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      X射線成像設(shè)備及其控制方法

      文檔序號:1151245閱讀:148來源:國知局
      專利名稱:X射線成像設(shè)備及其控制方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及使用多X射線源的X射線成像設(shè)備和控制方法, 尤其涉及提供X射線斷層圖像(tomographic image)的X射線成像 設(shè)備和控制方法。
      背景技術(shù)
      已知使用碳納米管作為冷陰極(cold cathode)的多X射線 源。公知的X射線發(fā)射設(shè)備通過這樣的方式來形成二維X射線 源,即,使用將碳納米管用作為發(fā)射電子的陰極的多X射線管, 并呈二維狀排列布置用于收集來自X射線管的X射線的X射線 輻射窗。從X射線發(fā)射設(shè)備的二維X射線源發(fā)射出的X射線通過 被檢體并照射在X射線圖像檢測器上。該X射線圖像檢測器基于 所照射的X射線的強(qiáng)度生成X射線圖像的圖像信號。在X射線發(fā) 射設(shè)備的二維X射線源與被檢體之間布置毛細(xì)管(capillary)按 篩狀(sieve-like)二維排列的準(zhǔn)直器(collimater),使得毛細(xì)管的 軸方向為與二維X射線源和祐j全體之間的方向相同的方向(參 見日本特開2004-089445(下文中稱為"專利文獻(xiàn)l"))。
      同時,已知基于使用多X射線源所生成的透射X射線圖像來 計算被檢體的斷層圖像的技術(shù)。在公知技術(shù)中,使用了利用電 子束照射靶面(target surface)以促使發(fā)射X射線,并且通過使X 射線通過準(zhǔn)直器孔來使這些X射線形成為束的輻射源(radiation source)。在表面上設(shè)置了多個準(zhǔn)直器孔。在掃描電子束并順次 切換準(zhǔn)直器孔時,由輻射檢測器順次檢測通過被檢體的X射線。 透射成像部件基于來自保持各像素點的被檢體圖像信息的輻射 檢測器的檢測信號,獲得透射圖像信息。由于X射線從準(zhǔn)直器孔直接進(jìn)入輻射檢測器,并且?guī)缀鯖]有散射射線(scattering ray) 進(jìn)入,因此在透射圖像信息中不包括散射射線信息;因而,可 以獲得不包括散射射線信息的三維圖像信息(參見日本特開 2000-060835(下文中稱為"專利文獻(xiàn)2"))。
      如沿從焦點至檢測器延伸的方向觀看到的,在專利文獻(xiàn)2 中公開的X射線成像系統(tǒng)成四角錐狀。因此,在接近檢測器的 區(qū)域中,在寬范圍內(nèi)拍攝到檢測對象,并且在遠(yuǎn)離檢測器的區(qū) 域中,在窄范圍內(nèi)拍攝到檢測對象。當(dāng)在X射線源附近觀察到 該現(xiàn)象時,在多個X射線源之間的間距間隔中不能夠獲取到檢 測對象的投影數(shù)據(jù)(projection data)。換言之,在X射線源之間 的間距區(qū)域中出現(xiàn)數(shù)據(jù)缺失區(qū)域。成像系統(tǒng)的放大率越大,該 問題越明顯。
      另 一問題是散射射線消除與X射線使用效率之間的互逆關(guān) 系。在傳統(tǒng)的X成像中,由X射線束形成的四角錐狀的錐角被放 大,從而提高了X射線使用效率,并且一次拍攝到大的被檢體 區(qū)域。然而,當(dāng)利用X射線一次照射大的區(qū)域時,圖像的分辨 率由于散射射線而降低。盡管散射射線抑制網(wǎng)格(scattering ray suppression grid)可用于抑制這種散射射線,但由于散射射線抑 制網(wǎng)格還使有效的直接射線衰減,因此這是不利的。專利文獻(xiàn)2 因此縮小了錐角以減少散射射線,但縮小錐角還導(dǎo)致X射線使 用效率的下降。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的特征是,在使用多X射線源的X射線成像中,減少 或消除出現(xiàn)在x射線源之間的間距區(qū)域中的數(shù)據(jù)缺失區(qū)域,并
      降低散射射線的影響。
      根據(jù)本發(fā)明的方面,提供了 一種X射線成像設(shè)備,包括多X射線生成部件,其中沿第 一方向以預(yù)定間距呈二維狀布置
      有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所 述切縫構(gòu)件與各X射線焦點分別相對布置并具有沿所述第 一 方 向排列的多個切縫,每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射 線焦點的X射線形成為長度方向是不同于所述第 一方向的第二 方向的切片狀的X射線束;二維檢測部件,其在檢測面處檢測 通過所述切縫部件而形成的X射線束的X射線強(qiáng)度;移動部件, 其在保持所述多X射線生成部件和所述切縫部件之間的相對位 置關(guān)系的情況下,沿所述第一方向移動所述多X射線生成部件 和所述切縫部件;執(zhí)行部件,其在所述多X射線生成部件和所 述切縫部件位于在通過所述移動部件被移動所述預(yù)定間距的量 的過程中的多個位置處時,基于通過所迷二維檢測部件所檢測 到的X射線強(qiáng)度來執(zhí)行X射線成像,以獲得X射線圖像數(shù)據(jù);以
      獲得的X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種X射線成像設(shè)備,包 括多X射線生成部件,其中沿第一方向以預(yù)定間距呈二維狀 布置有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每 個所述切縫構(gòu)件與各X射線焦點分別相對布置并具有沿所迷第 一方向排列的多個切縫,每個所述切縫將來自與該切縫相對的 X射線焦點的X射線形成為長度方向是不同于所述第一方向的 第二方向的切片狀的X射線束;二維^r測部件,其在檢測面處 檢測通過所述切縫部件而形成的X射線束的X射線強(qiáng)度;移動部 件,其在改變所述多X射線生成部件和所述切縫部件之間的相 對位置關(guān)系的情況下,沿所述第 一 方向移動所述多X射線生成 部件和所述切縫部件;執(zhí)行部件,其在所述多X射線生成部件 和所述切縫部件位于在通過所述移動部件被移動所述預(yù)定間距的量的過程中的多個位置處時,基于通過所述二維4全測部件所
