接 下來的步驟S8中，根據(jù)來自上述接近傳感器的信號，確認(rèn)前預(yù)備室34 內(nèi)是否已經(jīng)沒有飲料容器30。 g卩，如果前預(yù)備室34內(nèi)已經(jīng)沒有飲料容器 30 (是)，則轉(zhuǎn)移到步驟S9，如果前預(yù)備室34內(nèi)有飲料容器30 (否)， 則在步驟S8中待機(jī)。然后，在步驟S9中，關(guān)閉前預(yù)備室34的后方閘閥 33，轉(zhuǎn)移到步驟SIO，在步驟S10中，執(zhí)行使前預(yù)備室34成為大氣壓的 處理，轉(zhuǎn)移到步驟S12。
在接下來的步驟Sll中，打開照射槽31和后預(yù)備室35之間的前方 閘閥32，轉(zhuǎn)移到步驟S12，在步驟S12中，進(jìn)行利用對象物搬送裝置28， 將被照射了電子射線EB的飲料容器30從照射槽31內(nèi)連續(xù)地搬送到后預(yù) 備室35內(nèi)的處理，轉(zhuǎn)移到步驟S13。
在接下來的步驟S13中，在搬送該飲料容器30后，在規(guī)定的時機(jī)對 各部輸出控制信號，以關(guān)閉后方閘閥33，轉(zhuǎn)移到步驟S14。接著，在步 驟S15中，進(jìn)行使后預(yù)備室35成為大氣壓的處理，轉(zhuǎn)移到步驟S15，接 著，在步驟S15中，打開后預(yù)備室35的后方閘閥33，轉(zhuǎn)移到步驟S15a。 在歩驟S15a中，確認(rèn)在其它預(yù)備室將飲料容器30送入后工序的完成情 況，如果已經(jīng)完成，則立即轉(zhuǎn)移到步驟S16。然后，在步驟S16中，利用 對象物搬送裝置28，與從其它預(yù)備室送入的飲料容器30連續(xù)地，將飲料 容器30搬送到后工序，轉(zhuǎn)移到步驟S17。
接著，在步驟S17中，根據(jù)來自上述接近傳感器的信號，確認(rèn)后預(yù)備室35內(nèi)是否已經(jīng)沒有飲料容器30。 g卩，如果后預(yù)備室35內(nèi)已經(jīng)沒有 飲料容器30 (是)，則轉(zhuǎn)移到步驟S18，如果后預(yù)備室35內(nèi)有飲料容器 30 (否)，則在步驟S17中待機(jī)。然后，在步驟S18中，關(guān)閉后預(yù)備室35 的后方閘閥33，轉(zhuǎn)移到步驟S19，在步驟S19中，執(zhí)行使后預(yù)備室35成 為與照射槽31相同的壓力的一連串處理，轉(zhuǎn)移到步驟S20。然后，在步 驟S20中，例如根據(jù)來自上述前預(yù)備室34的接近傳感器的信號，確認(rèn)壓 力管理處理是否完成。g卩，如果飲料容器30沒有被供給到前預(yù)備室34 (是)，則結(jié)束壓力管理處理，如果飲料容器30被供給到前預(yù)備室34(否)， 則處理返回到步驟S1。這里，在該第九實施方式的電子射線照射裝置中， 該壓力管理處理對應(yīng)于上述壓力管理單元。
這樣，根據(jù)該第九實施方式的電子射線照射裝置，具有多個前預(yù)備 室34和后預(yù)備室35，進(jìn)而，通過執(zhí)行控制盤進(jìn)行的上述一連串的壓力管 理處理，能夠使飲料容器30作為裝置整體連續(xù)地流過。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，在腔室中設(shè)置對象物搬入搬出口， 并分別具有作為遮蔽門的閘閥32、 33，所以，能夠更加容易地使腔室內(nèi) 成為低真空或特定氣體的氛圍氣等、將對象物周圍的氛圍氣保持為規(guī)定 狀態(tài)。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，所述前預(yù)備室34、照射槽31和 后預(yù)備室35可分別分段地進(jìn)行壓力控制，并構(gòu)成為使氣流從后工序向前 工序流動，所以，能夠良好地防止來自未處理工序(前工序)的懸浮細(xì) 菌和灰塵流入，以及包含被殺菌而死亡的細(xì)菌等的氣體無序地飛散。
接著，適當(dāng)參照圖11對本發(fā)明第十實施方式涉及的電子射線照射裝 置進(jìn)行說明。另外，對與上述第八 第九實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注同一 標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
圖ll是表示本發(fā)明第十實施方式涉及的電子射線照射裝置的概略結(jié) 構(gòu)圖，示出將上述第八實施方式的電子射線照射裝置應(yīng)用于連續(xù)處理生 產(chǎn)線的例子。并且，在該實施方式中，示出在如下用途中應(yīng)用本發(fā)明的 電子射線照射裝置的例子，即，對作為對象物的與第九實施方式相同的 中空的飲料容器30照射電子射線而對其進(jìn)行殺菌。另外，圖11 (a)是表示從俯視方向觀察該電子射線照射裝置的圖，利用搬送方向的剖面來 表示處理槽。并且，圖ll (b)是從前工序側(cè)觀察前預(yù)備室的圖，利用橫 截面圖示前預(yù)備室。并且，該圖(C)是放大表示該圖(b)的搬送部的 圖。
如該圖所示，該第十實施方式的電子射線照射裝置也與上述第九實 施方式同樣，具有與照射槽60相鄰設(shè)置的多個預(yù)備室；以及在該多個 預(yù)備室和照射槽60之間搬送飲料容器30的對象物搬送單元。這里，該
照射槽60除了沿著搬送方向形成為圓環(huán)狀這點以外，與上述同樣，為耐 壓結(jié)構(gòu)的密封容器，能夠在照射槽60內(nèi)將飲料容器30周圍的氛圍氣管 理成規(guī)定的狀態(tài)。進(jìn)而，與上述第八實施方式同樣，在該照射槽60的上 部，沿著圓環(huán)狀的搬送區(qū)域，具有能夠以寬面積對照射槽60內(nèi)照射電子 射線EB的電子射線產(chǎn)生室3。并且，雖然沒有圖示，根據(jù)需要，在照射 槽60的電子射線產(chǎn)生室3的下部設(shè)置有電子偏轉(zhuǎn)單元。
如該圖所示，該第十實施方式的多個預(yù)備室分別形成為呈與照射槽 60大致相同的圓環(huán)狀，與照射槽60的前后相鄰而設(shè)置。在該圖的例子中， 各個預(yù)備室被隔壁66沿著圓環(huán)狀的周向大致等間隔地分割為多個小室 (在該圖的例子中，分別具有36個小室。)。這里，在本實施方式中，作 為前預(yù)備室61和后預(yù)備室62，分別具有多個各小室。
艮P，如該圖所示，前預(yù)備室61和后預(yù)備室62的結(jié)構(gòu)為，通過在一 個內(nèi)框架64上朝徑向呈放射狀地安裝隔板66，而被分割為各室，通過被 相鄰的隔板66彼此和外框架63之間所包圍的空間而劃分成各個前預(yù)備 室61和后預(yù)備室62。這里，如圖11 (c)所示，在各隔板66和外框架 63之間具有微小的間隙G，不使用密封部件等。并且，對于各預(yù)備室內(nèi) 的壓力，構(gòu)成為可按照每個處理區(qū)域來管理其壓力，與上述照射槽1同 樣，通過控制盤進(jìn)行的壓力管理，各處理區(qū)域可獨立地從大氣壓變化到 期望的負(fù)壓。
進(jìn)而，在本實施方式中，通過與搬送機(jī)構(gòu)的協(xié)作，改變前預(yù)備室61 和后預(yù)備室62內(nèi)的壓力，使其與照射槽60內(nèi)的第二負(fù)壓的高度相符。 詳細(xì)來講，照射槽60為由其內(nèi)框架64和外框架63包圍的密封空間，外框架63在構(gòu)成各預(yù)備室的前處理區(qū)域和后處理區(qū)域一體地形成。而且，
