專利名稱：平面痕跡掃描系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于提取痕跡物證的掃描系統(tǒng)，特別涉及一種平面痕跡掃描
系統(tǒng)，其是采用光學(xué)非接觸技術(shù)無損提取痕跡物證。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，一般普遍采用的痕跡物證提取方法是照相機(jī)照相法、靜電吸附法和不干膠 粘附法。照相機(jī)照相法必須使用傾斜光照射，同時(shí)要求相機(jī)焦平面與痕跡表面平行，操作既 復(fù)雜，效果也不好，通常肉眼能夠觀察到的微弱痕跡物證往往不能用照相的方式拍攝清楚。 靜電吸附法對于粘附力小的顆粒效果明顯，如地面上的灰塵印痕，但對于粘附較牢固的客 體效果較差，如地面上的水漬印痕等。不干膠粘附法是將不干膠直接貼附于犯罪現(xiàn)場承痕 客體表面上，將顆粒粘附后利用痕跡與不干膠背景的差異提取痕跡物證。其缺點(diǎn)是常因貼 附時(shí)扭曲或地面不平坦等原因，粘取不到或遺漏掉原始痕跡，這會(huì)對痕跡物證造成不可逆 轉(zhuǎn)的損壞，使之失去法庭訴述的效力。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的是提供一種平面痕跡掃描系統(tǒng)，其根據(jù)平面痕跡物證提取 的要求，采用非接觸技術(shù)無損提取痕跡物證。
為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供一種平面痕跡掃描系統(tǒng)，其包括 —光學(xué)成像模塊，其設(shè)置于待測痕跡物證之上，用于傾斜照射所述待測痕跡物證，
并在對應(yīng)部位產(chǎn)生一反映痕跡物證信息的光信號； —光電轉(zhuǎn)換模塊，其與所述的光學(xué)成像模塊相連，將所述光學(xué)成像模塊產(chǎn)生的光 信號轉(zhuǎn)換成一電信號； —A/D轉(zhuǎn)換模塊，其將所述電信號轉(zhuǎn)換成為數(shù)字信號，并傳遞給計(jì)算機(jī)； —控制模塊，其與光學(xué)成像模塊相連，并控制所述光學(xué)成像模塊移動(dòng)，使全面掃描
所述待測痕跡物證。 較佳的實(shí)施方式中，所述光學(xué)成像模塊包括一光源、兩反射鏡、一鏡頭及一感光元 件；所述光源以一角度照射于所述待測痕跡物證，并通過所述兩反射鏡反射出一水平的光 線，該光線通過所述鏡頭匯聚到所述感光元件上。 較佳的實(shí)施方式中，所述的控制模塊包括一伺服電路、一步進(jìn)電機(jī)、一皮帶，所述 的伺服電路控制所述步進(jìn)電機(jī)，使所述步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述皮帶移動(dòng)，使所述光學(xué)成像模塊 沿著一預(yù)設(shè)導(dǎo)軌移動(dòng)，以掃描所述痕跡物證。 較佳的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)軌置于所述待測痕跡物證上方。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果在于 (1)以無損方式非破壞性提取痕跡物證，確保物證的法律效力。
(2)與照相法相比，提取的痕跡圖像與背景的反差更大，效果更佳。
(3)操作更簡便，減少操作人員帶來的誤差，確保圖像不失真。
3[0016] (4)易于實(shí)現(xiàn)痕跡物證圖像的標(biāo)準(zhǔn)化。
圖1是本實(shí)用新型平面痕跡掃描系統(tǒng)組成框圖； 圖2是本實(shí)用新型平面痕跡掃描系統(tǒng)中光學(xué)成像模塊示意圖； 圖3是本實(shí)用新型平面痕跡掃描系統(tǒng)一實(shí)施例組成框圖。 附圖標(biāo)記說明1-光學(xué)成像模塊；2-光電轉(zhuǎn)換模塊；3_A/D轉(zhuǎn)換模塊；4_控制模 塊；5-計(jì)算機(jī)；10-痕跡物證；ll-光源、121-第一反射鏡；122-第二反射鏡、13-鏡頭； 14-感光元件；15-玻璃；41-伺服電路；42-步進(jìn)電機(jī)；43_皮帶。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說明。 如圖l所示，是本實(shí)用新型平面痕跡掃描系統(tǒng)組成框圖；本實(shí)用新型的平面痕跡 掃描系統(tǒng)包括一光學(xué)成像模塊1、一光電轉(zhuǎn)換模塊2、一 A/D轉(zhuǎn)換模塊3及一控制模塊4。 如圖2所示，為光學(xué)成像模塊1組成示意圖，所述的光學(xué)成像模塊1放置于痕跡物 證IO之上，并保持一定距離(一般小于lcm)，在光學(xué)成像模塊1前裝設(shè)一玻璃15，以防止落 入灰塵，所述的光學(xué)成像模塊1可包括一光源11、反射鏡121U22、鏡頭13及感光元件14。 所述光源11是以一定角度照射待檢測的痕跡物證IO，使痕跡物證10與承載客體的背景之 間產(chǎn)生亮度反差，并通過第一反射鏡121及第二反射鏡122反射具有亮度反差的光線，使之 呈水平狀態(tài)，該光線通過鏡頭13匯聚到所述感光元件14上。此時(shí)，感光元件14接收到痕 跡物證10反射的光信號，并通過光電轉(zhuǎn)換模塊2轉(zhuǎn)換為一電信號。 