專利名稱:離子發(fā)生裝置及具備該裝置的美容裝置的制作方法
技術(shù)領域:
本發(fā)明涉及離子發(fā)生裝置及具備該離子發(fā)生裝置的美容裝置,該離子發(fā)生裝置具 有離子放射用的第1電極和低電位方的第2電極,基于對第1電極施加高電壓使兩個電極 間產(chǎn)生放電來發(fā)生離子。
背景技術(shù):
這種離子發(fā)生裝置例如專利文獻1及專利文獻2所示,具有離子放射用的針電極 (第1電極)和與接地所連接的對置電極(第2電極),基于對針電極施加負的高電壓使兩 個電極間產(chǎn)生電暈放電,基于該放電來發(fā)生負離子。專利文獻1日本特開2003-74926號公報專利文獻2日本特開2003-159305號公報可是,所發(fā)生的負離子被電位比針電極低(接地電位)的對置電極吸引,利用該力 并經(jīng)過對置電極向外部噴出(放射)。也就是說,未被對置電極吸引的該負離子的剩余才向 外部噴出。但是,就現(xiàn)有的裝置而言該課題為,因為所發(fā)生的負離子大多數(shù)被對置電極吸引, 所以在負離子在電極部內(nèi)發(fā)生量的比例上,向外部的噴出量較少。因此,在想要使所發(fā)生的 負離子附著于人體的對象部位獲得該效果的美容裝置等中,為了獲得充分的效果需要生成 很多的負離子。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述課題而做出的,其目的在于提供離子發(fā)生裝置及具備該離 子發(fā)生裝置的美容裝置,該離子發(fā)生裝置可以使向外部的噴出量相對于離子發(fā)生量增加。為了解決上述課題,本申請的第一技術(shù)方案所述的發(fā)明是一種離子發(fā)生裝置,具 有離子放射用的第1電極和低電位方的第2電極,基于對上述第1電極施加高電壓使兩個 電極間產(chǎn)生放電來發(fā)生離子,其特征為,具備電位設定機構(gòu),將上述第2電極設定為上述第 1電極的電位與接地電位之間的電位。根據(jù)本發(fā)明,因為具備電位設定機構(gòu),所以和離子放射用的第1電極成對設置的 第2電極被設定為比接地電位高的電位。據(jù)此,雖然因為兩個電極的電位差變小,所以離子 發(fā)生量被抑制,但是由于可以減少從第1電極朝向第2電極的離子對該第2電極的附著量, 因而能夠增大向外部的離子噴出量。本申請的第二技術(shù)方案所述的發(fā)明其特征為,在本申請的第一技術(shù)方案所述的離 子發(fā)生裝置中,上述電位設定機構(gòu)由連接于上述第2電極和接地之間的電阻構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明,可以采用連接于第2電極和接地之間的電阻簡單地構(gòu)成提高該第2 電極電位的電位設定機構(gòu),用簡單的電路結(jié)構(gòu)就能夠?qū)崿F(xiàn)。本申請的第三技術(shù)方案所述的發(fā)明是具備本申請的第一技術(shù)方案或第二技術(shù)方 案所述的離子發(fā)生裝置的美容裝置。
根據(jù)本發(fā)明,可以提供一種美容裝置,能夠通過具備的離子發(fā)生裝置,實現(xiàn)效率優(yōu)良的離子噴出。根據(jù)本發(fā)明,可以提供離子發(fā)生裝置及具備該離子發(fā)生裝置的美容裝置,該離子 發(fā)生裝置可以使向外部的噴出量相對于離子發(fā)生量增加。