在照射槽60、前處理區(qū)域和后處理區(qū)域中，分別在其內(nèi)框架64上具有與 各預(yù)備室61、 62相對應(yīng)地安裝的多個機(jī)械手機(jī)構(gòu)65，通過該機(jī)械手機(jī)構(gòu) 65把持飲料容器30，進(jìn)而，能夠在照射槽60和前處理區(qū)域的前預(yù)備室 61相互之間、以及照射槽60和后處理區(qū)域的后預(yù)備室62相互之間分別 交接飲料容器30。
而且，如該圖所示，前處理區(qū)域構(gòu)成為，其內(nèi)框架64順時針方向旋 轉(zhuǎn)。這里，各前預(yù)備室61構(gòu)成為，通過內(nèi)框架64的旋轉(zhuǎn)，隨著前預(yù)備 室61從前工序接近照射槽60，逐漸被引導(dǎo)為照射槽60的負(fù)壓，在移動 到照射槽60側(cè)的時亥'j，成為與照射槽60相同的壓力。并且，相反，當(dāng) 各前預(yù)備室61從照射槽60側(cè)接近前工序側(cè)時，被引導(dǎo)為前工序側(cè)的大 氣壓，在前預(yù)備室61移動到前工序側(cè)的時刻，成為大氣壓。另外，后處 理區(qū)域的后預(yù)備室62也是同樣的結(jié)構(gòu)，所以省略其說明。
進(jìn)而，在構(gòu)成前處理區(qū)域的前預(yù)備室61的部分的外框架部，在從前 工序移動到照射槽60的部分的外壁上，設(shè)置有專用的真空排氣裝置69 和多級的配管68。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)降低照射槽60的真空排氣裝置11的 容量和提高壓力控制的精度。并且，多級的配管68越接近照射槽60，其 配管直徑越大，能夠降低真空排氣裝置69的容量，并順利地進(jìn)行前預(yù)備 室61的壓力變化。另外，后處理區(qū)域的后預(yù)備室62也是同樣的結(jié)構(gòu)， 所以省略其說明。這里，可轉(zhuǎn)動地裝備了照射槽60、前處理區(qū)域和后處 理區(qū)域各自的各內(nèi)框架64的未圖示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；和在該每一個內(nèi)框架64 上安裝了多個的對象物用機(jī)械手機(jī)構(gòu)65，對應(yīng)于上述對象物搬送單元。
這里，該照射槽60基本上為密封空間，但是，前預(yù)備室61和后預(yù) 備室62在結(jié)構(gòu)上如圖11 (c)所示，在周圍具有微小的間隙G，所以， 當(dāng)照射槽60為負(fù)壓時，可能從該微小的間隙G發(fā)生泄漏。但是，沿周向 在任一層都設(shè)置有隔板66，由此增大流路阻力，所以能夠使泄漏量非常 少，通過使真空排氣裝置的容量為預(yù)計的泄漏量部分的容量，能夠?qū)⒄?射槽60內(nèi)保持為一定的壓力。另外，該原理是與發(fā)電機(jī)等所采用的迷宮 環(huán)式密封結(jié)構(gòu)相同的原理。并且，如該圖所示，本實施方式也與上述第八實施方式同樣，考慮
殺菌和材料改質(zhì)的處理利用，能夠從搭載有HEPA過濾器52和生物濾池 53的凈化空氣產(chǎn)生裝置54提供凈化空氣。并且，各真空排氣裝置11也 與上述第八實施方式同樣，在前預(yù)備室61和后預(yù)備室62中分別采用使 用了干式真空泵的結(jié)構(gòu)。另外，在本實施方式中，根據(jù)照射處理過程， 當(dāng)然可以代替凈化空氣產(chǎn)生裝置54，而與上述示例同樣，連接各種氣體 產(chǎn)生裝置或貯氣瓶。
而且，在該第十實施方式中，構(gòu)成為可通過該控制盤來執(zhí)行以下說 明的規(guī)定的壓力管理處理。
圖13是控制盤所執(zhí)行的壓力管理處理的流程圖。
如該圖所示，當(dāng)該控制盤執(zhí)行壓力管理處理時，首先，轉(zhuǎn)移到步驟 S31,將電子射線產(chǎn)生室內(nèi)管理成規(guī)定的第一負(fù)壓，并且將照射槽60內(nèi) 管理成規(guī)定的第二負(fù)壓，轉(zhuǎn)移到步驟S32。這里，關(guān)于第一負(fù)壓和第二負(fù) 壓，與上述第八實施方式同樣，設(shè)定各自的壓力，并管理成該規(guī)定的范 圍。
接著，在步驟S32中，進(jìn)行如下一連串的處理即， 一邊使內(nèi)框架 64順時針方向旋轉(zhuǎn)， 一邊通過在各前預(yù)備室61中安裝的機(jī)械手機(jī)構(gòu)65， 將飲料容器30從前工序的旋轉(zhuǎn)搬送機(jī)構(gòu)接收到前處理區(qū)域的內(nèi)框架64 內(nèi)，并且，通過進(jìn)一步使前處理區(qū)域的內(nèi)框架64順時針方向旋轉(zhuǎn)，使把 持并收納飲料容器30的前預(yù)備室61向照射槽60側(cè)移動，轉(zhuǎn)移到步驟 S33。此時，通過上述結(jié)構(gòu)，前預(yù)備室61內(nèi)的壓力接近照射槽60內(nèi)的第 二負(fù)壓。這里，通過設(shè)置與上述第九實施方式相同的接近傳感器，能夠 判定在各前預(yù)備室61內(nèi)是否正確地搬送飲料容器30。
接著，在步驟S33中，進(jìn)行如下一連串的處理即， 一邊使照射槽 60的內(nèi)框架64逆時針方向旋轉(zhuǎn)， 一邊利用安裝在照射槽60的內(nèi)框架64 上的機(jī)械手機(jī)構(gòu)65，接收從前處理區(qū)域的各前預(yù)備室61依次送來的飲料 容器30，轉(zhuǎn)移到步驟S34。然后，在步驟S34中，進(jìn)行如下一連串的處 理即，在被管理成第二負(fù)壓的壓力恒定的照射槽60中，進(jìn)一步使照射 槽60的內(nèi)框架64逆時針方向旋轉(zhuǎn)，在該過程中，根據(jù)規(guī)定的處理過程，從被管理成第一負(fù)壓的電子射線產(chǎn)生室對飲料容器30照射電子射線EB
(在該例中，在該圖的圓環(huán)狀的照射槽60的上半部分側(cè)飲料容器30被 照射)，同時，向后處理區(qū)域側(cè)搬送飲料容器30，轉(zhuǎn)移到步驟S35。
接著，在步驟S35中，進(jìn)行如下處理g卩， 一邊使該內(nèi)框架64順時 針方向旋轉(zhuǎn)， 一邊通過安裝在后處理區(qū)域用的內(nèi)框架64的各后預(yù)備室62 中的機(jī)械手機(jī)構(gòu)65接收從照射槽60依次送來的電子射線EB照射后的飲 料容器30，轉(zhuǎn)移到步驟S36。
接著，在步驟S36中，進(jìn)行如下處理即，進(jìn)一步使后處理區(qū)域用 的內(nèi)框架64順時針方向旋轉(zhuǎn)，使把持飲料容器30的后預(yù)備室62向后工 序側(cè)移動，依次將飲料容器30交接給后工序的旋轉(zhuǎn)搬送機(jī)構(gòu)，轉(zhuǎn)移到步 驟S37。此時，通過上述結(jié)構(gòu)，后預(yù)備室62內(nèi)的壓力逐漸接近大氣壓。
在步驟S37中，例如根據(jù)來自上述前預(yù)備室61的接近傳感器的信號， 確認(rèn)該壓力管理處理是否完成。即，如果飲料容器30沒有被供給到前預(yù) 備室61 (是)，則結(jié)束該壓力管理處理，如果飲料容器30被供給到前預(yù) 備室61 (否)，則處理返回到步驟S32。這里，在該第十實施方式的電子 射線照射裝置中，該壓力管理處理對應(yīng)于上述壓力管理單元。
這樣，根據(jù)該第十實施方式的電子射線照射裝置，具有配置成圓環(huán) 狀的照射槽60、多個前預(yù)備室61和后預(yù)備室62，在這些照射槽60、多 個前預(yù)備室61和多個后預(yù)備室62中，通過連續(xù)執(zhí)行上述一連串的壓力 管理處理，能夠使從前預(yù)備室61依次搬入的生產(chǎn)線上的飲料容器30通 過照射槽60內(nèi)的成為電子簇射狀態(tài)的電子射線照射區(qū)域內(nèi)，對各飲料容 器30照射電子射線EB后，依次搬出到后預(yù)備室62，由此，能夠使飲料 容器30連續(xù)地移動。