      檢測到的x射線強(qiáng)度來執(zhí)行x射線成像,以獲得x射線圖像數(shù)
      據(jù);以及重建部件,其基于通過所述執(zhí)行部件執(zhí)行所述X射線 成像所獲得的X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      此外,根據(jù)本發(fā)明的又一方面,提供了一種X射線成像設(shè) 備的控制方法,所述X射線成像設(shè)備包括多X射線生成部件, 其中沿第 一方向以預(yù)定間距呈二維狀布置有多個X射線焦點; 切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所述切縫構(gòu)件與各X射 線焦點分別相對布置并具有沿所述第一方向排列的多個切縫, 每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形成 為長度方向是不同于所述第一方向的第二方向的切片狀的X射 線束;以及二維4會測部件,其在4全測面處一全測通過所述切縫部 件而形成的X射線束的X射線強(qiáng)度,所述控制方法包括以下步 驟移動步驟,其在保持所述多X射線生成部件和所述切縫部 件之間的相對位置關(guān)系的情況下,沿所述第 一 方向移動所述多 X射線生成部件和所述切縫部件;執(zhí)行步驟,當(dāng)所述多X射線生 成部件和所述切縫部件位于在所述移動步驟中被移動所述預(yù)定 間距的量的過程中的多個位置處時,基于通過所述二維檢測部 件所檢測到的X射線強(qiáng)度來執(zhí)行X射線成像,以獲得X射線圖像 數(shù)據(jù);以及基于通過在所述執(zhí)行步驟中執(zhí)行所述X射線成像所 獲得的X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      此外,根據(jù)本發(fā)明的又一方面,提供了一種X射線成像設(shè) 備的控制方法,所述X射線成像設(shè)備包括多X射線生成部件, 其中沿第一方向以預(yù)定間距呈二維狀布置有多個X射線焦點; 切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所述切縫構(gòu)件與各X射 線焦點分別相對布置并具有沿所述第一方向排列的多個切縫, 每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形成為長度方向是不同于所述第一方向的第二方向的切片狀的x射
      線束;以及二維檢測部件,其在檢測面處檢測通過所述切縫部 件而形成的X射線束的X射線強(qiáng)度,所述控制方法包括以下步 驟移動步驟,其在改變所述多X射線生成部件和所述切縫部 件之間的相對位置關(guān)系的情況下,沿所述第 一 方向移動所述多 X射線生成部件和所述切縫部件;執(zhí)行步驟,當(dāng)所述多X射線生 成部件和所述切縫部件位于在所述移動步驟中被移動所述預(yù)定 間距的量的過程中的多個位置處時,基于通過所述二維檢測部 件所檢測到的X射線強(qiáng)度來執(zhí)行X射線成像,以獲得X射線圖像 數(shù)據(jù);以及基于通過在所述執(zhí)行步驟中執(zhí)行所述X射線成像所 獲得的X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      根據(jù)以下參考附圖對典型實施例的說明,本發(fā)明的其它特 征將變得清楚。


      圖1是示出根據(jù)第一實施例的X射線成像設(shè)備中的成像系 統(tǒng)的圖。
      圖2是示出根據(jù)第 一 實施例的成像系統(tǒng)的XZ平面的圖。 圖3是示出根據(jù)第 一 實施例的成像系統(tǒng)的YZ平面的圖。 圖4是根據(jù)第一實施例的成像系統(tǒng)的XY平面的圖,并詳細(xì)
      示出切縫單元(slit unit)的結(jié)構(gòu)。
      圖5是示出根據(jù)第 一 實施例的X射線成像設(shè)備中的成像系
      統(tǒng)的示例結(jié)構(gòu)的框圖。
      圖6是示出根據(jù)第 一 實施例的散射射線校正的概念圖。
      圖7A是示出根據(jù)第 一 實施例的重建空間與數(shù)據(jù)缺失之間
      的關(guān)系的圖。
      圖7B是示出根據(jù)第 一 實施例的重建空間與數(shù)據(jù)缺失之間的關(guān)系的圖。
      圖8是示出根據(jù)第 一 實施例的在進(jìn)行了切換曝光(switched exposure)的情況下,由各X射線源Xmn在二維#r測單元14上所 形成的X射線圖像的圖。
      圖9 A是示出根據(jù)第 一 實施例的數(shù)據(jù)收集處理的流程圖。 圖9B是示出根據(jù)第 一 實施例的X射線源的二維陣列的示例 的圖。
      圖IO是示出根據(jù)第 一 實施例的數(shù)據(jù)重建處理的流程圖。 圖1 l是示出根據(jù)第二實施例的成像系統(tǒng)的XZ平面的圖。
      具體實施例方式
      現(xiàn)在根據(jù)附圖,將詳細(xì)說明本發(fā)明的典型實施例。 第一實施例
      圖l是示出根據(jù)第 一 實施例的X射線成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的示 例的圖。多X射線生成單元16包括用作X射線焦點的多個X射 線源12,其發(fā)射X射線束13;以及準(zhǔn)直器20,其對來自X射線源 12的X射線束13進(jìn)行初次成形(參考圖2)。構(gòu)造各X射線源12, 以通過加速來自如碳納米管等冷陰極的電子并使得這些電子與 靶撞擊而生成X射線。將X射線源12按例如網(wǎng)格狀二維布置在多 X射線生成單元16內(nèi),其中該網(wǎng)格狀具有26列、26行并且網(wǎng)格 間距為15mm的總共676個源。然而,注意,X射線源12不限于 使用冷陰極的源,并且作為替代可以使用熱電子源。