圖1是表示本實施方式中的美容器的斜視圖。圖2是將同一美容器按前后方向剖開從右側(cè)看到的剖面圖。圖3是將同一美容器按左右方向剖開從背面一側(cè)看到的剖面圖。圖4是同一美容器負離子生成部部分的放大剖面圖。圖5是表示同一美容器功能的概略結(jié)構(gòu)的框圖。圖6是表示同一美容器負離子生成電路的電路圖,(a)是表示本實施方式中的結(jié) 構(gòu)的電路圖,(b)是表示別的結(jié)構(gòu)的電路圖。圖7(a) (C)是說明同一美容器的負離子效果所用的測量圖。符號說明10…美容器(美容裝置),63…針電極(第1電極),64…對置電極(第2電極), 73…負離子生成電路(離子發(fā)生裝置),75…電阻(電位設定機構(gòu)),76…電位設定電路(電 位設定機構(gòu))。
具體實施例方式下面,按照
將本發(fā)明具體化后的一個實施方式。圖1表示具備本實施方式離子發(fā)生裝置的作為美容裝置的美容器10。在有底大致 圓筒狀的主體機殼11內(nèi)收存并固定美容器主體12,在和該主體機殼11的開口部形成一面 的美容器主體12的上面設置噴嘴部13及開關部14。具有噴嘴部13及開關部14的美容器 主體12的上面能夠通過主體蓋15將其外露·遮蔽,該主體蓋15安裝成對主體機殼11能 夠開閉(可掀動)。噴嘴部13設置在美容器主體12的上面中央,具有一對蒸汽噴嘴21、22,噴出蒸 汽(熱噴霧);噴霧噴嘴23,噴出冷噴霧;離子噴嘴24,噴出負離子;噴霧噴嘴23、蒸汽噴嘴 21、22和離子噴嘴24分別配置在左右方向中央位置、其左右兩側(cè)和噴霧噴嘴23的上方。蒸 汽噴嘴21、22、噴霧噴嘴23及離子噴嘴24的各噴出方向被設定為朝向前方斜上方的同一方 向,并且設定為,象美容器10的前方和使用者相對的那樣使用時噴出方向朝向該使用者的 臉部表面。還有,噴嘴部13為可掀動調(diào)整的結(jié)構(gòu),各噴嘴21 24的噴出角度能夠整體調(diào) 整。另外,在該噴嘴部13上還安裝噴嘴蓋16使之能夠開閉(可掀動),通過該開閉能夠?qū)?各噴嘴21 24外露·遮蔽。另外,在噴嘴部13的近前右側(cè)作為開關部14,設有分別由按鈕開關構(gòu)成的電源開 關25、運行控制開關26及過程選擇開關27。電源開關25用來執(zhí)行美容器10的開啟關閉 操作,運行控制開關26及程序選擇開關27用來通過該操作,執(zhí)行各種過程的選擇及該決定 (動作開始),該各種過程包括組合蒸汽和冷噴霧將其朝向?qū)ο篌w噴出的過程,以及只噴出 蒸汽的過程等等。
另外,在噴嘴部13的左側(cè),設有從美容器12的上面凹進設置的罐收存部17,在該 罐收存部17內(nèi)可拆裝地收存供水罐18,使之和開口部成為一面。供水罐18能夠由使用者 從美容器10卸下,進行供水,從所積存的水實施蒸汽或冷噴霧各自的生成。 在美容器主體12中如圖2所示,具備蒸汽生成部31、噴霧生成部32及負離子生成 部33。蒸汽生成部31具備于美容器主體12的前方,生成蒸汽(熱噴霧)。蒸汽生成部 31分別在前方和后方具備PTC(Positive Temperature Coefficient/正溫度系數(shù))加熱 器35、36,該加熱器35、36基于驅(qū)動電流的供應進行發(fā)熱,具有該發(fā)熱的自控制功能;使從 供水罐18經(jīng)由供水管道19供應到PTC加熱器35、36內(nèi)側(cè)的鍋爐室37內(nèi)的水沸騰,來實施 蒸汽的生成。順便而言,在前方PTC加熱器35的外側(cè)面上,使從供水罐18伸出的供水管道 19 一部分抵接而配置,致使在向鍋爐室37的流入之前進行加熱,在該鍋爐室37內(nèi)效率良 好地生成蒸汽。