進(jìn)而，根據(jù)該電子射線照射裝置，構(gòu)成為由控制盤進(jìn)行的壓力管理 處理在前處理區(qū)域和后處理區(qū)域獨立地管理多個預(yù)備室內(nèi)部的壓力，所 以，能夠在移動飲料容器30的、間歇式生產(chǎn)線或連續(xù)式生產(chǎn)線的中途， 良好地應(yīng)用第八實施方式所示的結(jié)構(gòu)。特別地，在以連續(xù)地移動飲料容 器30等對象物的方式構(gòu)成生產(chǎn)線的方面，因為在照射槽60的前后分別 設(shè)置能夠獨立管理內(nèi)部壓力的預(yù)備室，所以能夠良好地維持上述第二負(fù)壓的高度。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，在上述結(jié)構(gòu)中，改變前預(yù)備室61 和后預(yù)備室62內(nèi)的壓力，以使其與照射槽60的第二負(fù)壓的高度相符，
所以，更加可靠地維持照射槽60內(nèi)的第二負(fù)壓。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，多個預(yù)備室61、 62具備多個隔壁 66，這些多個隔壁66成為所謂的旋轉(zhuǎn)式的門，在搬送方向上配置了多個， 從而設(shè)置成構(gòu)成迷宮環(huán)式密封結(jié)構(gòu)的隔壁，所以，能夠良好地抑制壓力 的泄漏，同時能夠連續(xù)地搬送對象物。
并且，根據(jù)該電子射線照射裝置，多個各預(yù)備室61、 62被劃分成僅 包圍飲料容器30附近。由此，在使將飲料容器30周圍的氛圍氣管理成 規(guī)定狀態(tài)的區(qū)域為最小限度方面，是優(yōu)選的。
接著，適當(dāng)參照圖14對本發(fā)明第十一實施方式涉及的電子射線照射 裝置進(jìn)行說明。另外，對與上述第八 第十實施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注同 一標(biāo)號，并適當(dāng)省略其說明。
圖14是表示本發(fā)明第十一實施方式涉及的電子射線照射裝置的概 略結(jié)構(gòu)圖，示出將上述第十實施方式的電子射線照射裝置應(yīng)用于對密封 部件照射電子射線的例子。
如圖14所示，作為該第十一實施方式的電子射線照射裝置的基本結(jié) 構(gòu)，設(shè)置有在上下方設(shè)置有電子射線產(chǎn)生室3的照射槽70;和在該照 射槽70前后配置的多個前預(yù)備室75和后預(yù)備室76，該前預(yù)備室75和后 預(yù)備室76的結(jié)構(gòu)如圖14 (b)所示，在四方形的框架89內(nèi)設(shè)置隔壁66 和間隙輥87，并且，串聯(lián)配置有多個預(yù)備室并構(gòu)成迷宮環(huán)式密封結(jié)構(gòu)，
該多個預(yù)備室具有例如組裝成牛奶飲料用等的紙容器之前的紙制薄片部 件31能夠通過的程度的微小間隙G。在該結(jié)構(gòu)中，預(yù)備室具有微小的間 隙G，但是，預(yù)備室成為被串聯(lián)配置多個的結(jié)構(gòu)，由此，流路阻力變大， 所以，與第十實施方式同樣，通過使真空排氣裝置ll的容量為考慮了泄 漏量的容量，能夠容易地管理照射槽70的第二負(fù)壓。
并且，關(guān)于薄片部件31，雖然沒有圖示，但是在后工序中設(shè)有牽引 薄片部件31的機(jī)構(gòu)，薄片部件31經(jīng)由間隙輥87和輥88，從前工序通過多個前預(yù)備室75，在被管理成第二負(fù)壓的照射槽70中，從兩面被照射電
子射線，通過多個后預(yù)備室76，送到后工序。
根據(jù)上述這種第十一實施方式涉及的電子射線照射裝置，對薄片狀 部件，同樣能夠能量效率良好地進(jìn)行照射。
如以上說明的那樣，根據(jù)上述第八到第十一實施方式的電子射線照
射方法和電子射線照射裝置，即使是低能量的電子射線EB,也能夠均勻 地對作為對象物的飲料容器30照射電子射線EB。
另外，本發(fā)明的電子射線照射方法和電子射線照射裝置不限于上述 第八到第十一實施方式，只要不脫離本發(fā)明的主旨，就能夠進(jìn)行各種變 形。
例如，在上述第九和第十實施方式中，作為對象物以飲料容器30為 例進(jìn)行了說明，但是不限于此，例如，也能夠應(yīng)用于作為對象物的食品、 水、醫(yī)藥品、中藥、化妝品、飼料、肥料等或它們所使用的包裝材料等。 即，根據(jù)對象物的種類和形狀，從復(fù)雜形狀的立體物到平面狀的薄膜都 能夠適當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明。
并且，在上述第八到第十一實施方式中，以對對象物進(jìn)行殺菌的用 途為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，也能夠應(yīng)用于殺菌以外的用途。
并且，在上述第八到第十一實施方式中，以根據(jù)對象物的種類而預(yù) 先決定腔室的外形形狀為例進(jìn)行了說明，但是不限于此，也可以具有能 夠根據(jù)對象物的形狀來改變其內(nèi)部形狀的內(nèi)部形狀可變結(jié)構(gòu)。作為這種 內(nèi)部形狀可變結(jié)構(gòu)的例子，具有構(gòu)成外形的隔壁可滑動的組合結(jié)構(gòu)。如 果是這種結(jié)構(gòu)，則根據(jù)對象物的形狀，能夠?qū)?yīng)地適當(dāng)改變腔室的內(nèi)部 形狀。因此，能夠進(jìn)一步高效且均勻地對對象物照射電子射線。
并且，在上述第八到第十一實施方式中，關(guān)于腔室內(nèi)的氛圍氣，以 使腔室1內(nèi)成為低真空即負(fù)壓狀態(tài)，根據(jù)照射處理的需要，可代替凈化 空氣或空氣而封入比重輕的氦氣的情況為例進(jìn)行了說明，但是不限于此， 例如，腔室內(nèi)的氛圍氣可以是從空氣、氧、氮、氫、二氧化碳、氬和氦 中選擇的一種或多種氣體。即，根據(jù)對象物的種類和照射目的，適當(dāng)選 擇腔室內(nèi)的氛圍氣，能夠?qū)ο笪镏車姆諊鷼夤芾沓梢?guī)定狀態(tài)。例如，在降低由氛圍氣導(dǎo)致的能量損失的情況下，如上述示例所示，優(yōu)選使用 比重小的氦氣等。
并且，在上述各實施方式中，當(dāng)然可以適當(dāng)選擇各個結(jié)構(gòu)相互進(jìn)行 組合。
接著，對本發(fā)明第十二實施方式涉及的開口容器用電子射線照射裝 置進(jìn)行說明。
在該開口容器(飲料容器)用電子射線照射裝置中，在具有降壓單 元以維持負(fù)壓狀態(tài)的照射處理槽(照射槽)的側(cè)面部，將前壓力調(diào)整槽 (前預(yù)備室)和后壓力調(diào)整槽(后預(yù)備室)結(jié)合成一體。在這些各槽內(nèi) 分別可旋轉(zhuǎn)地配置旋轉(zhuǎn)搬送體，在各旋轉(zhuǎn)搬送體的外表面大致等間隔地 設(shè)置保持開口容器的多個保持機(jī)構(gòu)(機(jī)械手機(jī)構(gòu))，并且，可從前壓力調(diào) 整槽側(cè)到后壓力調(diào)整槽側(cè)，在各旋轉(zhuǎn)搬送體相互之間，依次交接開口容 器。而且，在前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體上突出設(shè)有 隔壁，以劃分各保持機(jī)構(gòu)，在旋轉(zhuǎn)搬送體移動時，利用各隔壁和槽壁面 形成多個小分區(qū)。具有降壓單元，該降壓單元對該前壓力調(diào)整槽中的從 開口容器的搬入側(cè)到照射處理槽側(cè)的范圍、以及后壓力調(diào)整槽中的從開 口容器的照射處理槽側(cè)到搬出側(cè)的范圍的所述小分區(qū)進(jìn)行降壓，在所述 照射處理槽中配置至少一個電子射線照射單元。