      由切縫單元17對各X射線束13進(jìn)行二次成形。切縫單元17 是為各個X射線源12設(shè)置的用作切縫構(gòu)件的切縫板21的集合 (后面將參考圖4對此進(jìn)行說明)。將切縫板21分配至各個單獨的 X射線源12。更具體地,制造并布置切縫板21,使得不到達(dá)二 維檢測單元14的^r測面的X射線束13不通過切縫板21。這是為了防止輸出對被檢體的成像沒用的X射線束13。
      通過設(shè)置在切縫板21中的多個切縫,將進(jìn)入切縫板21的錐 形的X射線束13變換成多個切片束(slice beam)。然而,注意, 由切縫單元17對X射線束的成形不限于此種切片束的形成;還 可以將X射線束形成為網(wǎng)格狀。當(dāng)要將X射線束13形成為切片狀 時,切縫板21中的X射線滲濾開口 (percolation opening)由溝槽 (切縫)構(gòu)成;而當(dāng)要將X射線束13形成為網(wǎng)格狀時,切縫板21 中的X射線滲透開口由多行小孔構(gòu)成。注意,即使在要將X射線 束形成為網(wǎng)格狀時,由于多個X射線束通過多個X射線滲透開 口,因此形成切片狀的X射線束。因此,在本申請中,通過多 行小孔后所獲得的X射線束也屬于切片狀X射線束的范疇。以這 種方式,切縫單元17包括分別與各X射線焦點相對布置的多個 切縫板21,并且多個切縫板21均包括沿X方向或第一方向排列 的多個切縫。這些多個切縫分別將來自相對的X射線焦點的X 射線形成為切片狀X射線束,其中該切片狀X射線束的縱向方向 是Y方向或與上述第 一 方向不同的第二方向。二維檢測單元14 在檢測面處檢測由切縫部件形成的X射線束的X射線強(qiáng)度。
      切縫單元17的目的在于減少散射射線。當(dāng)利用X射線束13 同時照射二維檢測單元的整個表面時,在二維檢測單元14的檢 測面內(nèi)將出現(xiàn)不可預(yù)測的量的散射射線。因此,傳統(tǒng)的技術(shù)在 被檢體和二維檢測單元14之間布置散射射線去除網(wǎng)格。通常將 散射射線去除網(wǎng)格制成包括成像焦點,并且調(diào)整成像系統(tǒng)以使 得X射線束的焦點與散射射線去除網(wǎng)格的成像焦點相匹配。然 而,在例如本實施例所述的存在多個X射線束焦點的成像系統(tǒng) 中,不能夠使用這種散射射線去除網(wǎng)格。
      同時,配置成散射射線去除網(wǎng)格的引導(dǎo)切縫同樣具有使有 效的X射線束13衰減的不良影響。然而,在本實施例中,通過計算來減少散射射線。更具體地,將X射線束13形成為切片狀
      或網(wǎng)格狀,并在二維檢測單元14中設(shè)置X射線未進(jìn)入的區(qū)域。
      而實際上,散射射線甚至進(jìn)入該x射線未進(jìn)入的區(qū)域。因而,
      可以針對該區(qū)域僅檢測散射射線信號。因此,可以通過基于這 些散射射線信號的插值處理來預(yù)測散射射線在整個二維檢測單
      元14上的分布??梢酝ㄟ^/人由二維4全測單元14所;險測到的、X 射線已進(jìn)入的區(qū)域的信號值,減去插值后的散射射線信號,來 減少散射射線。將參考圖6進(jìn)一步說明該處理。
      圖6中的信號G0表示出現(xiàn)在從單個X射線源發(fā)射出的X射 線束13通過切縫單元17中的切縫,通過被檢體,然后由二維檢 測單元14所#r測到時的理想分布信號。這還表示通過理想纟交正 所獲得的信號。然而,由于在被檢體內(nèi)的散射,二維檢測單元 14實際輸出例如由G1表示的信號值。將信號G1中X射線束13的 直接分量所進(jìn)入的區(qū)域縮小為0,則產(chǎn)生信號G2;信號G2僅表 示散射射線。信號G3表示基于信號G2,對X射線束13的直接分 量所進(jìn)入的區(qū)域中的散射射線進(jìn)行預(yù)測的結(jié)果。注意,有必要 執(zhí)行減小了信號G2中與X射線束13的直接分量所進(jìn)入的區(qū)域鄰 近的區(qū)域的影響的預(yù)測計算??梢愿鶕?jù)經(jīng)驗確定鄰近區(qū)域的范 圍,或者可以基于直接分量所進(jìn)入的區(qū)域中信號值的大小來確 定鄰近區(qū)域的范圍。從信號G1減去所預(yù)測出的散射信號G3將得 出信號G4,信號G4是已被校正了散射的信號。
      注意,已知的插值技術(shù)可用于預(yù)測計算。存在多個這種已 知的技術(shù),并且可以使用再采樣、線性(直線)插值、多項式(樣 條等)插值、函數(shù)擬合(function fitting)、加權(quán)平均和變分法 (calculus of variation)等。例如,可以通過去除X射線束13的直 接分量所進(jìn)入的區(qū)域并執(zhí)行多項式插值,或者通過減小X射線 束13的直接分量所進(jìn)入的區(qū)域的權(quán)重并使用加權(quán)平均,來進(jìn)行
      13散射信號預(yù)測。
      返回圖l, X射線束13直接通過被檢體,或由被檢體所散射
      后到達(dá)二維檢測單元14。 二維檢測單元14包括呈網(wǎng)格狀布置的
      多個像素。在本實施例中,每個像素(檢測器)包括半導(dǎo)體檢測
      器,但可以使用其它的光電轉(zhuǎn)換元件。由要檢測的病變(lesion) 的大小來確定檢測器的像素大小。用于檢測幾毫米的4丐化 (calcification)的乳腺成像(mammography)需要近似100微米的 像素大小,而用于檢測近似l厘米的結(jié)核(nodule)的胸腔攝影需 要近似200 40(M鼓米的 <象素大小。二維#r測單元14的外部大小 還依賴于成像的被檢體。乳腺成像需要近似2 0 0 x 4 0 0毫米的外 部大小,而胸腔攝影需要近似430x430毫米的大小。
