專利名稱：：含有陽離子活性成分的口腔組合物的制作方法含有陽離子活性成分的口腔組合物5
背景技術：
：牙斑或斑生物膜是在牙齒上形成的軟沉積物并且它與牙齦炎和其他牙周病形式的出現相關。已經發(fā)現了各種陽離子抗菌劑在臨床上具有延緩細菌生長的能力，由此能夠使斑形成、與斑形成相關的口腔感染和牙齒疾病減至最少。由于許多陽離子活性成分能夠與存在于口10中的細菌細胞上的帶負電的蛋白質部分結合，所以理論上認為它們具有抗菌作用。例如，認為氯化十六烷基吡啶鏡(CPC)是以此方式起作用且認為它是口腔組合物的有效抗菌/抗斑活性成分。理論上認為其他陽離子活性劑是充當抗粘附化合物以防止細菌通過改變釉質的表面能而與牙釉質表面粘附。這類活性劑包括抗菌氨基酸衍生物酯，如15乙基月桂?；彼帷Ｒ虼?，這些陽離子活性成分的作用功效取決于活體內保持它們的陽離子性質以防止斑、牙齦炎和孔洞形成。然而，存在與提供保持陽離子活性成分的陽離子性質、它們的生物利用度和功效的穩(wěn)定口腔護理組合物相關的困難。這特別困難，因為許多常規(guī)口腔護理成分如無機顆粒磨料和表面活性劑具有陰離子20(負性)性質。陽離子活性成分可能被吸引且與這類帶負電成分結合，由此阻礙它們執(zhí)行其預定作用。雖然陽離子活性物質成分(例如抗菌氨基酸酯化合物)為活體外有效的抗菌劑，但是經常觀察到這些成分在通過口腔組合物活體內施用時并不展現所要功效。25發(fā)明概述在各種實施方案中，本發(fā)明提供了口腔組合物，其包含陽離子活性成分和具有對所述陽離子活性成分基本為惰性的表面的與陽離子相容的無機顆粒。所迷口腔組合物優(yōu)選還包含與陽離子相容的表面活性劑體系。一方面，本發(fā)明提供了口腔組合物，所述口腔組合物包含(a)由式(I)表示的化合物-雙(l-辛胺)二鹽酸鹽)；(vi)胍，例如單-雙胍，如對氯千基-雙胍和忖-(4-氯千基)~^"-(2,4-25二氯千基)雙胍；聚(雙胍)，如聚六亞甲基雙胍鹽酸鹽；和通式(l)的雙-雙胍及其口腔可接受的酸加成鹽<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>其中A和A'各自表示(i)任選地被(CM)烷基、(Cw)烷氧基、硝基或鹵素取代的苯基，(ii)(Cw2)烷基，或(iii)(CM2)脂環(huán)族基團；X和X1各自表示(d-3)亞烷基；R和W各自表示氫、(Cw2)烷基或芳基(C!-6)烷基；Z和Z1各自為0或1;n為2-12的整數；且多亞甲基鏈(CH2)n可任選地被氧或硫或芳族(例如苯基或萘基)核間隔；這類雙-雙胍的實例包括氯己定和阿來西定。通式(l)的雙-雙胍的合適酸加成鹽包括二乙酸鹽、二鹽酸鹽和二葡萄糖酸鹽。氯己定的合適酸加成鹽為在20。C下的水溶解度為至少0.005%w/v的氯己定酸加成鹽且包括二葡萄糖酸鹽、二甲酸鹽、二乙酸鹽、二丙酸鹽、二鹽酸鹽、二氫碘酸鹽、二乳酸鹽、二硝酸鹽、硫酸鹽和酒石酸鹽。所迷鹽優(yōu)選為氯己定的二鹽酸鹽、二乙酸鹽或二葡萄糖酸鹽。阿來西定的合適酸加成鹽包括二氫氟酸鹽和二鹽酸鹽；和(vii)通常由下式(2)表示的Na-?；被嵬榛ズ望}，更特定來說，Na-?；彼嵬榛ズ望}<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>(2)其中W和I^都為烷基。具體地說，RW尤選為l-8個碳原子、優(yōu)選1-3個碳原子、最優(yōu)選3個碳原子的烷基鏈；R2為6-30個碳原子、優(yōu)選10-12個碳原子的烷基鏈，及其混合物；且X為陰離子。在各種實施方案中，R2CO部分包括天然脂肪酸殘基，如選自椰油脂肪酸、牛油脂肪酸殘基的天然脂肪酸，或如選自月桂?；?Cu)脂肪酸殘基、肉豆蔻酰基((314)脂肪酸殘基、硬脂酰基(C!8)脂肪酸殘基的單脂肪酸殘基，及其混合物。在一個實施方案中，R2CO部分包括月桂酰基脂肪酸殘基。X可為提供水中合理溶解度(優(yōu)選1L水中至少約lg)的任何反荷陰離子。形成以上所確定式的抗菌酯鹽的x反荷陰離子的實例包5括無機酸鹽，如包含卣素原子的無機酸鹽(例如，氯離子或溴離子)或磷酸二氫鹽，或有機鹽，如乙酸鹽、酒石酸鹽、檸檬酸鹽或吡咯烷酮-羧酸鹽(PCA)。優(yōu)選為氯化物鹽。在本發(fā)明的實踐中優(yōu)選的抗菌酯化合物的實例包括以上所確定式的抗菌酯化合物，其中所述式中的n等于3。這類化合物包括Na-10酰基精氨酸烷基酯及其鹽，如Na-椰油?；?L-精氨酸甲酯、Na-椰油?；?L-精氨酸乙酯、N"M耶油?；?L-精氨酸丙酯、Na-硬脂?；?L-精氨酸甲酯、Na-硬脂?；?L-精氨酸乙酯鹽酸鹽。在一個實施方案中，所述精氨酸衍生化合物為乙基月桂?；彼岬柠}酸鹽(ELAH)。在本發(fā)明的某些實施方案中，包含在口腔組合物中的陽離子活性15成分選自一種或多種千索氯銨、奧替尼啶、?？颂驵ぁ⒓弘叨?、氯化十六烷基吡啶鏡、氯己定、阿來西定和isr-?；彼嵬榛}。在一個實施方案中，陽離子活性成分包括氯化十六烷基吡啶鐠(CPC)。在另一個實施方案中，陽離子活性成分包括乙基月桂?；彼狨}酸鹽(ELAH)。在又一個實施方案中，陽離子活性成分可包括多種活20性化合物。例如，在一個實施方案中，陽離子活性成分包括氯化十六烷基吡啶鏡(CPC)和乙基月桂?；彼狨}酸鹽(ELAH)。如本領域的技術人員所認識，本發(fā)明涵蓋陽離子活性成分的其他組合。同樣，如下文更詳細地描述，所述口腔組合物還可包含不會不利地影響如上所述的陽離子活性成分的其他活性成分。25有利的是陽離子抗菌活性成分的存在量為約0.005-約10%重量。在各種實施方案中，所述陽離子抗菌活性成分在口腔組合物中的存在量為約0.005%-約5%,更優(yōu)選約0.05%-約3%。在本發(fā)明的各種實施方案中，與陽離子相容的無機顆粒與陽離子活性成分一起用于口腔護理組合物中。在不限制本發(fā)明的組合物、方法或應用的情況下，在各種實施方案中，認為所述無機顆粒組分能夠減小陽離子活性化合物與無機顆粒之間的相互作用，因此提高陽離子活性化合物的生物利用度。