本發(fā)明的開口容器用電子射線照射裝置的原理如圖15 (a)所示，使 用塑料制瓶(飲料容器)作為對象物即開口容器。與配置在中央的照射
處理槽(照射槽)60的側(cè)面部相鄰地配置前壓力調(diào)整槽(前預(yù)備室)61 和后壓力調(diào)整槽(后預(yù)備室)62，并將它們連接成一體。在這些各槽60、 61、 62內(nèi)，可旋轉(zhuǎn)地配置旋轉(zhuǎn)搬送體IIE、 21E、 31E，該旋轉(zhuǎn)搬送體IIE、 21E、 31E通過驅(qū)動機(jī)構(gòu)同步地如箭頭所示那樣旋轉(zhuǎn)，由此，在與各槽的 外壁面之間，形成依次搬送開口容器30的環(huán)狀的搬送路徑。因此，在開 口容器30的生產(chǎn)線中，成為按順序配置與前處理生產(chǎn)線連接的前壓力調(diào) 整槽6K接著是照射處理槽60，最后是與后處理生產(chǎn)線連接的后壓力調(diào) 整槽62的狀態(tài)。
在各旋轉(zhuǎn)搬送體11E、 21E、 31E的外表面等間隔地設(shè)置有多個保持開口容器30并進(jìn)行搬送的保持機(jī)構(gòu)(機(jī)械手機(jī)構(gòu))65，通過該保持機(jī)構(gòu)
65，可在從開口容器30的前處理生產(chǎn)線到后處理生產(chǎn)線之間的各槽60、 61、 62內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體IIE、 21E、 31E相互之間，在開口容器30的直 立狀態(tài)下依次順利地交接開口容器30。
為了對內(nèi)部進(jìn)行降壓，照射處理槽60內(nèi)構(gòu)成為耐壓的密封結(jié)構(gòu)，在 該照射處理槽60上連接有與包含真空排氣裝置69A的排、氣單元連接的配 管68A，將搬送的開口容器30周圍的氛圍氣維持在規(guī)定的負(fù)壓狀態(tài)。而 且，在照射處理槽60內(nèi)與成為電子射線照射室的搬送路徑對應(yīng)的部分， 具有至少一個連接到電源的電子射線的電子射線產(chǎn)生室3 。使用該電子射 線產(chǎn)生室3，在維持了負(fù)壓狀態(tài)的照射處理槽60內(nèi)，向成為電子射線照 射室的搬送路徑照射電子射線，連續(xù)地對搬送來的開口容器30進(jìn)行滅菌 處理。
在電子射線產(chǎn)生室3中，在負(fù)壓氛圍氣內(nèi)對開口容器30的內(nèi)外面照 射電子射線來進(jìn)行滅菌處理，所以，能夠使用低能量的150kV以下的加 速電壓的電子射線。當(dāng)照射處理槽60內(nèi)成為被降壓的狀態(tài)時，大幅降低 電子射線的衰減，所以，即使是低能量的電子射線，電子的射程(飛行 距離)變長，而且，電子射線的發(fā)散量少，即使是細(xì)口的開口容器30， 也能夠有效地對內(nèi)面照射電子射線。
為了能夠有效維持照射處理槽60內(nèi)的負(fù)壓狀態(tài)，并良好地照射電子 射線，對于與該開口容器搬入側(cè)即前處理生產(chǎn)線側(cè)和搬出側(cè)即后處理生 產(chǎn)線連接的前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62，本發(fā)明特別釆取了措施。
艮P，在前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體21E、 31E上，分別突出設(shè)有用于對各保持機(jī)構(gòu)65之間進(jìn)行劃分的隔壁66，在 旋轉(zhuǎn)搬送體21E、 31E旋轉(zhuǎn)移動時，在各保持機(jī)構(gòu)65的兩側(cè)的隔壁66和 槽壁面之間，形成成為小室的多個小分區(qū)8、 9。
而且，在前壓力調(diào)整槽61側(cè)，為了對存在于從將開口容器30從前 工序生產(chǎn)線取入的位置移動到照射處理槽60的范圍內(nèi)的多個小分區(qū)8進(jìn) 行降壓，在該范圍的壁面上，連接有與包含真空排氣裝置69B的排氣單 元連接的多根配管68B。由此，將開口容器30從前工序生產(chǎn)線搬入前壓力調(diào)整槽61后到照射處理槽60的范圍的小分區(qū)8，能夠被有效地管理為 作為從大氣壓到期望的負(fù)壓的狀態(tài)的壓力調(diào)整范圍。
并且，在后壓力調(diào)整槽62艦lj，為了對形成于將開口容器30從照射 處理槽60移動到后工序生產(chǎn)線的位置的范圍內(nèi)的小分區(qū)9進(jìn)行降壓，同 樣，在該范圍的壁面上，連接有與包含真空排氣裝置69C的排氣單元連 接的多根配管68C。因此，將開口容器30從照射處理槽60搬出到后壓 力調(diào)整槽62的后工序生產(chǎn)線的范圍的小分區(qū)9，相反能夠被有效地管理 為作為從期望的負(fù)壓到大氣壓的狀態(tài)的壓力調(diào)整范圍。
另外，多根配管68B、 34通過構(gòu)成為越靠近照射處理槽60其配管直 徑越大，或者增加連接的配管的數(shù)量，從而能夠有效地進(jìn)行降壓，能夠 降低真空排氣裝置69A的容量，并順利地進(jìn)行前壓力調(diào)整槽61和后壓力 調(diào)整槽62的壓力改變。并且，關(guān)于前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62 中的小分區(qū)9的降壓范圍，根據(jù)需要，在上述的相反側(cè)、即在前壓力調(diào) 整槽61中從照射處理槽60移動到前工序生產(chǎn)線的范圍的小分區(qū)9、和后 壓力調(diào)整槽62中從照射處理槽60移動到后工序生產(chǎn)線的范圍的小分區(qū) 9，都能夠設(shè)置排氣單元來進(jìn)行降壓。
用于形成小分區(qū)8、 9的各隔壁66如圖15 (b)所示，設(shè)置成與各 槽61、 62的外壁之間具有微小的間隙G。在從照射處理槽60到前壓力 調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62的大氣開放側(cè)的各范圍內(nèi)，存在多個隔壁 66。因此，多個隔壁66與迷宮環(huán)式密封結(jié)構(gòu)的作用相同，從照射處理槽 60到作為大氣壓的外部的流路阻力增大，所以無需特別使用密封部件等， 就能夠維持照射處理槽60的負(fù)壓狀態(tài)。當(dāng)然，在照射處理槽60中設(shè)置 的排氣單元的真空排氣裝置69A的容量為估計了泄漏量的容量，由此， 能夠?qū)⒄丈涮幚聿?0內(nèi)部維持在預(yù)先確定的負(fù)壓狀態(tài)的范圍內(nèi)。
并且，在照射處理槽60、前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62部分， 例如使用干式真空泵，并連接來自具有適當(dāng)?shù)倪^濾器的清潔空氣產(chǎn)生裝 置54的配管67，向內(nèi)部提供清潔空氣。另外，可以代替清潔空氣產(chǎn)生裝 置54，為了成為能夠良好地照射電子射線的氣體氛圍氣，而連接提供氮 氣或氦氣等或它們的混合氣體的各種氣體供給裝置。在上述結(jié)構(gòu)的開口容器用電子射線照射裝置中，從前工序生產(chǎn)線以 直立狀態(tài)被送入各前壓力調(diào)整槽61的開口容器30依次從前壓力調(diào)整槽