      接著,將說明成像用的直角坐標(biāo)系統(tǒng)15。 X和Y軸表示多X 射線生成單元16和二維4企測單元14的網(wǎng)才各布置的方向,而Z軸 表示發(fā)射X射線束13的方向。X軸表示多X射線生成單元16和切 縫單元17的移動機(jī)構(gòu)使各個單元滑動的方向。用于移動多X射 線生成單元16的才幾構(gòu)是多X射線移動單元18,而用于移動切縫 單元17的結(jié)構(gòu)是切縫移動單元19。通常,當(dāng)醫(yī)生觀察圖像時, 她/他利用沿垂直方向的人體的身體軸觀察圖像。由于人眼在水 平方向上具有較高的分辨率,因此對于診斷圖像,還優(yōu)選增加 在水平方向上的分辨率。因此,如圖l所示,當(dāng)布置人體使得身
      體軸方向與X軸方向相匹配時,沿Y軸方向延伸的X射線束切片 在分辨率方面是更有優(yōu)勢的。換言之,期望沿Y軸方向延伸的X 射線束切片沿X軸方向滑動的成像系統(tǒng)。
      圖4是從位于切縫單元17沿Z軸方向上方的多X射線生成單 元16觀看切縫單元17的圖。多個X射線源12按網(wǎng)格狀布置在多X 射線生成單元16中,并且在切縫單元17中設(shè)置了與各個X射線 源12相對應(yīng)的切縫板21。切縫板21具有如下結(jié)構(gòu)在具有高X射線屏蔽效率的引導(dǎo)板中設(shè)置了用于形成X射線束13的多個切 縫。當(dāng)要形成切片狀的X射線束13時,如圖4所示,切縫具有沿 Y方向延伸的矩形形狀。盡管在附圖中未示出,但當(dāng)要形成網(wǎng) 格狀的小正方形的X射線束13時,切縫板21具有按網(wǎng)格狀布置 的小正方形切^t。
      圖2示出在使用圖4所示的切縫單元17的情況下成像系統(tǒng)的 XZ平面。在圖2中,示出了三個X射線源,或i、 j和k,同時進(jìn) 行X射線曝光;而實際上,X射線源12不同時進(jìn)行曝光。相反, 對源進(jìn)行控制以高速切換曝光。同時,在切換曝光期間,在多 X射線生成單元16和切縫單元17維持它們相對于彼此的位置的 情況下,使用多X射線移動單元18和切縫移動單元19相對于二 維檢測單元14滑動多X射線生成單元16和切縫單元17。滑動的 距離與多X射線生成單元16的網(wǎng)格間距p相同。如將在后面所 述,在多X射線生成單元16和切縫單元17滑動了與網(wǎng)格間距p相 等的量的時段內(nèi),進(jìn)行多次成像,使得可以收集多個X射線源 12之中的適當(dāng)量的數(shù)據(jù)。
      以X射線源i、 j和k作為例子,將X射線束il、 jl和kl形成為 平行束,并且各個X射線束之間的間隔與網(wǎng)格間距p大致相同。 將此描述為"大致"為p的原因是,多X射線生成單元16在依賴 于X射線源i、 j和k的曝光間隔的時間At內(nèi)移動。換言之,假定 多X射線生成單元16在每個曝光間隔At期間移動AL,則X射線 束之間的間隔是AL+p。同時,可以通過滑動多X射線生成單元 16使得平行束之間的間隔縮小為約一半,或p/2,從而使得X射 線源i從到X射線源j的路徑的中間點2 8進(jìn)行曝光(參考圖7 B)。在 將X射線源i移動至X射線源j的位置時,使X射線源i等間隔地拍 攝了N個圖像,使得可以將平行束間的間隔縮減為p/N。由此, 可以消除圖像重建空間27中的投影數(shù)據(jù)的缺失區(qū)域(即,數(shù)據(jù)缺失區(qū)域(參見圖7A))。
      將使用圖7A和7B說明圖像重建空間27中的數(shù)據(jù)缺失區(qū)域 31。首先,進(jìn)行以下假設(shè) *各X射線源12的焦點大小是0.5mm; *各X射線源12的網(wǎng)格間距p是15mm; 從各X射線源12至二維檢測單元14的距離是4 5 0 m m; *從各X射線源12至切縫^反21的距離是15mm; *每個切縫板21中的各切縫在X軸方向上的寬度是1 m m;以及 *從各X射線源12至圖像重建空間27的距離是230mm。
      基于以上假設(shè),在圖像重建空間27中最接近X射線源12的 位置處,各X射線束在X軸方向上的寬度大約是8mm(0.5mmx15 倍放大率+0.5mm)。在這些條件下,當(dāng)在使多X射線生成單元16 滑動的情況下在中間位置未收集數(shù)據(jù)時,圖7 A的由陰影斜線 (crosshatching)表示的部分(即,數(shù)據(jù)缺失區(qū)域31)中的數(shù)據(jù)缺 失。然而,如圖7B所示,在滑動時收集中間位置(中間點28)處 的數(shù)據(jù)消除了數(shù)據(jù)缺失區(qū)域31 。
      盡管在圖7A和7B所示的例子中,在將網(wǎng)格間距p—分為二 的中間點28處進(jìn)行曝光,但本發(fā)明不限于此??梢栽趯⒍郮射 線生成單元16和切縫單元17移動預(yù)定間距(網(wǎng)格間距p)的時候, 在多個位置處執(zhí)行X射線成像。通常,在已將網(wǎng)格間距p劃分為 N個相等部分(其中4象)。在網(wǎng)格間距p的間隔中進(jìn)行N-1次附加曝 光,除了 , N是2或2以上的自然數(shù))時,可以在各部分處進(jìn)行N-1 次附加曝光(圖防止出現(xiàn)圖7A所示的空間數(shù)據(jù)缺失區(qū)域31以 外,還有助于改善投影數(shù)據(jù)中的S/N比。
      圖3示出根據(jù)第 一 實施例的成像系統(tǒng)的XY平面。當(dāng)如圖4 所示要形成沿Y方向延伸的切片狀X射線束13時,配置系統(tǒng)以使 得由來自各個X射線源12的X射線束13照射二維檢測單元14在XY平面中的整個寬度。盡管在圖3中,如前所迷,示出了3個X 射線源,或i、 j和k,同時進(jìn)行X射線曝光,而實際上多個X射線 源12不同時進(jìn)行X射線曝光。相反,源進(jìn)行高速地切換曝光。 在X射線源12由冷陰極構(gòu)成的情況下,可以容易地進(jìn)行以近似1 毫秒為周期的高速切換曝光。圖8示出當(dāng)執(zhí)行切換曝光時由各X 射線源Xmn在二維檢測單元14上所形成的X射線圖像(從X射線 焦點Xmn曝光獲得的投影數(shù)據(jù))。在圖8中示出的例子中,各個X 射線源12因切縫單元17形成6個X射線切片Xmn-h(其中, h二l 6)(未示出),并且示出與各個X射線切片相對應(yīng)的X射線切 片圖像Imn-h(其中,h=l 6)。注意,X射線源Xmn可以沿X軸方 向或沿Y軸方向進(jìn)行快速掃描。在要將來自沿X軸方向?qū)R的X 射線源12的數(shù)據(jù)(X射線圖像數(shù)據(jù))同時背投為平行數(shù)據(jù)的情況 下,優(yōu)選通過圖9A所示的過程沿X軸方向進(jìn)行快速掃描。對要 在短時間內(nèi)同時處理的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行該操作。