5在本發(fā)明的各種實施方案中，所述口腔組合物包含具有對陽離子活性成分基本為惰性的表面的與陽離子相容的無機顆粒。如本文所用的"基本為惰性，，是指與陽離子相容的無機顆粒的表面與陽離子活性成分具有最小不符需要的相互作用?；緸槎栊缘谋砻婵捎筛鞣N方法量化。表面的惰性的可以任何方式獲得，包括具有多孔表面、涂布表10面和/或纟丈理表面。例如，本發(fā)明具有基本為惰性的多孔表面的與陽離子相容的無機顆粒相對于常規(guī)無機顆粒相容性的改善可例如由本發(fā)明組合物的各種抗菌陽離子劑的可用性的活體外測量結果來表示。一個這樣的實例是通過在水溶液中合并陽離子活性劑與顆粒且測定陽離子活性劑的15回收量來進行，所述回收量可表示為自溶液回收的活性成分的百分比，如"y?；厥罩?。因為％回收指出多少陽離子活性劑沒有不符需要地與顆粒結合，這種方法提供評估與陽離子相容的的經驗方法。在各種實施方案中，在存在陽離子活性成分的情況下，用于本發(fā)明的具有基本為惰性的表面的多孔無機顆粒的％回收值為至少約2050%，特別是大于60%，特別是大于70%,更特別是大于80%，甚至更特別是大于90%。這樣的測試方法可在陽離子活性劑如CPC存在下進行。例如，在一種方法中，提供27g0.3。/。CPC溶液并使其與3g欲測試的無機顆粒(例如，二氧化硅或磷酸二鈣)混合。將混合物振蕩10分鐘，隨后放入60。C老化烘箱中7天。7天之后，將樣品離心且25微過濾，隨后稀釋20倍。上清液中可用CPC的分析通過測量吸光度(例如，在268nm下)和使所述數據與自放入混合器的初始量回收的CPC的量相關聯(lián)來進行。％回收值是放入混合物中的CPC的初始量與回收的CPC的量之差除以CPC的初始量。雖然不希望受任何特定理論限制，但是認為在某些實施方案中，具有陽離子性、中性或僅稍微陰離子性的表面電荷的無機顆粒的多孔表面對陽離子活性成分基本為惰性。在某些實施方案中，所述無機顆粒具有低表面積和吸油性，包括表面改性的二氧化硅產物，它與陽離5子活性成分的相互作用減小。已理論上認為二氧化硅顆粒的所述表面改性減小多孔表面的吸附性質和/或減小陽離子活性成分接近帶電表面和與帶電表面相互作用的可能性。根據背景(background)，表面電荷密度(cj)可表示為<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(3)反映每單位面積(A)的電荷總量(q)。顆粒的表面電荷經常表示為零電點(pHp^),即符合表面電荷o等于0C/m2的pH條件，反映顆粒表面上負電荷與正電荷的平衡。影響表面電荷的其他因素包括(例如)晶體結構、任何邊緣、扭結或結構特征、表面積、孔隙尺寸等。15在口腔護理組合物中使用的典型的基于二氧化硅的顆粒為沉淀無定形二氧化硅(Si02)，它可通過使硅酸鈉(Na20xSi02)與強酸如硫酸(H2S04)合并形成。在所述反應中形成的沉淀二氧化硅顆粒的表面可包含羥基(Si-O-H)和可能的硅烷二醇(-Si-(OH)2)、硅烷三醇(-Si-(OH)3)、表面結合水等。所述幾基物質趨于提供陰離子或負電荷20給顆粒表面。一個測定二氧化硅顆粒的表面電荷的實例提供在Persello的美國專利5，616,316中，所述專利的內容通過引用結合到本文中來。所述顆粒的平均粒度(直徑)優(yōu)選為最高達20微米。在各種實施方案中，與陽離子相容的無機顆粒優(yōu)選具有BET(BmnauerEmmettand25Teller法)表面積小于約100mVg的多孔表面。在其他實施方案中，所述與陽離子相容的無機顆粒具有小于約150g/100g的反映顆粒結構(或形態(tài))的DBP(鄰苯二甲酸二丁酯)油吸收度。在其他實施方案中，所迷與陽離子相容的無機顆粒具有小于約100m2/g的BET表面積并且還具有小于約150ml/100g的DBP的結構。在一個實施方案中，所述口腔組合物包含無機顆粒，所述無機顆粒具有低表面電荷，優(yōu)選具有5-7的pHpzc，例如磷酸鉤顆粒，包括磷酸二鈣，更特別是磷酸二鈣二水合物(CaHP(V2H20)。所述磷酸二鈣5顆粒具有小于約1.7m2/g的典型表面積和小于約50ml/100g的DPB油吸收度。在其他實施方案中，所述與陽離子相容的多孔無機;粦酸鹽為低表面積或表面改性的二氧化硅顆粒(siilicaparticulate),在某些實施方案中，所述表面改性的沉淀二氧化硅產物包括中值粒徑為1-100微米的10經表面處理的二氧化硅顆粒。對于本文的目的來說，術語"二氧化硅顆粒(siilicaparticulate)"是指精細分散的二氧化硅，所述術語涵蓋單一或組合形式的二氧化硅初級顆粒、二氧化硅聚集體(即，多個二氧化硅初級顆粒的整體簇團)、二氧化硅團聚體(即，多個二氧化硅聚集體的整體簇團)。15這些二氧化硅顆粒負載相對致密的無定形"活性"二氧化硅材料的沉積物。所述二氧化硅材料以有效提供l-50m2/g，優(yōu)選l-40mVg，更優(yōu)選小于30m2/g的BET比表面積的量沉積，所述量有效提供對陽離子活性成分基本為惰性的二氧化硅表面。在一個特定方面，所述二氧化硅顆粒呈由二氧化硅粒子(silicaparticle)形成的二氧化硅聚集物20或團聚物形式。因此，在某些實施方案中，低表面積改性的磨料具有小于約IOO微米的中值粒徑和小于約50mVg的BET表面積。改性的低表面積二氧化硅產物可經以下方法產生其中二氧化硅顆粒為預成型材料或就地形成，接著使活性二氧化硅有效沉淀在二氧化硅顆粒上以滿足本文別處所述的比表面積且降低陽離子活性劑粘25附的需要。沉積在二氧化硅顆粒上的致密二氧化硅材料"涂布"底下的二氧化硅底材顆粒，在某種意義上來說主要是它滲入和/或堵塞底下的二氧化硅顆粒的孔隙開口以有效降低二氧化硅顆粒底材的表面積?？杀容^在二氧化硅底材顆粒上沉積活性二氧化硅之前和之后得到的13定量BET表面積測量結果以定性確定是否已產生孔隙較少(即，更加致密)的顆粒，這點根據的可測量的比表面積值的降低來指示。所述與陽離子相容的的改性的低表面積二氧化硅顆粒公開(例如)在Gallis等的美國專利申請公開2004/0161389中，所述公開通過引用結合到5本文中來。