61經(jīng)過照射處理槽60，從后壓力調(diào)整槽62搬出到后工序生產(chǎn)線，但是， 在中途的照射處理槽60部分的負(fù)壓氛圍氣內(nèi)，接受通過來自電子射線產(chǎn) 生室3的電子射線照射進(jìn)行的滅菌處理。此時，當(dāng)前壓力調(diào)整槽61內(nèi)的 旋轉(zhuǎn)搬送體21E順時針方向旋轉(zhuǎn)時，在從將開口容器30從前工序生產(chǎn)線 取入到前壓力調(diào)整槽61的位置到接近照射處理槽60的范圍內(nèi)形成的、 在內(nèi)部保持開口容器30的小分區(qū)8，通過排氣單元，成為從大氣壓逐漸 被降壓的狀態(tài)，當(dāng)移動到照射處理槽60內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體11E時，成為與 照射處理槽60大致相同的負(fù)壓。
并且，相反，當(dāng)后壓力調(diào)整槽62內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體31E順時針方向旋 轉(zhuǎn)時，在與將開口容器30從照射處理槽60排出到后工序生產(chǎn)線的排出 位置接近的范圍內(nèi)形成的、在內(nèi)部保持開口容器30的小分區(qū)9中，通過 排氣單元，成為從照射處理槽60內(nèi)的負(fù)壓狀態(tài)逐漸接近大氣壓的狀態(tài)， 在將開口容器30排出到后工序生產(chǎn)線側(cè)的時刻，成為大氣壓。
因為如上所述構(gòu)成開口容器用電子射線照射裝置，所以，在照射處 理槽60、前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62中，能夠適當(dāng)?shù)鬲毩⒐芾?各槽內(nèi)部的壓力，在維持成負(fù)壓的照射處理槽60內(nèi)，使用低能量的電子 射線產(chǎn)生室3，能夠有效地使用電子射線進(jìn)行開口容器30的滅菌處理。
進(jìn)而，在該開口容器用電子射線照射裝置中， 一體地連接照射處理 槽60、前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62，能夠利用各槽內(nèi)部的旋轉(zhuǎn) 搬送體，以直立狀態(tài)依次高速地搬送各開口容器，各開口容器在設(shè)于照 射處理槽60中的區(qū)域內(nèi)，接受電子射線的照射，所以，能夠連續(xù)地進(jìn)行 在組裝到飲料等的生產(chǎn)線中的開口容器的滅菌處理。并且，因為構(gòu)成為 使各旋轉(zhuǎn)搬送體11E、 21E、 31E旋轉(zhuǎn)，并以直立狀態(tài)搬送開口容器30， 所以不需要施加多余的力，搬送機(jī)構(gòu)部分的損耗小，所以能夠在生產(chǎn)線 中長時間使用。
圖16和圖17示出本發(fā)明的具體的開口容器用電子射線照射裝置的 結(jié)構(gòu)例。在該例中，照射處理槽60的直徑形成得比一體地連接的前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62大。而且，在該大的照射處理槽60中，在 與成為開口容器的搬送路徑的位置對置的上面部分的圓弧狀的范圍內(nèi)，
配置多個電子射線產(chǎn)生室3，并分別連接到電源(未圖示)。因此，各開 口容器在照射處理槽60內(nèi)搬送的過程中，在安裝了各電子射線產(chǎn)生室3 的寬范圍中，接受電子射線的照射滅菌處理。
照射處理槽60、前壓力調(diào)整槽61和后壓力調(diào)整槽62在連接成一體 的狀態(tài)下，配置在架臺17上，并且，在架臺17部分配置有同步驅(qū)動各 槽內(nèi)60、 61、 62的旋轉(zhuǎn)搬送體IIE、 21E、 31E的電動機(jī)或輪等驅(qū)動機(jī)構(gòu) 118。旋轉(zhuǎn)搬送體11E、 21E、 31E形成為扁平的中空鼓狀，或在支承臂上 安裝圓形框而形成。
并且，安裝在照射處理槽60的上部的各電子射線產(chǎn)生室3例如如圖 18 (a)的縱剖面圖和(b)的正視圖所示，在成為l(T5Pa這種高真空狀 態(tài)的電子射線產(chǎn)生室3內(nèi)，配置有多個電子射線單元3a。從形成為圓形 或狹縫狀的電子射線照射窗5，朝維持成負(fù)壓狀態(tài)的下方的作為電子射線 照射區(qū)域60b的搬送路徑，照射由電子射線單元3a部分產(chǎn)生的電子射線 EB，對由旋轉(zhuǎn)搬送體11E的各保持機(jī)構(gòu)65所保持而移動來的各開口容器 30的內(nèi)外面實施滅菌處理。
各電子射線產(chǎn)生室3具有至少一個電子射線單元3a，將它們按順序 安裝在照射處理槽60的上部。而且，在與各電子射線產(chǎn)生室3對置的位 置的照射處理槽60內(nèi)的作為電子射線照射區(qū)域60b的搬送路徑部分，配 置有用作使來自電子射線產(chǎn)生室3的電子射線EB偏轉(zhuǎn)的電子射線偏轉(zhuǎn)單 元的電子射線偏轉(zhuǎn)器145。這些電子射線偏轉(zhuǎn)器145位于與各電子射線產(chǎn) 生室3的電子射線單元3a對置的位置、且與開口容器30的高度方向不 同的位置上。這樣配置電子射線偏轉(zhuǎn)器145時，即使從上方照射電子射 線EB時，也能夠良好地對開口容器30的高度方向的整個面進(jìn)行照射。 電子射線偏轉(zhuǎn)器145使用永久磁鐵，適當(dāng)?shù)厥闺娮由渚€EB偏轉(zhuǎn)，對配置 位置進(jìn)行研究，以便能夠有效地對開口容器30的整個面進(jìn)行照射。
在各保持機(jī)構(gòu)65的上方，設(shè)置同樣由旋轉(zhuǎn)搬送體11E支承的保護(hù)板 146，在該保護(hù)板146上安裝有永久磁鐵制的環(huán)狀的電子射線收束器147，其形成有用于使電子射線EB通過的小孔。通過這樣設(shè)置保護(hù)板146和電
子射線收束器147，即使開口容器30的飲用口的頭部形狀很細(xì)，電子射 線EB也能夠良好地進(jìn)入到內(nèi)部，進(jìn)行照射滅菌處理。另外，保護(hù)板146 配置在開口容器30的頭部附近的特定位置，以防止過多地照射電子射線。 因此，保護(hù)板146的表面接受電子射線EB的照射而發(fā)熱，所以，利用銅 或鋁等熱傳導(dǎo)性好的材料制作，在進(jìn)一步需要發(fā)熱對策時，設(shè)置冷卻管 等冷卻單元。
并且，在本發(fā)明中，如圖19 (a)和(b)所示，特別對在旋轉(zhuǎn)搬送 體11E上設(shè)置的保持機(jī)構(gòu)65部分的結(jié)構(gòu)下了工夫，在保持機(jī)構(gòu)65部分 設(shè)置使開口容器30自轉(zhuǎn)的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)150。通過該自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)150，能夠在 照射電子射線EB時使各開口容器30旋轉(zhuǎn)，不需要特別的裝置，就能夠 利用電子射線EB更加均勻地照射開口容器30的內(nèi)外面。
具體說明該保持機(jī)構(gòu)65，在固定于旋轉(zhuǎn)搬送體11E的表面上的支承 框104的兩側(cè)，利用基于一對夾緊把手149的連接機(jī)構(gòu)，可旋轉(zhuǎn)地進(jìn)行 保持。在作為連接機(jī)構(gòu)的兩個夾緊把手149的前端部設(shè)置夾持開口容器 30的輥6，在內(nèi)側(cè)端部也設(shè)置輥7。而且，利用壓縮彈簧108連接兩個夾 緊把手149雙方，內(nèi)側(cè)的輥7與在夾持開口容器30的范圍內(nèi)設(shè)置的夾緊 導(dǎo)軌109卡合，當(dāng)在沒有用于交接開口容器30的夾緊導(dǎo)軌109的部分卡 合解除時，兩個夾緊把手149的前端側(cè)因壓縮彈簧108的力而張開，解 除對開口容器30的保持。