      圖5是示出根據(jù)第 一 實施例的X射線成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示例 的框圖。由計算機(jī)11和程序(未示出)對第 一 實施例的系統(tǒng)的全 體進(jìn)行控制。經(jīng)由操作單元22進(jìn)行開始對被檢體成像的指令、 重建圖像的指令以及顯示圖像。當(dāng)通過操作單元22作出了開始 成像的指令時,控制單元23開始針對構(gòu)成成像系統(tǒng)的各個單元 的控制。
      換言之,控制單元23根據(jù)開始成像的指令向數(shù)據(jù)收集單元 25輸出命令,從而將二維檢測單元14置于數(shù)據(jù)可收集狀態(tài)。然 后,控制單元23向高壓供給單元24輸出命令,從而將多X射線 源12置于順次曝光狀態(tài)。控制單元23使二維檢測單元14與各個 曝光同步地收集被檢體的X射線投影數(shù)據(jù)。二維檢測單元14對X 射線投影數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)字化,并將數(shù)字化后的數(shù)據(jù)傳送至數(shù)據(jù)收 集單元25。此外,控制單元23與上述的多次曝光數(shù)據(jù)收集并行地控制多X射線移動單元18和切縫移動單元19,并在維持多X 射線生成單元16和切縫單元17的相對位置關(guān)系的情況下使它們 滑動。
      圖9A是示出由數(shù)據(jù)收集單元25進(jìn)行的數(shù)據(jù)收集處理的流 程圖。在圖9A的過程中,沿X軸方向進(jìn)行快速掃描。這里,如 圖9B所示,M表示沿X軸方向布置的X射線源12的數(shù)量,N表示 沿Y軸方向布置的X射線源12的數(shù)量,并且K表示在多X射線生 成單元16滑動量Sp的時段內(nèi)由各X射線源(Xmn)進(jìn)行曝光的次 數(shù)。在步驟S100中,數(shù)據(jù)收集單元25將變量k、 m和n復(fù)位為l。 然后,在步驟S101中,數(shù)據(jù)收集單元25開始通過由X射線源Xmn 進(jìn)行的X射線曝光的數(shù)據(jù)收集,并且還開始使X射線生成單元16 和切縫單元17滑動。在第一實施例中,切縫單元17和多X射線 生成單元16在它們的相對位置保持相同的情況下滑動。在步驟 S102中,將從曝光Xmnk所獲得的圖像Imnk存儲在數(shù)據(jù)收集單 元25中。這里,k表示在多X射線生成單元16滑動量Sp的時段內(nèi) 由各個X射線源Xmn進(jìn)行曝光的次數(shù)。在步驟S103和S104中, 首先收集從順次驅(qū)動沿X軸方向?qū)R的M個X射線源所獲得的X 射線圖像。當(dāng)已經(jīng)進(jìn)行了通過M個X射線源的成像時,在步驟 S105和S106中,將m復(fù)位為l,然后在下一行(即,沿Y方向的鄰 近行(11=11+1))中收集/人順次驅(qū)動沿X軸方向?qū)R的M個X射線源 所獲得的X射線圖像。重復(fù)該處理,直到第N行為止。當(dāng)結(jié)束了 對第N行的處理時,將變量m和n復(fù)位為l, ^f吏k增加l,并且處理 返回步驟S101。在滑動間隔期間將該處理重復(fù)k次(步驟S107和 S108)。
      接著,當(dāng)已通過操作單元22指示了圖像重建時,將存儲在 數(shù)據(jù)收集單元25中的投影數(shù)據(jù)順次傳送至圖像重建單元26,并 且重建三維體數(shù)據(jù)(three-dimensional volume data)。盡管濾波器校正背投(filter correction back projection)適合于圖像重建,但 逐次逼近(successive approximation)也可用于圖 <象重建。本實施 例的特征是投影數(shù)據(jù)構(gòu)成了平行數(shù)據(jù)。如圖2所示,X射線束il、 jl和kl以及X射線束i2、 J2和k2均生成了各自的平行束。類似地, 如圖7B所示,在多X射線生成單元16和切縫單元17滑動時 (Sp/2、 Sp/3等)收集的來自相同曝光方向的數(shù)據(jù),也生成與X射 線束il、 jl和kl以及X射線束i2、 J2和k2平行的束。盡管在每次 曝光時將投影數(shù)據(jù)存儲在數(shù)據(jù)收集單元25中,但在已經(jīng)進(jìn)行了 用于將該數(shù)據(jù)構(gòu)建為平行數(shù)據(jù)的處理(即,排序)之后,再將該 數(shù)據(jù)傳送至圖像重建單元26。
      接著,將說明用于構(gòu)建平行數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)切割處理和數(shù)據(jù)排 序處理。如由圖6中的信號G0所示,在二維檢測單元14上方局 部地形成透射X射線數(shù)據(jù)。在圖6所示的散射射線校正之后進(jìn)行 數(shù)據(jù)切割處理。在數(shù)據(jù)切割處理和數(shù)據(jù)排序處理之前進(jìn)行散射 射線校正,以使得能夠降低處理所需要的存儲器量并減少存儲 器訪問次數(shù)。