在本發(fā)明中適合用作對陽離子活性成分基本為惰性的與陽離子相容的無機顆粒的另一合適的改性低表面積二氧化硅描述在Gallis等的美國專利申請公開2004/0616390中，所述公開通過引用結合到本文中來。在一個實施方案中，所述改性的低表面積二氧化硅產物可通10過以與上文所述的方式相同的方式提供多孔二氧化硅底材顆粒而產生。使致密二氧化硅材料沉積到二氧化硅底材顆粒上以有效滲入和/或堵塞二氧化硅底材顆粒上的至少部分孔隙開口以減少尺寸大于約500A的孔隙，這繼而限制經表面處理的二氧化硅上的大直徑孔隙的累積表面積使其小于約8m2/g，累積表面積由壓汞測孔法測量。與具15有較小尺寸的孔隙相比，尺寸大于約500A的孔隙(即，大直徑孔隙)似乎更易影響某些陽離子活性化合物。因此，減少二氧化硅顆粒上尺寸大于約500A的孔隙似乎有效限制陽離子活性成分與二氧化硅顆粒表面上的孔隙的相互作用。在各種實施方案中，所述改性的低表面積二氧化硅顆粒的。/。CPC20回收值優(yōu)選為至少50%,特別是大于60%，更特別是大于70%，甚至更特別是大于80%，它通常介于約55%-約95%范圍之間?？梢赃_到這些o/。CPC回收值，原因是對二氧化^圭底材顆粒進行處理有效減少尺寸大于約500A的表面孔隙，使得如通過壓汞測孔法測量，所述尺寸孔隙的累積表面積優(yōu)選小于約8m2/g，優(yōu)選小于約7m2/g，更優(yōu)選25小于約6m2/g。本發(fā)明實施方案中的所述二氧化硅產物可通過一般工藝方案產生，其中l(wèi))通過使干燥細粉形式的預制二氧化硅材料漿化或者自正在生產的生產線中(其中新鮮沉淀的二氧化硅呈漿液形式或未曾干燥成粉末形式的濕餅形式)提供無定形二氧化硅顆粒的漿液，接著2)使活性二氧化硅沉淀到底材二氧化硅顆粒上以使尺寸大于約500A的所有孔隙的累積表面積減小到小于約8m2/g。為了測量BET表面積，通常使用N2物理吸附。然而，因為氮氣的尺寸，存在可與用于常規(guī)5BET測量中的氣態(tài)N2接觸從而對二氧化硅顆粒的總表面積有貢獻的孔隙，但這樣的孔隙不與被較大陽離子活性劑如CPC接觸。由微孔產生的表面積可接觸到氣態(tài)氮(如通過N2物理吸附測量)，但不易接觸到CPC水性漿液。因此，使用BETN2表面積測量法本身不可能確定二氧化硅顆粒具有本文所述獲得大于約55。/。的。/。CPC回收值的有利10孔隙尺寸分布。而壓汞測孔法優(yōu)選在本發(fā)明的實施方案中用作測量確定臨界孔隙尺寸值下的二氧化硅顆粒的累積表面積的方法。如通常所知，壓汞測孔技術l基于在嚴格控制的壓力下使汞侵入多孔結構中。根據壓力與侵入數據的關系，使用Washburn方程儀器生成體積和尺寸分布。因為汞對大多數物質不潤濕并且不會因毛細管15作用自發(fā)地滲透孔隙，所以必須通過施加外壓迫使它進入孔隙中。所需壓力與孔隙尺寸成反比，并且僅需要低壓使汞侵入大孔隙中，而需要大得多的壓力迫使汞進入微孔中。需要較高壓力來測量本發(fā)明二氧化硅產物表面上的孔隙尺寸和微孔表面積。對于本發(fā)明的目的來說，使用壓汞測孔法測量微孔尺寸和表面積的合適儀器為購自20MicromeriticsInstrumentCorporation,Norcross,Georgia的MICROMERITICSAutoporeII9220型自動壓汞孔隙計。與陽離子相容的研磨材料在所述口腔組合物中的總量可為約1-約65%，優(yōu)選約3-約60%。在選擇與陽離子相容的磨料為磷酸二鈣的實施方案中，磨料在口腔組合物中的存在量為約35-約60%。在選25擇與陽離子相容的磨料為改性的低表面積顆粒的實施方案中，它的存在量優(yōu)選為約3-約25%。在可選的實施方案中，具有對陽離子活性成分基本為惰性的多孔表面的與陽離子相容的無機顆粒還可經乙氧基化氫化蓖麻油預涂布或包封，例如描述在2004年6月23日提交的美國專利申請U.S.第10/875,063號中的無機顆粒，所述專利申請的內容通過引用結合到本文中來。充當增稠劑的與陽離子相容的無機顆?；衔锟捎糜诒景l(fā)明的5實踐，如與陽離子相容的膠體二氧化硅無機顆?；衔?。此外，本發(fā)明的口腔組合物可包含與陽離子相容的無機顆粒如磨料與膠體增稠劑的混合物。另外，在本發(fā)明中預期使用在口腔護理組合物中安全使用的任何合適的與陽離子相容的無機顆粒。包含一種或多種陽離子活性成分的本發(fā)明口腔組合物優(yōu)選通過10表面活性劑體系(即穩(wěn)定用表面活性劑體系)而在水溶液中穩(wěn)定化。"穩(wěn)定用表面活性劑體系"是指使一種或多種表面活性劑包含在口腔組合物中以維持或不顯著降低陽離子活性成分的生物利用度，包括基本限制活性成分化合物的陽離子部分的任何可能的水解或中和。因此，在本發(fā)明的某些優(yōu)選實施方案中，所述口腔組合物為水性的且包含具有15選自以下各物的與陽離子相容的表面活性劑的穩(wěn)定表面活性劑體系非離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、兩性離子表面活性劑、甜菜石咸表面活性劑、兩性表面活性劑及其混合物。在某些實施方案中，溫和且稍微陰離子性的表面活性劑可用于本發(fā)明中，只要不妨礙陽離子活性成分的生物利用度即可，這點將在下文更詳細地論述。因此，一20種或多種所述優(yōu)選種類的表面活性劑包含在與陽離子相容的表面活性劑體系中。非離子表面活性劑是由產生無離子電荷的分子的化學組分制成。因而，非離子表面活性劑與陽離子表面活性劑、離子表面活性劑和兩性表面活性劑不同。在一個優(yōu)選的實施方案中，非離子表面活性劑的25親水部分基于聚氧化烯結構。聚氧化烯結構為形式上表示通過開環(huán)聚合而聚合的多種環(huán)醚的聚合產物的聚醚型聚合物。可用于本發(fā)明的非離子表面活性劑通常通過使這類環(huán)醚聚合合成?？捎糜诒景l(fā)明的合適非離子表面活性劑包括聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)嵌段共聚物。