在該例中，使開口容器30自轉(zhuǎn)的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)150由以下部分構(gòu)成配 置在支承框104的下表面，通過與夾緊導(dǎo)軌109卡合而旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動圓板 151;與輥106、 107協(xié)作來保持開口容器的開口容器驅(qū)動輥152;架設(shè)在 驅(qū)動圓板151和開口容器驅(qū)動輥152之間的驅(qū)動傳送帶等連接驅(qū)動單元 153。由此，經(jīng)由驅(qū)動傳送帶53將驅(qū)動圓板151的旋轉(zhuǎn)力提供給驅(qū)動輥 152， 一邊搬送移動， 一邊使開口容器30自轉(zhuǎn)，能夠利用通過具有電子 射線照射窗5、電子射線收束器147、作為冷卻單元的水冷管148等的保 護(hù)板146到達(dá)的電子射線EB，均勻地對開口容器30的表面進(jìn)行照射， 能夠良好地進(jìn)行滅菌處理。圖20示出作為電子射線偏轉(zhuǎn)單元的電子射線偏轉(zhuǎn)器145的配置例，
在該例中，電子射線偏轉(zhuǎn)器145使用永久磁鐵。各電子射線偏轉(zhuǎn)器145 如圖20 (a)所示，研究了如下配置等配置成永久磁鐵的N極和S極 在開口容器30的內(nèi)側(cè)和外側(cè)對置，或者，配置成棒狀的永久磁鐵的N極 和S極在內(nèi)側(cè)和外側(cè)在周向上錯開，或者，配置成棒狀的永久磁鐵的N 極和S極在兩側(cè)對置而并列配置。
通過這種配置，如圖20 (a)、 (b)所示，從圖的上方照射的電子射 線EB的偏轉(zhuǎn)方向相對于開口容器30的中心軸，分別向角度不同的圓周 方向彎折，所以，能夠更好地對開口容器30的內(nèi)外面進(jìn)行滅菌處理。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性
如以上說明的那樣，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供即使是低能量的電子射 線，也能夠?qū)ο笪锔咝揖鶆虻卣丈潆娮由渚€的電子射線照射方法和 電子射線照射裝置。
進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供即使是低能量的電子射線，也能夠抑 制電子射線的能量消耗的電子射線照射方法和電子射線照射裝置，以及 能夠在抑制電子射線的能量消耗的同時，連續(xù)地照射電子射線的電子射 線照射裝置。
并且，根據(jù)本發(fā)明，提供能夠組裝到高速搬送開口容器的生產(chǎn)線中， 并且能夠使用低能量的電子射線產(chǎn)生單元，在維持負(fù)壓的照射處理部內(nèi)， 通過電子射線有效地對開口容器進(jìn)行滅菌處理的開口容器用電子射線照 射裝置。
并且，根據(jù)本發(fā)明，提供適當(dāng)?shù)嘏渲枚鄠€電子射線產(chǎn)生單元，能夠 利用各電子射線產(chǎn)生單元的電子射線，適當(dāng)?shù)貙σ耘c生產(chǎn)線大致相同的 高速搬送過程中的各開口容器的內(nèi)外面進(jìn)行滅菌處理的開口容器用電子 射線照射裝置。
權(quán)利要求
1.一種電子射線照射方法，其特征在于，該電子射線照射方法形成將在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的多個磁場連接起來的磁場屏障，在該磁場屏障內(nèi)對對象物照射電子射線。
2. —種電子射線照射裝置，其特征在于，該電子射線照射裝置具有: 電子射線照射單元，其對設(shè)置對象物的電子射線照射區(qū)域內(nèi)照射電子射線；以及磁場屏障形成單元，其形成將在所述電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的多 個磁場連接起來而包圍所述對象物的磁場屏障。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場屏障形成單元通過會切磁場或磁鏡場形成所述磁場屏障。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場屏障形成單元調(diào)整該產(chǎn)生的磁場的強(qiáng)度，改變所述磁場屏障內(nèi)的電子射線的反射距離和反射方向中的至少一方。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2 4中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特 征在于，所述磁場屏障形成單元通過該產(chǎn)生的磁場的方向的調(diào)整、和旋轉(zhuǎn)磁 場的產(chǎn)生的有無的調(diào)整中的至少一方，來改變所述磁場屏障內(nèi)的電子射 線的反射方向。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2 5中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特 征在于，所述磁場屏障形成單元具有多個磁場產(chǎn)生體，該磁場產(chǎn)生體配置成 包圍所述電子射線照射區(qū)域內(nèi)的對象物，并分別產(chǎn)生所述磁場。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場產(chǎn)生體由永久磁鐵、電磁鐵或圓形線圈中的任一種構(gòu)成。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2 7中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特 征在于，該電子射線照射裝置還具有照射槽，該照射槽在內(nèi)部收納所述對象物，并且將該對象物周圍的氛圍氣管理成真空狀態(tài)、或被從負(fù)壓到正壓 的氛圍氣氣體充滿的狀態(tài)，所述氛圍氣氣體是從空氣、氧、氮、氫、二 氧化碳、氬和氦中選擇的一種或多種氣體。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2 8中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特 征在于，所述電子射線照射單元具有能夠改變其照射的電子射線的照射角度 的照射角度變更單元。
10. 根據(jù)權(quán)利要求2 9中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，該電子射線照射裝置還具有可通過所述電子射線照射區(qū)域來搬送所 述對象物的對象物搬送單元。
11. 根據(jù)權(quán)利要求2 10中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，所述對象物為容器或薄片狀部件，對該容器或薄片狀部件照射電子 射線，以對其進(jìn)行殺菌。
12. —種電子射線照射方法，其特征在于，在電子射線照射區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場，在該旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)對對象物照 射電子射線。