      數(shù)據(jù)切割處理是如下處理如由圖8中的X11-1所示,從二 維檢測單元14上的整個圖像中,幾何地切割出已被X射線照射 了的區(qū)域。可以基于X射線曝光定時來計算二維檢測單元14上 的整個圖像內(nèi)已被X射線照射了的部分Xmn-h的位置。然而,對 平行數(shù)據(jù)的重建不限于按順序放置與X射線切片Xmn-h相對應(yīng) 的X射線切片圖^f象Imn-h。例如,可以通過沿X軸方向?qū)射線 切片圖像進(jìn)行切片并按順序放置所獲得的切片,來構(gòu)建L個X射 線切片圖像。增加分割數(shù)量使得可以增加平行數(shù)據(jù)的平行度。 例如,嚴(yán)格來講,圖像Imn-h是扇數(shù)據(jù),因此即使拼接在一起也 不是嚴(yán)格的平行數(shù)據(jù)。將該數(shù)據(jù)拆分成二維檢測器元件行,使 得可以獲得更完整的平行數(shù)據(jù)。如目前為止所述,圖8所示的X射線切片圖像I11-1、 121-1 和I31-1的組、X射線切片圖<象111-2、 121-2和I31-2的組以及X射 線切片圖像I12-1、 122-1和132-1的組分別構(gòu)成平行數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù) 排序處理是注重如下事實的處理以組為單位(以平行數(shù)據(jù)為單 位)將組拼接成單個圖像。
      圖10是示出上述數(shù)據(jù)重建處理的流程圖。這里,如圖9B所 示,M表示沿X軸方向布置的X射線源12的數(shù)量,N表示沿Y軸 方向布置的X射線源12的數(shù)量,并且K表示在多X射線生成單元 16滑動量Sp的時段內(nèi)由各個X射線源Xmn進(jìn)行曝光的次數(shù)。在 步驟S201中,圖像重建單元26以存儲在數(shù)據(jù)收集單元25中的圖 像Imnk作為處理單位(在圖8中,例如,采用X射線切片圖像 111-1~111-6作為處理單位),執(zhí)行圖6所述的散射射線校正。在 步驟S202 S204中,將變量n、 h、 k和m設(shè)置為它們的初始值。 接著,在步驟S205中,從通過對圖像Imnk進(jìn)行散射射線校正所 獲得的校正圖像I,mnk切割出與第h個切縫相對應(yīng)的區(qū)域,并作 為I,mnk-h。在全部滑動位置處(k= 1 K)對切縫和各個X射線源重 復(fù)進(jìn)行該處理(步驟S206和S207)。然后,如果對于X射線源結(jié)束 了處理,則對沿X方向鄰近的X射線源重復(fù)以上處理(S208和 S209)。這樣,從步驟S205 S209,對于沿X方向?qū)R的各個X 射線源12,切割出了來自相同的第h個切縫的X射線圖像(即, 從由與X射線源的相對位置關(guān)系相匹配的切縫所形成的切片束 所獲得的X射線圖像)。然后,在步驟S210中,拼接成單個圖像, 關(guān)注于切割圖像I,mnk-h構(gòu)成了平行數(shù)據(jù)的事實。將已拼接成的 圖像傳送至圖像重建單元2 6,之后執(zhí)行濾波器校正背投處理。
      圖像重建單元2 6對各個切縫(在圖8所示的例子中的各個切 縫,其中h二l 6)進(jìn)行上述處理(步驟S211和S212)。此外,當(dāng)已 針對相同的n值對全部切縫進(jìn)行了上述處理時,則處理下一行(沿y方向鄰近的行);因此,使n增加l,并且處理返回步驟 S203(步驟S213和S214)。注意,對于各組,例如,可以作為入
      位置的數(shù)量H不限于切縫的實際數(shù)量,而且可以是實際切縫數(shù) 量的整數(shù)倍。增加切縫位置的數(shù)量H可以提高拼接成圖像的平 行度。重復(fù)上述處理直到r^N為止,由此對數(shù)據(jù)進(jìn)行了重建。
      然后,圖像重建單元26將從數(shù)據(jù)收集單元25傳送來的圖像 背投至內(nèi)部3D存儲器空間。背投算法可以采用已知的技術(shù)。利 用濾波器校正背投處理,首先進(jìn)行將從數(shù)據(jù)收集單元25傳送來 的圖像的直接分量去除的濾波處理,之后基于通過數(shù)據(jù)收集所 獲得的幾何系統(tǒng)來對數(shù)據(jù)進(jìn)行背投。在前述說明中,已經(jīng)論述 了在將數(shù)據(jù)排序為平行數(shù)據(jù)之后進(jìn)行背投的重建方法,但該重 建方法不限于此,而還可以使用照原樣對扇數(shù)據(jù)進(jìn)行重建的直 接重建。
      如目前為止所述,根據(jù)第一實施例,可以針對構(gòu)成被檢體 區(qū)域的3 D空間收集高密度的投影數(shù)據(jù)。X射線束被同時構(gòu)建成 切縫狀,使得可以提高通過圖像處理的散射射線校正的精確度。 此外,通過圖像處理進(jìn)行散射射線校正消除了對散射射線校正 網(wǎng)格的需要,使得可以減少被檢體(病人)接受曝光的輻射量。
      第二實施例
      圖ri是示出根據(jù)第二實施例的x射線成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示例 的圖。在下文,將說明本實施例和第 一 實施例之間的不同之處。
      在第一實施例中,多X射線生成單元16和切縫單元17在它們的 相對位置關(guān)系相匹配的情況下滑動。然而,在第二實施例中, 多X射線生成單元16和切縫單元17滑動,使得它們的相對位置 關(guān)系改變。移動這些單元從而使它們的相對位置改變的目的在 于,增加照射被檢體的X射線束切片的方向的數(shù)量,由此提高重建圖像的圖像質(zhì)量。圖ll示出了假定多X射線生成單元16的 位置固定的情況下,當(dāng)切縫單元17位于(1)位置29和(2)位置30 時通過切縫的X射線束13。可以看出,發(fā)射了從構(gòu)成被檢體的 3D空間中的不同方向照射被檢體的X射線束13。此外,在第二 實施例中,多X射線生成單元16相對于二維4企測單元14移動了 與網(wǎng)格間距p相等的量,直到成像停止為止。切縫單元17相對于 多X射線生成單元16進(jìn)行往返運動。當(dāng)在該往返運動期間獲得X 射線數(shù)據(jù)時,可以沿不同的方向成像平行投影數(shù)據(jù)。因而,如 同第 一 實施例,可以收集并重建每例平行投影數(shù)據(jù)的圖像數(shù)據(jù)。
      盡管在圖ll中,僅在兩個相對位置、或(1)和(2)、中執(zhí)行X 射線曝光,但應(yīng)當(dāng)注意,存在多X射線生成單元16和切縫單元 17具有不同的相對位置關(guān)系的多個情況。換言之,還可以以三 個或更多個相對位置關(guān)系進(jìn)行X射線曝光。注意,移動與在切 縫的X方向上的間距間隔相等。此外,由于難以確保多X射線生 成單元16和切縫單元17的相對位置對于各X射線源12來說都相 同,因此使用照原樣對各個投影圖像進(jìn)行背投的直接方法來作 為重建算法。最終,相對位置的變化不限于多X射線生成單元 16滑動的方向,即4吏在與滑動方向垂直的方向中出現(xiàn)變化,也 可收集來自不同的照射角度的投影數(shù)據(jù)。