所述光電轉(zhuǎn)換模塊2，其與所述的光學(xué)成像模塊1相連，照射到感光元件14上的光 通過所述光電轉(zhuǎn)換模塊2轉(zhuǎn)換為電信號，轉(zhuǎn)換后的所述的電信號為一模擬信號，需經(jīng)一A/D 轉(zhuǎn)換模塊3將此模擬信號轉(zhuǎn)換為一數(shù)字信號，然后將此數(shù)字信號傳輸?shù)接?jì)算機(jī)5，通過計(jì)算 機(jī)5將此數(shù)字信號進(jìn)行處理，即可得此痕跡物證的圖像。 所述的控制模塊4，用于控制所述光學(xué)成像模塊1移動(dòng)，如圖3所示，所述的控制模 塊4可包括一伺服電路41、一步進(jìn)電機(jī)42、一皮帶43。所述的伺服電路41發(fā)出指令控制步 進(jìn)電機(jī)42，使步進(jìn)電機(jī)42驅(qū)動(dòng)皮帶43動(dòng)作，使光學(xué)成像模塊1沿著一預(yù)設(shè)導(dǎo)軌進(jìn)行移動(dòng)， 光學(xué)成像模塊逐行對痕跡物證進(jìn)行掃描，并將此物證的信息傳遞給計(jì)算機(jī)5，由計(jì)算機(jī)5進(jìn) 行處理，以得到此痕跡物證10的全圖準(zhǔn)確信息。上述的預(yù)設(shè)導(dǎo)軌設(shè)置于痕跡物證10的上 方，以全面清晰地掃描所述痕跡物證10。 綜上所述，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)點(diǎn) 1、本實(shí)用新型是以無損方式非破壞性提取痕跡物證，確保物證的法律效力。 2、與照相法相比，提取的痕跡圖像與背景的反差更大，效果更佳。 3、操作更簡便，減少操作人員帶來的誤差，確保圖像不失真。 4、易于實(shí)現(xiàn)痕跡物證圖像的標(biāo)準(zhǔn)化。 以上說明對本實(shí)用新型而言只是說明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員 理解，在不脫離以下所附權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可做出許多修改，變化，
或等效，但都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種平面痕跡掃描系統(tǒng)，其特征在于，其包括一光學(xué)成像模塊，其設(shè)置于待測痕跡物證之上，用于傾斜照射所述待測痕跡物證，并產(chǎn)生一反映痕跡物證信息的光信號；一光電轉(zhuǎn)換模塊，其與所述的光學(xué)成像模塊相連，將所述光學(xué)成像模塊產(chǎn)生的光信號轉(zhuǎn)換成一電信號；一A/D轉(zhuǎn)換模塊，其將所述電信號轉(zhuǎn)換成為數(shù)字信號，并傳遞給計(jì)算機(jī)；一控制模塊，其與光學(xué)成像模塊相連，并控制所述光學(xué)成像模塊移動(dòng)，使全面掃描所述待測痕跡物證。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面痕跡掃描系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)成像模塊包括一 光源、兩反射鏡、一鏡頭及一感光元件；所述光源以一角度傾斜照射于所述待測痕跡物證， 并通過所述兩反射鏡反射出一水平的光線，該光線通過所述鏡頭匯聚到所述感光元件上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面痕跡掃描系統(tǒng)，其特征在于，所述的控制模塊包括一伺 服電路、一步進(jìn)電機(jī)、一皮帶，所述的伺服電路控制所述步進(jìn)電機(jī)，使所述步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所 述皮帶移動(dòng)，使所述光學(xué)成像模塊沿著一預(yù)設(shè)導(dǎo)軌移動(dòng)，以掃描所述痕跡物證。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面痕跡掃描系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)軌置于所述待測痕 跡物證上方。
專利摘要本實(shí)用新型是一種平面痕跡掃描系統(tǒng)，其包括一光學(xué)成像模塊，其設(shè)置于待測痕跡物證之上，用于傾斜照射所述待測痕跡物證，并產(chǎn)生一反映痕跡物證信息的光信號；一光電轉(zhuǎn)換模塊，其與所述的光學(xué)成像模塊相連，將所述光學(xué)成像模塊產(chǎn)生的光信號轉(zhuǎn)換成一電信號；一A/D轉(zhuǎn)換模塊，其將所述電信號轉(zhuǎn)換成為數(shù)字信號，并傳遞給計(jì)算機(jī)；一控制模塊，其與光學(xué)成像模塊相連，并控制所述光學(xué)成像模塊移動(dòng)，使全面掃描所述待測痕跡物證。
文檔編號A61B5/117GK201481417SQ20092017295
公開日2010年5月26日 申請日期2009年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月17日
發(fā)明者劉晉, 司書春, 胡書良 申請人:劉晉;司書春