13. —種電子射線照射裝置，其特征在于，該電子射線照射裝置具有照射槽，其在內(nèi)部收納對象物，形成電子射線照射區(qū)域； 電子射線照射單元，其對該照射槽內(nèi)照射電子射線；以及 磁場產(chǎn)生單元，其在所述照射槽內(nèi)產(chǎn)生包圍所述對象物的旋轉(zhuǎn)磁場。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場產(chǎn)生單元構(gòu)成為在包圍所述對象物的范圍內(nèi)產(chǎn)生多個旋轉(zhuǎn)磁場。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述磁場產(chǎn)生單元可分別單獨地產(chǎn)生所述多個旋轉(zhuǎn)磁場。
16. 根據(jù)權(quán)利要求13 15中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述磁場產(chǎn)生單元通過改變該產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的旋轉(zhuǎn)方向，來改變 所述旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)的電子射線的反射方向。
17. 根據(jù)權(quán)利要求13 16中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，所述磁場產(chǎn)生單元具有多個磁場產(chǎn)生體，該多個磁場產(chǎn)生體配置成 包圍所述照射槽內(nèi)的對象物，并分別產(chǎn)生磁場。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述多個磁場產(chǎn)生體分別由圓環(huán)狀的磁場產(chǎn)生線圈構(gòu)成，通過對該 磁場產(chǎn)生線圈通電而產(chǎn)生所述旋轉(zhuǎn)磁場。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場產(chǎn)生線圈使其通電的交流電壓變化，來改變所產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度。
20. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場產(chǎn)生體具有配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵；和使該配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵繞其中心軸旋轉(zhuǎn)的磁場產(chǎn)生體旋轉(zhuǎn)單元，通過 利用該磁場產(chǎn)生體旋轉(zhuǎn)單元使所述配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵旋轉(zhuǎn)來 產(chǎn)生所述旋轉(zhuǎn)磁場。
21. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述磁場產(chǎn)生體具有配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵；和使所述對象物繞該配置成圓環(huán)狀的多個永久磁鐵的中心軸旋轉(zhuǎn)的對象物旋轉(zhuǎn)單 元，通過利用該對象物旋轉(zhuǎn)單元使所述對象物在所述配置成圓環(huán)狀的多 個永久磁鐵的內(nèi)側(cè)旋轉(zhuǎn)，而產(chǎn)生與所述對象物相對旋轉(zhuǎn)的磁場作為所述 旋轉(zhuǎn)磁場。
22. 根據(jù)權(quán)利要求17 21中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，所述磁場產(chǎn)生單元還具有軸線方向移動單元，該軸線方向移動單元 使所述磁場產(chǎn)生體和所述對象物在所述磁場產(chǎn)生單元產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的 軸線方向上移動。
23. 根據(jù)權(quán)利要求13 22中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，該電子射線照射裝置還具有照射槽，該照射槽在內(nèi)部收納所述對象 物，并且將該對象物周圍的氛圍氣管理成真空狀態(tài)、或被從負(fù)壓到正壓 的氛圍氣氣體充滿的狀態(tài)，所述氛圍氣氣體是從空氣、氧、氮、氫、二氧化碳、氬和氦中選擇 的一種或多種氣體。
24. 根據(jù)權(quán)利要求13 23中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，所述電子射線照射單元具有能夠改變其照射的電子射線的照射角度 的照射角度變更單元。
25. 根據(jù)權(quán)利要求13 24中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，該電子射線照射裝置還具有可通過所述電子射線照射區(qū)域來搬送所 述對象物的對象物搬送單元。
26. 根據(jù)權(quán)利要求13 25中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述對象物為容器或薄片狀部件，對該容器或薄片狀部件照射電子 射線，以對其進(jìn)行殺菌。
27. —種電子射線照射方法，從電子射線照射單元進(jìn)行照射，該電 子射線照射單元能夠向在內(nèi)部收納對象物的電子射線照射槽內(nèi)對所述對 象物的表面均勻地照射電子射線，該電子射線照射方法的特征在于，使 所述電子射線照射單元周圍的氛圍氣為被管理成第一負(fù)壓的氛圍氣，使 所述電子射線照射槽內(nèi)為被管理成絕對壓力比所述第一負(fù)壓高的第二負(fù) 壓的氛圍氣，來照射所述電子射線。
28. —種電子射線照射裝置，該電子射線照射裝置具有電子射線 照射槽，其在內(nèi)部收納對象物；以及電子射線照射單元，其可向該電子 射線照射槽內(nèi)對所述對象物的表面均勻地照射電子射線，其特征在于，所述電子射線照射單元設(shè)置在可維持內(nèi)部壓力的電子射線產(chǎn)生室內(nèi)，所述電子射線照射槽構(gòu)成為可獨立于所述電子射線產(chǎn)生室來維持其 內(nèi)部壓力，并與所述電子射線產(chǎn)生室相鄰，進(jìn)而，所述電子射線照射裝置還具有壓力管理單元，該壓力管理單 元將所述電子射線產(chǎn)生室內(nèi)管理成第一負(fù)壓，并且將所述電子射線照射 槽內(nèi)管理成絕對壓力比所述第一負(fù)壓高的第二負(fù)壓。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述壓力管理單元通過改變所述第二負(fù)壓的高度來改變電子的發(fā)散程度。
30. 根據(jù)權(quán)利要求28或29所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 所述電子射線照射裝置具有多個預(yù)備室，其構(gòu)成為可獨立地維持內(nèi)部壓力，并與所述電子射線照射槽相鄰設(shè)置；以及對象物搬送單元， 其在該多個預(yù)備室和所述電子射線照射槽之間搬送所述對象物，所述多個預(yù)備室構(gòu)成為至少具有前預(yù)備室，其設(shè)置在可利用所述 對象物搬送單元朝所述電子射線照射槽內(nèi)搬送所述對象物的位置上；以 及后預(yù)備室，其設(shè)置在可利用所述對象物搬送單元從所述電子射線照射 槽內(nèi)搬送所述對象物的位置上，進(jìn)而，所述壓力管理單元構(gòu)成為獨立于所述電子射線照射槽來管理 所述多個預(yù)備室的內(nèi)部壓力。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的電子射線照射裝置，其特征在于， 改變所述前預(yù)備室和后預(yù)備室內(nèi)的壓力，以便與所述第二負(fù)壓的高度相符。