這類共聚物通過Poloxamer的非專有名稱在商業(yè)上已知，所述名稱與數字后綴結合用于標識每種具體共聚物。Poloxamer可具有變化的氧化乙烯和氧化丙烯含量，得到具有寬范圍化學纟吉構和分子量的Poloxamer。優(yōu)選的Poloxamer為Poloxamer407，5以商品名PLURONICF127由BASF,Inc.,Parsippany，NewJersey銷售?？捎糜诒景l(fā)明的非離子表面活性劑的優(yōu)選種類包括脂肪酸脫水山梨醇酯與氧化乙烯的縮合物(聚山梨醇酯(polysorbate)),如具有約20摩爾到約60摩爾氧化乙烯的脫水山梨醇單油酸酯(例如，10TWEEN,ICIGroupofCompanies,London,England的商標)。特別優(yōu)選的聚山梨醇酯為聚氧化乙烯脫水山梨醇單月桂酸酯，如聚山梨醇酯20(聚氧化乙烯20脫水山梨醇單月桂酸酯、TWEEN20)和聚山梨醇酯80(聚氧化乙烯20脫水山梨醇單油酸酯，TWEEN80)。在某些實施方案中，特別優(yōu)選聚山梨醇酯20。15可用于實踐本發(fā)明的兩性離子表面活性劑(特別為甜菜堿類)包括Polefka等的美國專利5,180，577中公開的表面活性劑，所述專利的內容通過引用結合到本文中來。典型的二甲基甘氨酸衍生物包括烷基二乙基甜菜堿，如癸基甜菜堿(decalbetaine)即2-(N-癸基-N,N-二甲銨基)乙酸鹽、椰油基甜菜堿即2-(N-椰油基-N,N-二甲基銨基)乙酸鹽、20肉豆蔻基甜菜堿、棕櫚基甜菜堿、月桂基甜菜堿、鯨蠟基甜菜堿、鯨蠟基甜菜堿、硬脂基甜菜堿等。酰胺基甜菜堿的實例有椰油酰胺乙基甜菜堿、椰油酰氨基丙基甜菜堿、月桂酰胺丙基甜菜堿等。一種優(yōu)選的甜菜堿為椰油酰氨基丙基甜菜堿。在本發(fā)明中，特別優(yōu)選的是非離子表面活性劑和兩性離子表面活25性劑。然而，還可使用與陽離子活性成分化合物相容的陰離子表面活性劑，特別當其為溫和且僅稍微陰離子性的表面活性劑時。一種所述優(yōu)選的陰離子表面活性劑的實例為?；疢磺酸，如甲基椰油基?；撬徕c，亦稱ta歸nol。因此，在各種優(yōu)選的實施方案中，所述與陽離子相容的表面活性劑體系包含選自以下各物的表面活性劑脫水山梨醇酯的聚氧化乙烯衍生物、二甲基甘氨酸衍生物、聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)嵌段共聚物、?；栈撬峒捌浠旌衔?。更詳細地講，某些實施方案包含具5有選自以下各物的表面活性劑的穩(wěn)定用表面活性劑體系聚氧化乙烯脫水山梨醇單月桂酸酯(聚山梨醇酯，例如聚山梨醇酯20)、椰油酰氨基丙基甜菜堿(CAP甜菜堿)、聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)(Poloxamer，例如Poloxamer407)、曱基椰油基?；撬徕c(tauranol)或其混合物。在某些實施方案中，特別有效的穩(wěn)定用表面活性劑體系包含第一表面活10性劑椰油酰氨基丙基甜菜堿(CAP甜菜堿)和第二表面活性劑聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)即Poloxamer，優(yōu)選Poloxamer407。在所述實施方案中，第一表面活性劑與第二表面活性劑的優(yōu)選重量比率為約1:0到約10:1。在本發(fā)明的各種實施方案中，與陽離子相容的穩(wěn)定用表面活性劑15體系的表面活性劑在口腔組合物中的存在量為約0.1%重量-約5%重量，優(yōu)選約0.6%重量-約3%重量。在本發(fā)明的各種實施方案中，所述口腔護理組合物具有傳送々某介物或載體，還包含其他成分。所述載體優(yōu)選不降低本發(fā)明口腔組合物的陽離子活性成分或其他活性物質的功效。本發(fā)明可接受的媒介物或20載體可為毒理學上適合在口腔中使用的任何載體。這類口腔可接受的載體包括牙膏、牙粉、預防用糊劑、漱口液、錠劑、膠姆等的常見組分，在下文中更全面地描述。特定載體組分的選擇取決于所要的產品形狀，包括潔齒劑、漱口液、凝膠和涂劑。本發(fā)明的優(yōu)選實施方案包括潔齒劑口腔組合物。25所述口腔組合物載體的pH優(yōu)選為約4.5-約9。在陽離子活性成分包含抗菌酯如ELAH的特定實施方案中，所述pH優(yōu)選為酸性并且小于約7.3,優(yōu)選小于約6.8,更優(yōu)選小于約6.5。所述pH可通過選擇表面活性劑和成分或通過用酸(例如檸檬酸或苯曱酸)或堿(例如氬氧化鈉)或緩沖液(例如用檸檬酸鈉、苯甲酸鈉、碳酸鈉或碳酸氬鈉、磷酸氫二鈉或磷酸二氬鈉)改變載體來控制。在各種實施方案中，用于制備口腔組合物的載體包含水，優(yōu)選去離子水。本發(fā)明的組合物任選地包含其他材料，如粘合劑、粘度調節(jié)5劑、稀釋劑、泡沫調節(jié)劑、pH調節(jié)劑、濕潤劑、與陽離子相容的增稠劑、口感劑、甜味劑、香味劑、著色劑、防腐劑及其組合。應理解的是雖然以上每種活性劑的總體屬性可能不同，但可能存在一些共有的屬性并且任何給定材料可起到兩類或多類這些類型材料的多種用途。如本領域的技術人員所認識，優(yōu)選選擇與所述組合物的陽離子活10性物質和其他成分相容的這類載體材料。常規(guī)示例性口腔組合物成分描述在Durga等的美國專利6,290,933和Lawlor的美國專利6,685,921中，每個專利的內容通過引用結合到本文中來。例如，本發(fā)明的組合物優(yōu)選包含分子量為200-1,000的濕潤劑，如甘油、山梨醇、木糖醇、聚乙二醇和/或丙二醇。濕潤劑含量通常15總共占口腔組合物的約5-約70%重量。在本發(fā)明的某些優(yōu)選實施方案中，所述口腔組合物包含選自甘油和山梨醇的濕潤劑，其存在量為約8誦約40%。除上文討論的與陽離子相容的二氧化硅增稠劑之外，用于本發(fā)明的組合物中的增稠劑優(yōu)選包括與陽離子相容的天然和合成樹膠、膠體20和其他惰性材料如聚乙烯和交聯(lián)PVP。