      如目前為止所述,根據(jù)第二實施例,可以針對構(gòu)成被檢體 區(qū)域的3D空間增加各種照射角的數(shù)量,使得能夠提高重建圖像 的分辨率和S/N比。
      上面已經(jīng)詳細(xì)說明了本發(fā)明的實施例,但本發(fā)明可以采用 系統(tǒng)、設(shè)備、方法、程序和存儲介質(zhì)等的形式。具體地,本發(fā) 明可應(yīng)用于包括多個裝置的系統(tǒng)或包括單個裝置的設(shè)備。
      注意,如下情況包括在本發(fā)明的范圍中通過直接或遠(yuǎn)程 地向系統(tǒng)或裝置提供軟件程序,并通過系統(tǒng)或裝置中的計算機(jī)讀出并執(zhí)行所提供的程序代碼,來實現(xiàn)前述實施例的功能。在 這種情況下,所提供的程序是與實施例中的附圖中表示的流程 圖相對應(yīng)的計算機(jī)程序。
      因此,安裝在計算機(jī)中以通過計算機(jī)實現(xiàn)本發(fā)明的功能性 處理的程序代碼自身也實現(xiàn)了本發(fā)明。換言之,用于實現(xiàn)本發(fā) 明的功能性處理的計算機(jī)程序自身也包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
      在這種情況下,可以使用通過解釋器執(zhí)行的程序或?qū)ο蟠?碼、提供至OS的腳本數(shù)據(jù)等,只要其具有程序的功能即可。
      可用于提供計算機(jī)程序的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)的例子包
      括軟盤(Floppy⑧disk)、硬盤、光盤、磁光盤、MO、 CD-ROM、 CD-R 、 CD-RW 、 磁帶、非易失性存儲卡、ROM和 DVD(DVD國ROM、 DVD-R)。
      可以給出以下作為用于提供程序的其它方法使用客戶計 算機(jī)的瀏覽器連接至因特網(wǎng)主頁并將本發(fā)明的計算機(jī)程序下載 至硬盤等的存儲介質(zhì)。在這種情況下,所下載的程序可以是包 括自動安裝功能的壓縮文件。此外,可以通過將構(gòu)成本發(fā)明的 程序的程序代碼分割成多個文件并從不同的主頁下載各文件來 實現(xiàn)該方法。換言之,允許多個用戶通過計算機(jī)下載用于實現(xiàn) 本發(fā)明的功能性處理的程序文件的WWW服務(wù)器也屬于本發(fā)明 的范圍。
      此外,可以對本發(fā)明的程序進(jìn)行加密,將其存儲器CD-ROM 等的存儲介質(zhì)中,并將其分發(fā)至用戶。在這種情況下,允許已 清除了預(yù)定條件的用戶經(jīng)由因特網(wǎng)從主頁下載用于清除密碼的 密鑰信息,使用該密鑰信息對程序進(jìn)行解密并將該程序安裝在 計算機(jī)上。
      此外,除通過1"吏用計算積j丸^f亍所加載的程序以外,還可以 通過基于程序的指令與運行在計算機(jī)上的OS等合作來實現(xiàn)實
      23施例的功能。在這種情況下,OS等進(jìn)行實際處理的部分或全部, 并且通過該處理實現(xiàn)上述實施例的功能。
      中的功能擴(kuò)展板或連接至計算機(jī)的功能擴(kuò)展單元的存儲器中, 可以部分或全部實現(xiàn)前述實施例的功能。在這種情況下,在已 將程序?qū)懭牍δ軘U(kuò)展板或功能擴(kuò)展單元之后,包括在功能擴(kuò)展 板或功能擴(kuò)展單元中的C P U等基于程序的指令進(jìn)行實際處理的 部分或全部。
      根據(jù)本發(fā)明,在使用多X射線源的X射線成像中,可以減少
      或消除出現(xiàn)在x射線源之間的間距間隔中的數(shù)據(jù)缺失區(qū)域,并
      且可以降低散射射線的影響。
      盡管已經(jīng)參考典型實施例說明了本發(fā)明,但是應(yīng)該理解, 本發(fā)明不限于所公開的典型實施例。所附權(quán)利要求書的范圍符 合最寬的解釋,以包含所有這類修改以及等同結(jié)構(gòu)和功能。
      權(quán)利要求
      1.一種X射線成像設(shè)備,包括多X射線生成部件,其中沿第一方向以預(yù)定間距呈二維狀布置有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所述切縫構(gòu)件與各X射線焦點分別相對布置并具有沿所述第一方向排列的多個切縫,每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形成為長度方向是不同于所述第一方向的第二方向的切片狀的X射線束;二維檢測部件,其在檢測面處檢測通過所述切縫部件而形成的X射線束的X射線強(qiáng)度;移動部件,其在保持所述多X射線生成部件和所述切縫部件之間的相對位置關(guān)系的情況下,沿所述第一方向移動所述多X射線生成部件和所述切縫部件;執(zhí)行部件,其在所述多X射線生成部件和所述切縫部件位于在通過所述移動部件被移動所述預(yù)定間距的量的過程中的多個位置處時,基于通過所述二維檢測部件所檢測到的X射線強(qiáng)度來執(zhí)行X射線成像,以獲得X射線圖像數(shù)據(jù);以及重建部件,其基于通過所述執(zhí)行部件執(zhí)行所述X射線成像所獲得的X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備,其特征在于, 所述重建部件包括排序部件,所述排序部件對每例平行數(shù)據(jù)的X射線圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行排序,其中所述平行數(shù)據(jù)為根據(jù)通過 所述多個切縫構(gòu)件中與所述X射線焦點的相對位置關(guān)系相同的 切縫而形成的X射線束所獲得的X射線圖像數(shù)據(jù);以及基于通過所述排序部件排序后的X射線圖像數(shù)據(jù),重建三 維圖像。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線成像設(shè)備,其特征在于,還包括校正部件,其從X射線圖像數(shù)據(jù)中去除散射射線的影響, 其中該X射線圖像數(shù)據(jù)是基于通過所述二維檢測部件檢觀'J從一 個X射線焦點發(fā)射出的且由與該X射線焦點相對的切縫構(gòu)件形 成的X射線束而獲得的X射線強(qiáng)度來執(zhí)行X攝像成像所獲得的,其中,所述重建部件使用通過所述校正部件校正后的X射 線圖像數(shù)據(jù)。