32. 根據(jù)權(quán)利要求28 31中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，所述照射槽內(nèi)的氛圍氣是從空氣、氧、氮、氫、二氧化碳、氬和氦 中選擇的一種或多種氣體。
33. 根據(jù)權(quán)利要求30 32中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述多個預(yù)備室與所述照射槽串聯(lián)或并聯(lián)地配置。
34. 根據(jù)權(quán)利要求30 33中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述預(yù)備室在搬送方向上連續(xù)設(shè)置有多個，相鄰的預(yù)備室被具有旋 轉(zhuǎn)式的門和迷宮環(huán)式密封結(jié)構(gòu)中的至少一方的隔壁相互分開。
35. 根據(jù)權(quán)利要求30 34中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，作為管理所述第二負(fù)壓時所使用的泄漏氣體，所述前預(yù)備室、電子射線照射槽和后預(yù)備室被供給滿足無塵和無菌中的至少一個條件的凈化 空氣。
36. 根據(jù)權(quán)利要求30 35中的任一項所述的電子射線照射裝置，其 特征在于，所述前預(yù)備室、電子射線照射槽和后預(yù)備室可分別多階段地進(jìn)行壓 力控制，并構(gòu)成為使氣流向期望的方向流動。
37. 根據(jù)權(quán)利要求28 36中的任一項所述的電子射線照射裝置，其特征在于，所述對象物是容器或薄片部件，該電子射線照射裝置對該容器或薄 片部件照射電子射線，以對其進(jìn)行殺菌。
38. —種開口容器用電子射線照射裝置，其特征在于，該開口容器 用電子射線照射裝置構(gòu)成為，在具有降壓單元來維持負(fù)壓狀態(tài)的照射處 理槽的側(cè)面部一體地結(jié)合設(shè)置前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽，在所述各 槽內(nèi)分別可旋轉(zhuǎn)地配置旋轉(zhuǎn)搬送體，在所述各旋轉(zhuǎn)搬送體的外表面大致 等間隔地設(shè)置用于保持開口容器的多個保持機(jī)構(gòu)，并且，可從前壓力調(diào) 整槽側(cè)到后壓力調(diào)整槽側(cè)，在各旋轉(zhuǎn)搬送體相互之間依次交接開口容器， 在所述前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體上突出設(shè)有隔壁， 以劃分各保持機(jī)構(gòu)，在旋轉(zhuǎn)搬送體移動時，利用所述各隔壁和槽壁面形 成多個小分區(qū)，該開口容器用電子射線照射裝置具有降壓單元，該降壓 單元對從所述前壓力調(diào)整槽中的開口容器的搬入側(cè)到照射處理槽側(cè)的范 圍、以及從后壓力調(diào)整槽中的開口容器的照射處理槽側(cè)到搬出側(cè)的范圍 的所述小分區(qū)進(jìn)行降壓，在所述照射處理槽中配置有至少一個電子射線 照射單元。
39. —種開口容器用電子射線照射裝置，其特征在于，該開口容器 用電子射線照射裝置構(gòu)成為，在具有降壓單元來維持負(fù)壓狀態(tài)的照射處理槽的側(cè)面部一體地結(jié)合 設(shè)置前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽，在所述各槽內(nèi)分別可旋轉(zhuǎn)地配置旋 轉(zhuǎn)搬送體，在所述各旋轉(zhuǎn)搬送體的外表面大致等間隔地設(shè)置用于保持開 口容器的多個保持機(jī)構(gòu)，并且，可從前壓力調(diào)整槽側(cè)到后壓力調(diào)整槽側(cè)， 在各旋轉(zhuǎn)搬送體相互之間依次交接開口容器，在所述前壓力調(diào)整槽和后 壓力調(diào)整槽內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體上突出設(shè)有隔壁，以劃分各保持機(jī)構(gòu)，在旋 轉(zhuǎn)搬送體移動時，利用所述各隔壁和槽壁面形成多個小分區(qū)，該開口容 器用電子射線照射裝置具有降壓單元，該降壓單元對從所述前壓力調(diào)整 槽中的開口容器的搬入側(cè)到照射處理槽側(cè)的范圍、以及從后壓力調(diào)整槽 中的開口容器的照射處理槽側(cè)到搬出側(cè)的范圍的所述小分區(qū)進(jìn)行降壓， 在沿著所述照射處理槽的開口容器的搬送圓弧的位置上配置有多個電子 射線照射單元。
40. 根據(jù)權(quán)利要求39所述的開口容器用電子射線照射裝置，其特征 在于，所述照射處理槽形成為其直徑比所述前壓力調(diào)整槽和后壓力調(diào)整槽 大，在所述照射處理槽的上部排列有多個所述電子射線照射單元。
41. 根據(jù)權(quán)利要求39或40所述的開口容器用電子射線照射裝置， 其特征在于，在成為電子射線的電子射線照射室的所述照射處理槽內(nèi)，在與所述 各電子射線照射單元對置的位置、且照射電子射線的開口容器的高度方 向的不同位置上，分別配置使電子射線偏轉(zhuǎn)的電子射線偏轉(zhuǎn)單元。
42. 根據(jù)權(quán)利要求41所述的開口容器用電子射線照射裝置，其特征在于，多個所述電子射線偏轉(zhuǎn)單元配置成使電子射線的偏轉(zhuǎn)方向相對于開 口容器的中心軸向角度不同的圓周方向彎折。
43. 根據(jù)權(quán)利要求38 42中的任一項所述的開口容器用電子射線照射裝置，其特征在于，在設(shè)于所述照射處理槽內(nèi)的旋轉(zhuǎn)搬送體上的多個保持機(jī)構(gòu)部分分別 設(shè)置有自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，該自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)利用伴隨旋轉(zhuǎn)搬送體的移動而產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動力使開口容器自轉(zhuǎn)。
全文摘要
本發(fā)明提供即使是低能量的電子射線，也能夠均勻地對對象物照射電子射線的電子射線照射方法和電子射線照射裝置。因此，在將電子射線照射區(qū)域內(nèi)所產(chǎn)生的多個磁場接合起來而形成的磁場屏障(MF)內(nèi)，對飲料容器(30)(對象物)照射電子射線(EB)。
文檔編號A61L2/08GK101297376SQ200680028409
公開日2008年10月29日 申請日期2006年9月21日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月18日
發(fā)明者佐藤重勝, 岡本行夫, 小出英延, 強(qiáng)崎智, 彥坂知行, 橋本信行, 橋本勛, 江口志郎, 藤田裕幸, 鈴木崇之 申請人:日本Ae帕瓦株式會社