合適的增稠劑包括天然存在的聚合物，如角叉菜膠、黃原膠；合成增稠劑，如各種分子量的聚乙二醇；纖維素聚合物，如羥乙基纖維素和羥丙基纖維素。增稠劑在本發(fā)明的口腔組合物中的存在量為約0.1-約10%重量，優(yōu)選約0.5-約4.0%重量。在某些優(yōu)選的實施方案中，除了與陽離子相容的二氧化硅增稠25劑以外，用于本發(fā)明的增稠劑還包括任選約0-約5%的羥乙基纖維素(HEC)和任選約0-約3%的黃原膠。如本領域中眾所周知，本發(fā)明的口腔組合物還可包含香味劑。合適香味劑包括精油以及各種芳香醛、酯、醇和類似材料。精油的實例包括綠薄荷、椒樣薄荷、冬青、黃樟、丁香、鼠尾草、桉樹、馬郁蘭、肉桂、檸檬、酸柚、葡萄柚和橙的油。同樣有用的是如薄荷醇、香芽酮和茴香腦的化學品。在這些物質中，最通常采用椒樣薄荷和綠薄荷的油。香味劑在潔齒劑組合物中加入的濃度為約0.1-約5%重量，優(yōu)5選約0.5%-約2%重量。在本發(fā)明的某些實施方案中，在所述口腔組合物中優(yōu)選有多種活性成分，因為發(fā)現它們改進口腔組合物的活性成分的功效，例如抗菌功效。本發(fā)明的組合物任選包含其他活性物質，所述活性物質可用于預防或治療口腔硬或軟組織的病況或病癥，預防或治療生理病癥或病10況，或提供化妝益處，其功能先前已在上文陽離子活性成分的內容中描述。這些活性劑與陽離子活性成分相容或者在多組分口腔組合物中與所述陽離子活性成分分開保存。本文有用的口腔護理活性劑包括增白劑、抗菌劑、殺菌劑、消炎劑、防齲劑、牙石控制劑、防牙菌斑劑、牙周活性劑、磨料、口氣清15新劑、惡臭控制劑、牙齒脫敏劑、唾液刺激劑及其組合。應理解的是雖然以上每種活性劑的總體屬性可能不同，但可能存在一些共有的屬性并且任何給定材料可起到兩類或多類這些類型材料的多種用途。如果加入與陽離子活性成分相同的相中，其他活性成分不應與陽離子活性成分反應或減損陽離子活性成分的功效和生物利用度；所述其他成20分優(yōu)選為陽離子或非離子的。本文有用的活性劑公開于2003年11月6日公開的Doyle等的美國專利公開2003/0206874以及Lawlor的美國專利6,290,933和6,685,921中，各專利的內容通過引用結合到本文中來。在一個實施方案中，所述口腔組合物包含其他非陽離子抗菌劑。25這類抗菌劑包括基于酚和雙酚化合物的抗菌劑，如面代二苯基醚，包括三氯生(2,4,4'-三氯-2'-羥基-二苯基醚)、三氯卡班(3,4,4-三氯苯脲)以及2-苯氧基乙醇、苯甲酸酯和N-碳酰苯胺。這類其他抗菌劑在口腔護理組合物中的存在量可為口腔組合物的約0.01-約5%重量。例如，在口腔組合物中包含多種活性成分的一個實施方案中，抗菌酯如ELAH為陽離子活性成分，其他活性成分為三氯生，其中所述口腔組合物以單或多組分形式提供。本發(fā)明的潔齒劑組合物也可包含足以提供約25ppm到5,000ppm5的氟離子的量的氟離子源或供氟組分作為防齲劑或防牙石劑，并且包含無機氟化物鹽，如可溶性堿金屬鹽。例如，所迷組合物中優(yōu)選的氟離子源為氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟硅酸鈉、氟硅酸銨以及錫的氟化物，如氟化亞錫。優(yōu)選氟化鈉或單氟磷酸鈉。除氟化物化合物之外，也可以包含亞錫離子源防牙石劑，如氟化10亞錫、氯化亞錫和焦-岸酸亞錫。在某些實施方案中，防牙石劑包含鋅離子源如鋅鹽，包括氯化鋅、檸檬酸鋅、乳酸鋅和葡萄糖酸鋅，它們與陽離子活性成分相容。當口腔組合物中包含防牙石劑時，其濃度優(yōu)選為約0.5%重量-約5%重量。在本發(fā)明的某些實施方案中，除陽離子活性成分之外，所述口腔15組合物包含非離子蓋侖提取物(galenicalextract)。這類非離子蓋侖提取物優(yōu)選包含一種或多種源于天然(優(yōu)選源于植物)的活性化合物。術語"蓋侖提取物"包括這類提取物或其中所含的活性組分的合成或半合成等價物。適合用于本發(fā)明的提取物可自植物的任何部分(包括葉、莖、皮、漿、種子、果肉、漿汁、根及其混合物)得到。所述提取物20優(yōu)選自葉、漿和種子得到，更優(yōu)選自葉、花或皮得到。非離子蓋侖提取物的合適的非限制性實例包括得自酒花植物或大麻(Ca朋a^ceae)科植物的其他部分(尤其得自啤酒花(//www/ws/，w/ws)植物)的酒花酸提取物。厚樸(MagnoliaCortex)(厚樸(A^rgwo/^0^Ic/wa/z'力皮)提取物包含包括以下各物的活性化合物厚樸酚、和厚25樸酚、四氬厚樸酚和四氫和厚樸酚，它們適合在本發(fā)明中使用。其他抗菌天然提取物包括自以下植物分離的提取物綠茶或烏龍茶(茶(Owze〃,aw力ew&))、goldthread(源于以下植物科的任一科番荔枝科^4ow"cecfe)、'j、紫牙牛0Be尸6e尸/(iaceae)、卩方己牙+(A/e打Zspermaceae)、翼21粟科(Pa;averaceGfg)、毛策科("a"""cw/aceGe)、蕓香科(/wtocg(3e)、姜科(ZmgZZ^raceoe)、A/a<iz'"a、十大功勞屬(M^om.a)、唐松草屬(r/wA'ctrawspp.))、蔓越橘(cranberry)和其^f也歐石楠科(fiWcaceaefamily)植物、忍冬(honeysuckle)(蔓生盤葉忍冬(Lomceracepn/o"wm)、葡萄種5(葡萄(「/toWm、何子(myrobalan，rem/"a//(36e〃er/ca))、迷迭香(rosemary，705wa"'"iw、東印度胡桃(EastIndianwalnut)(大葉合歡/eMW))、印楝(neem)或楝樹才直物(才束屬(A/e/zaaz^rac/2to))、葉下珠(niruri)沐子草(P一/朋ftem'醇/))和松樹皮,優(yōu)選海岸松(Maritimepine,尸Zm^/^"aWer)。歐石楠科泛指超過100屬和10超過4,000相關種，如在Sanker等的美國專利第5,980,869號中所公開的植物。