      4. 一種X射線成像設(shè)備,包括多X射線生成部件,其中沿第一方向以預(yù)定間距呈二維狀 布置有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所述切縫構(gòu)件與各 X射線焦點分別相對布置并具有沿所述第一方向排列的多個切 縫,每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形 成為長度方向是不同于所述第一方向的第二方向的切片狀的X射線束;二維纟企觀>j部件,其在#r測面處纟全測通過所述切縫部件而形 成的X射線束的X射線強(qiáng)度;移動部件,其在改變所述多X射線生成部件和所述切縫部 件之間的相對位置關(guān)系的情況下,沿所述第 一 方向移動所述多 X射線生成部件和所述切縫部件;執(zhí)行部件,其在所述多X射線生成部件和所述切縫部件位 于在通過所述移動部件被移動所述預(yù)定間距的量的過程中的多 個位置處時,基于通過所述二維檢測部件所檢測到的X射線強(qiáng) 度來執(zhí)行X射線成像,以獲得X射線圖像數(shù)據(jù);以及所獲得的X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      5. —種X射線成像設(shè)備的控制方法,所述X射線成像設(shè)備包括多X射線生成部件,其中沿第 一 方向以預(yù)定間距呈二維狀 布置有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所述切縫構(gòu)件與各 X射線焦點分別相對布置并具有沿所述第 一方向排列的多個切 縫,每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形 成為長度方向是不同于所述第一方向的第二方向的切片狀的X 射線束;以及二維枱,須'j部件,其在4全測面處#r測通過所述切縫部件而形 成的X射線束的X射線強(qiáng)度,所述控制方法包括以下步驟移動步驟,其在保持所述多X射線生成部件和所述切縫部 件之間的相對位置關(guān)系的情況下,沿所述第 一 方向移動所述多 X射線生成部件和所述切縫部件;執(zhí)行步驟,當(dāng)所述多X射線生成部件和所述切縫部件位于 在所述移動步驟中被移動所述預(yù)定間距的量的過程中的多個位 置處時,基于通過所述二維檢測部件所檢測到的X射線強(qiáng)度來 執(zhí)行X射線成像,以荻得X射線圖像數(shù)據(jù);以及基于通過在所述執(zhí)行步驟中執(zhí)行所述X射線成像所獲得的 X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      6. —種X射線成像設(shè)備的控制方法,所述X射線成像設(shè)備 包括多X射線生成部件,其中沿第 一 方向以預(yù)定間距呈二維狀 布置有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個所述切縫構(gòu)件與各 X射線焦點分別相對布置并具有沿所述第 一 方向排列的多個切 縫,每個所述切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形成為長度方向是不同于所述第一方向的第二方向的切片狀的x射線束;以及二維;險測部件,其在#r測面處4企測通過所述切縫部件而形 成的X射線束的X射線強(qiáng)度,所述控制方法包括以下步驟移動步驟,其在改變所述多X射線生成部件和所述切縫部 件之間的相對位置關(guān)系的情況下,沿所述第 一 方向移動所述多 X射線生成部件和所述切縫部件;執(zhí)行步驟,當(dāng)所述多X射線生成部件和所述切縫部件位于 在所述移動步驟中被移動所述預(yù)定間距的量的過程中的多個位 置處時,基于通過所述二維檢測部件所檢測到的X射線強(qiáng)度來 執(zhí)行X射線成像,以獲得X射線圖像數(shù)據(jù);以及基于通過在所述執(zhí)行步驟中執(zhí)行所述X射線成像所獲得的 X射線圖像數(shù)據(jù),來重建X射線圖像。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及X射線成像設(shè)備及其控制方法。該X射線成像設(shè)備包括多X射線生成部件,其中沿第一方向以預(yù)定間距呈二維狀布置有多個X射線焦點;切縫部件,其具有多個切縫構(gòu)件,每個切縫構(gòu)件與各X射線焦點分別相對布置并具有沿第一方向排列的多個切縫。每個切縫將來自與該切縫相對的X射線焦點的X射線形成為長度方向是不同于第一方向的第二方向的切片狀的X射線束。二維檢測部件在檢測面處檢測通過切縫部件而形成的X射線束的X射線強(qiáng)度。X射線成像設(shè)備在多X射線生成部件和切縫部件被移動預(yù)定間距的量的過程中的多個位置處時,基于所檢測到的X射線強(qiáng)度來執(zhí)行X射線成像,獲得X射線圖像數(shù)據(jù),以重建X射線圖像。
      文檔編號A61B6/02GK101536912SQ20091011949
      公開日2009年9月23日 申請日期2009年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月17日
      發(fā)明者土谷佳司, 奧貫昌彥, 辻井修 申請人:佳能株式會社
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