在某些實施方案中，得自蔓越莓屬(racc/w'Mmgenus)4直物的提取物可用作天然才是取物，例如蔓越橘(cranberry,vcrcc,"/wm可作為抗菌和/或消炎劑的其他天然提取物為在國際化妝品成分15字典及手冊(InternationalCosmeticIngredientDictionaryandHandbook),第10版，2004，第2183頁中所列的天然提取物。在各種實施方案中，加到本發(fā)明的口腔組合物中的其他非離子蓋侖提取物的量優(yōu)選為約0.0001%-約10%，優(yōu)選約0.001%-約5%,更優(yōu)選約0.01%-約3%，這取決于陽離子活性化合物的濃度和口腔組合物的形20式。在各種實施方案中，除陽離子活性成分之外，所述口腔組合物還包含一種或多種選自以下各物的其他活性成分三氯生、亞錫離子源、氟離子源、鋅離子源和非離子蓋侖提取物及其混合物。本發(fā)明的口腔組合物可以具有多個分開保存的相的多組分形式25提供。例如，使各多組分組合物包裝在合適分配容器中，其中使第一以合并帶形式分配以施用到牙刷上。在這種情況下，可優(yōu)選配制各種組分使其具有相似的流變特性，因此在分開放在多隔間管或泵裝置中所要預定量同時共擠出。這類容器為本領域人們所熟悉。這類容器的一個實例為具有可擠壓側壁的兩隔間分配容器，如泵或管，如在Dixit等的美國專利第6,447,756號、Kiozpeoplou的美國專利第4,487,757號和Schaeffer的美國專利第4,687,663號中所公5開，其中，管體由可擠壓塑料巻材如聚乙烯或聚丙烯形成并且在容器體內裝備有限定單獨隔間的間壁，各隔間中儲存有物理分開的組分且各組分經合適分配出口從隔間分配。在本發(fā)明的多組分口腔組合物中，第一組分優(yōu)選包含一種或多種陽離子活性成分。在各種實施方案中，如先前在上文所述，第一組分10包含具有對陽離子活性成分基本為惰性的多孔表面的與陽離子相容的無機顆〉k、與陽離子相容的表面活性劑體系和在存在陽離子活性成分的情況下穩(wěn)定的栽體。多組分實施方案的第二組分優(yōu)選包含一種或多種與所述陽離子活性成分不相容的成分。例如，某些表面活性劑提供符合需要的起泡15特性，然而，它們陰離子性太強而不能與陽離子活性成分一起儲存。這類陰離子表面活性劑的一個實例為十二烷基^5危酸鈉(SLS)。這類成分的另一實例為某些防牙石劑，通常認為它們與陽離子活性成分不相容，如焦磷酸鹽和多磷酸鹽。同樣，這些成分可包含在第二組分中。其他實例包括帶負電荷的常規(guī)磨料。20可用于多組分口腔組合物的第二組分中的這類常規(guī)磨料包括常規(guī)二氧化硅磨料，如平均粒度最多達20微米的沉淀二氧化硅，如HuberEngineeredMaterials銷售的ZEODENT115。其他可用的陰離子潔齒磨料包括偏磷酸鈉、偏磷酸鉀、磷酸三鈣、二水合磷酸二鈣、硅酸鋁、煅燒氧化鋁、膨潤土或其他含硅材料或其組合。25在本發(fā)明的其他實施方案中，制備潔齒組合物的有用研磨材料包括吸油值小于100g/100g二氧化硅、優(yōu)選約45g/100g到小于約70g/100g二氧化硅的二氧化硅凝膠和沉淀無定形二氧化硅。這些二氧化硅的平均粒度為約3微米到約12微米，更優(yōu)選約5微米到約10微米?？捎糜诒景l(fā)明的各種實施方案的其他合適的磨料為低吸油性二氧化硅磨料或高效清潔磨料，如W.R.Grace&Co.的DavisonChemicalDivision,Baltimore,Maryland以商品名SYLODENTXWA5或SYLODENT783銷售的磨料。SYLODENT650XWA為可用于實踐本發(fā)明的低吸油性二氧化硅磨料的一個優(yōu)選實例，它是一種二氧化硅水凝膠，由平均直徑為約7到約10微米的含水量為29%的膠態(tài)二氧化硅的顆粒構成，并且油吸收度小于70g/100g二氧化硅。如本領域的技術人員所認識，任何其他合適的口腔護理拋光材料也可用于10本發(fā)明的第二組分中。所述磨料在本發(fā)明潔牙劑組合物的第二組分中的存在含量為約10-約40%。因此，與所述陽離子活性成分不相容的成分可分開保存在所述口腔組合物的第二組分中。在雙組分口腔組合物體系中，第一組分包含陽離子活性成分，第二組分包含不相容性活性成分。笫一組分和第二15組分彼此分開保存，直到分配施用到口腔中?；蛘?，這類不相容性活性成分也可由本領域的技術人員所認識到的相容化技術包含在單相潔齒劑組合物中，如提供低含量的水以物理分開和防止不相容性成分的擴散，因而減少它們之間的接觸。同樣，當與可能使陽離子活性成分不穩(wěn)定的成分一起傳遞儲存或20傳遞時，某些活性成分可具有改善的生物利用度或功效。一個這樣的實例是三氯生，當與陰離子型聚羧酸鹽和十二烷基硫酸鈉一起傳遞時，它非常有效。然而，SLS和陰離子型聚羧酸鹽與陽離子活性成分不相容。合成陰離子型聚羧酸鹽經常作為某些活性成分的功效增強劑用25于潔齒劑組合物中，所述活性成分包括口腔組合物中的抗菌劑、防牙石劑或其他活化劑。這類陰離子型聚羧酸鹽通常以其游離酸或優(yōu)選部分中和或更優(yōu)選完全中和的水溶性堿金屬(例如鉀，優(yōu)選鈉)或銨鹽形式采用。優(yōu)選的共聚物為馬來酸酐或酸與另一可聚合烯屬不飽和單體(優(yōu)選分子量(M.W.)為約30,000-約1,000,000的甲基乙烯基醚(甲氧基乙烯))的1:4到4:1共聚物。一種優(yōu)選的共聚物為曱基乙烯基醚-馬來酸酐共聚物。這些共聚物的實例可自ISPCorporation以商品名GANTREZ⑧得到，例如，AN139(M.W.1,100,000)、AN119(MW.5200,000);藥物級S誦97(M.W.1,500,000)、AN169(M.W.2,000,000)和AN179(M.W.2,400，000);其中優(yōu)選的共聚物為藥物級S-97(M.W.1,500,000)。在某些實施方案中，施用于口腔表面的多組分口腔護理組合物包含具有一種或多種陽離子活性成分的第一相或組分，其中至少一種陽10離子成分為乙基月桂酰基精氨酸酯(ELA)。第一相還包含具有對陽離子活性成分基本為惰性的多孔表面的與陽離子相容的無機顆粒、與陽離子相容的表面活性劑體系和pH小于約7的載體。第二相或組分包含一種或多種與所述陽離子抗菌成分不相容的口腔護理成分。在某些實施方案中，第二相包含一種或多種陰離子表面活性劑、陰離子活15性成分和與所述陽離子活性成分不相容的顆粒。在儲存期間，第一相與第二相彼此分開保存。在一個特別的實施方案中，第二相包含一種或多種十二烷基硫酸鈉和與所述陽離子活性成分不相容的顆粒。在另一實施方案中，第二相包含三氯生和曱基乙烯基醚與馬來酸酐的共聚物。第二相還可包含與陽離子活性成分不相容的顆粒。20在一個實施方案中，本發(fā)明提供一種制造具有增強的陽離子口腔護理活性成分利用度和穩(wěn)定性的潔齒劑的方法。潔齒劑的制備為本領域人們所熟悉。更準確地說，一種制備本發(fā)明潔齒劑的示例性方法通常包括使包括將如糖精鈉、單氟磷酸鹽和任何其他鹽組分的水溶性化合物分散于25水中，即，使其在常規(guī)混合器中攪拌混合。將濕潤劑(例如，甘油和山梨醇)在常規(guī)混合器中攪拌分散在水中。加入有機增稠劑，如黃原膠和羥乙基纖維素，和任何聚合物。攪拌所得混合物，直到形成均勻凝膠相。向凝膠相中加入顏料如Ti02和所需的任何酸或堿以調節(jié)pH25到6-7。隨后將混合物轉移到高速真空混合器中，其中加入與陽離子相容的無機顆粒磨料和/或增稠劑，如改性的低表面積二氧化硅或磷酸二鈣。隨后，將混合物在約20-50mmHg，優(yōu)選約30mmHg的真空下高速混合5-30分鐘。將調味油(flavoroil)稱重，隨后加入混合物中。5最后，將穩(wěn)定用表面活性劑體系的表面活性劑(曱基椰油基牛磺酸鈉(即，tauranol)、TWEEN20、椰油酰胺甜菜堿(即，CAP甜菜堿)、PLURONIC127(即，Poloxamer407))、香料和陽離子活性成分(即，ELAH)和任何其他活性成分加入混合物中且另外混合10分鐘。最終產物為均勻、半固體、可擠出的糊劑或凝膠產物。.10以下實施例進一步描述和展示本發(fā)明范圍內的優(yōu)選實施方案。實施例1表1<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>表1中的各種牙膏制劑通過使水溶性鹽和化合物、糖精鈉和單氟磷酸鹽(MFP)在常規(guī)混合器中攪拌分散來制備。將濕潤劑(例如，甘油和山梨醇)在常規(guī)混合器中攪拌分散在水中。加入有機增稠劑，如黃原膠和鞋乙基纖維素。攪拌所得混合物，直到形成均勻凝膠相。向凝5膠相中加入二氧化鈦顏料如Ti02和所需的任何酸或堿(NaOH)以調節(jié)pH到小于約7。隨后將混合物轉移到高速真空混合器中，其中加入與陽離子相容的無機顆粒磨料和/或增稠劑，如改性的低表面積二氧化硅或磷酸二釣。隨后，將混合物在約20-50mmHg，優(yōu)選約30mmHg的真空下高速混合5-30分鐘。將調味油稱重，隨后加入混合物中。10最后，將穩(wěn)定用表面活性劑體系(曱基椰油基?；撬徕c(即，tauranol)、TWEEN20、椰油酰胺甜菜堿(即，CAP甜菜石咸)、PLURONIC127(即，Poloxamer407))、香料和陽離子活性成分(即，ELAH)力口入混合物中且另外混合10分鐘。最終產物為均勻、半固體、可擠出的糊劑或凝膠產物。15實施例2表2制劑雙管成分一側另一側與陽離子相容的二氧化硅磨料(Grace)與陽離子相容的二氣化硅增稠劑(Grace)ZEODENT11510ZEODENT1653.5XWA65010脫水磷酸二銅DF48.8甘油2018山梨醇16.915.1輕乙基纖維素膠1聚丙二醇0.5CMC膠(羧曱基纖維素)1.1Iota角叉菜膠0.5NaF0.2430.243糖精鈉0.30.3NaOH(50%)1.2香料11Solbrol(20%)7.5三氯生0.6GANTREZ4十二烷基硫酸鈉3TWEEN201CAP甜菜堿1PLURONIC127(Polox咖er術)二氧化鈦0.50.5水余量余量如表2所示制備多組分潔齒劑組合物。如實施例1中所述制備第一組分或相。第二組分通過向水中加入水溶性化合物如MFP和糖精5鈉并且混合來制備。應注意到可將氟離子源加到第一組分和第二組分兩者之中。隨后加入濕潤劑并且在攪拌下混合。向分散體中加入增稠劑，如黃原膠和/或羥乙基纖維素。隨后加入GANTREZ⑧和氫氧化鈉。攪拌所得混合物，直到形成均勻凝膠相。向凝膠相中加入二氧化鈦(Ti02)和緩沖劑。混合這些成分，直到得到均勻相。隨后將混合物轉移到高速/真空混合器中；向其中加入三氯生、GANTREZ⑧和常規(guī)研磨化合物，如ZEODENT⑧115、ZEODENT165、高清潔二氧化硅、SYLODENTXWA650,并且在約30mmHg的真空下高速混合255分鐘。最后，向混合物中加入包括陰離子表面活性劑十二烷基硫酸鈉(SLS)的表面活性劑，隨后加入香料，另外混合10分鐘。所得產物為均勻、半固體、可擠出的糊劑或凝膠產物。如先前在上文中所述，第一組分和第二組分在多組分儲存裝置中分開儲存。權利要求1.一種口腔組合物，所述口腔組合物包含(a)陽離子活性成分；(b)具有對所述陽離子活性成分基本為惰性的表面的與陽離子相容的無機顆粒；和(c)與陽離子相容的表面活性劑體系。2.權利要求l的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分包括BET表面積小于約100m2/g的二氧化硅顆粒。3.權利要求1的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分的DBP油吸收度小于約150g/100g。4.權利要求l的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分包括中值粒徑小于約100微米且BET表面積小于約50m"g的改性的低表面積二氧化硅顆粒。155.權利要求1的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒包括磷酸二鈣顆粒。6.權利要求l的口腔組合物，其中所述陽離子活性成分選自芐索氯銨、奧替尼啶、?？颂驵?、己脒定、氯己定、阿來西定和N"-酰基精氨酸烷基酯鹽。207.權利要求1的口腔組合物，其中所述陽離子活性成分包括氯化十六烷基吡啶鏡。8.權利要求5的口腔組合物，其中所述陽離子活性成分包括乙基月桂?；彼狨}酸鹽(ELAH)。9.權利要求l的口腔組合物，其中所述口腔組合物還包括選自25以下各物的其他活性成分三氯生、亞錫離子源、氟離子源、鋅離子源和非離子蓋侖提取物。10.權利要求l的口腔組合物，其中所述陽離子活性成分的含量為所述口腔護理組合物重量的約0.05%-約5%。11.權利要求l的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的表面活性劑體系包含選自以下各物的表面活性劑非離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、甜菜堿表面活性劑和兩性表面活性劑。12.權利要求l的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的表面活5性劑體系包含選自以下各物的表面活性劑聚氧化乙烯脫水山梨醇單月桂酸酯、椰油酰氨基丙基甜菜堿、聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)(Poloxamer)、脫水山梨醇二異硬脂酸酯、烷基多葡糖苷和甲基椰油基牛磺酸鈉。13.權利要求l的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的表面活10性劑體系包含第一表面活性劑聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)(Poloxamer)407和第二表面活性劑椰油酰氨基丙基甜菜堿，其中第一表面活性劑與笫二表面活性劑的重量比率為約1:0到約10:1。14.權利要求l的口腔組合物，所述組合物還包含選自以下各物的潔齒成分濕潤劑、表面活性劑、與陽離子相容的增稠劑、水、香15，味劑和防腐劑。15.—種口腔組合物，所述口腔組合物包含(a)式(I)表示的化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>①其中W和I^為烷基，且X為陰離子；20(b)具有對陽離子抗菌酯基本為惰性的多孔表面的與陽離子相容的無纟幾顆4立；和(c)包含選自以下各物的表面活性劑的與陽離子相容的表面活性劑體系聚氧化乙烯脫水山梨醇單月桂酸酯、椰油酰氨基丙基甜菜堿、聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)(Poloxamer)和甲基椰油基牛磺酸鈉。16.權利要求15的口腔組合物，其中W為具有1-8個;友原子的烷基鏈且W為6-30個原子的烷基鏈。17.權利要求15的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分包括BET表面積小于約100m2/g的低表面積二氧化^i顆粒。18.權利要求15的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機5顆粒組分的DBP油吸收度小于約150g/100g。19.權利要求15的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分包括具有直徑大于500埃的大直徑孔隙的改性的低表面積二氧化硅顆粒，其中如由壓汞法測得所述大直徑孔隙的累積表面積小于約8m2/g。20.權利要求15的口腔組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒包括磷酸二鉀顆粒。21.權利要求15的口腔組合物，其中所述陽離子抗菌酯包括乙基月桂?；彼狨}酸鹽(ELAH)。22.權利要求15的口腔組合物，其中所述口腔組合物還包^it15自以下各物的其他活性成分氯化十六烷基吡啶鐠、氯己定、亞錫離子源、氟離子源、鋅離子源和蓋侖提取物。23.權利要求15的口腔組合物，其中所迷與陽離子相容的表面活性劑體系包含選自以下各物的表面活性劑聚氧化乙烯脫水山梨醇單月桂酸酯、椰油酰氨基丙基甜茱堿、聚(氧化乙烯)-聚(氧化丙烯)(Poloxamer)和甲基椰油基牛磺酸鈉。24.權利要求15的口腔組合物，所述口腔組合物還包括三氯生。25.—種施用于口腔表面的口腔護理組合物，所述組合物包含(a)第一相，包含陽離子活性成分、具有對所述陽離子活性成分基本為惰性的表面的與陽離子相容的無機顆粒和與陽離子相容的表面(b)第二相，包含一種或多種與所述陽離子抗菌成分不相容的口腔護理成分，其中所述第二相包含一種或多種陰離子表面活性劑、陰離子活性成分和與所述陽離子活性成分不相容的顆粒，其中在儲存期間所述第一相與所迷第二相彼此分開。26.權利要求25的口腔護理組合物，其中所述第二相包含一種或多種十二烷基硫酸鈉和與所述陽離子活性成分不相容的顆粒。27.權利要求25的口腔護理組合物，其中所述第二相包含三氯5生以及甲基乙烯基醚與馬來酸酐的共聚物。28.權利要求25的口腔護理組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分包括BET表面積小于約100m2/g的二氧化硅顆粒。29.權利要求25的口腔護理組合物，其中所述與陽離子相容的無機顆粒組分的DBP油吸收度小于約150g/100g。全文摘要提供了一種口腔組合物，所述口腔組合物包含一種或多種陽離子活性成分和具有對所述陽離子活性成分基本為惰性的多孔表面的與陽離子相容的無機顆粒。所述口腔組合物還具有與陽離子相容的表面活性劑體系和在存在所述陽離子活性成分的情況下穩(wěn)定的載體。如果需要，則所述口腔組合物可以雙管或單管形式提供。文檔編號A61K8/19GK101262907SQ200680033377公開日2008年9月10日申請日期2006年7月10日優(yōu)先權日2005年7月15日發(fā)明者A·摩根,E·S·阿瓦尼蒂多,J·米勒,M·普倫西普,T·J·博伊德申請人:高露潔-棕欖公司