還有,供水管道19經(jīng)由排水管道38 (參見圖5)連接到美容器10的排水口 38a上,能夠通過由排水開關的操作來控制的排水管道38上的止水閥39,進行美容器10內(nèi) 的排水。在鍋爐室37的上部如圖2及圖3所示,連接著蒸汽導向管道41,用來把所生成的 蒸汽引導到一對蒸汽噴嘴21、22。蒸汽導向管道41在中間具有分路部42,從該分路部42朝 向各蒸汽噴嘴21、22按等距離被分成二股,把在鍋爐室37中所生成的蒸汽分別引導到各蒸 汽噴嘴21、22。而且,因為鍋爐室37和蒸汽導向管道41內(nèi)為高壓,所以從各蒸汽噴嘴21、 22的噴出孔開始以某種程度的強度噴出蒸汽。另外,在蒸汽導向管道41的分路部42稍稍近前位置上,具備蒸汽用放電部43,具 有放電電極43a。蒸汽用放電部43用來通過自身的放電,使經(jīng)過該放電部43的蒸汽進一步 微細化。另外,對于該蒸汽用放電部43來說,要使用有抗氧化作用并且適于皮膚的金屬(例 如白金),還利用放電使之發(fā)生該金屬微粒子,實現(xiàn)蒸汽的微細化和金屬微粒子的含有。在 蒸汽用放電部43的下游方且分路部42的正前位置上,具備整流部44,對由該放電部43微 細化后的蒸汽進行整流,以便從分路部42向前面的各蒸汽噴嘴21、22按同量進行分路(參 見圖3及圖5)。噴霧生成部32具備于比上述蒸汽生成部31更靠后方,利用文丘里(Venturi)效 應來生成冷噴霧。從供水罐18伸出的供水管道19內(nèi)的水除了作為上述蒸汽生成來利用之 夕卜,還作為冷噴霧加以利用,并且具備送水管道51,將來自該供水管道19的水一部分輸送 到噴霧噴嘴23。送水管道51的一部分在后方PTC加熱器36散熱面(垂直面)36a的平面 方向上曲折前行,使之與該散熱面36a抵接進行了配置,通過上述蒸汽生成時后方PTC加熱 器36的加熱還實施送水管道51內(nèi)冷噴霧用水的殺菌。還有,在送水管道51的噴霧噴嘴23 正前位置上,在該管內(nèi)安裝過濾器52,實施經(jīng)過的水的除塵等。另外,作為噴霧生成部32,在美容器主體12內(nèi)設有空氣加壓輸送通路53,在該空 氣壓送通路53內(nèi)通過以電動機為驅(qū)動源的泵54的動作,實施空氣的壓送。該壓送空氣朝 向噴霧噴嘴23的噴出孔進行供應,因在噴出孔近前使之和送水管道51內(nèi)的水匯合而產(chǎn)生 文丘里效應,和加壓輸送空氣一起,吸出送水管道51內(nèi)的水,生成冷噴霧并噴出。負離子生成部33如圖2及圖4所示,具備于噴嘴部13內(nèi),使之發(fā)生電暈放電來生 成負離子。離子生成部33在噴嘴部13的離子噴嘴24上形成的收存凹部24a內(nèi)收存并保持組件化后的負離子放電部61。離子放電部61對于為了在該收存凹部24a內(nèi)收存并保持 而形成指定形狀的電極夾62,支承針電極63,并且在針電極63的前端一側(cè)支承圓環(huán)狀的對 置電極64來構(gòu)成,以便圓環(huán)狀的中心位于該針電極63的軸線上。在針電極63和對置電極 64上分別連接導線65,從電極夾62將其導出,連接到美容器主體12上面旁邊的控制電路 基板71上。
順便而言,在該離子生成部33 (離子放電部61)中,針電極63周圍的空間X2只是 向外部的開放,該針電極63周圍的空間X2和美容器主體12內(nèi)的空間Xl已被隔開。這里, 若美容器主體12內(nèi)的空間Xl里設置的使用硅材料的構(gòu)件(例如送水管道51的一部分等) 由PTC加熱器35、36之類的熱源進行了加熱,則在該空間Xl內(nèi)硅發(fā)生懸浮,若該懸浮硅隨 著加熱后美容器主體12內(nèi)的空氣附著到針電極63上,則妨礙電暈放電,產(chǎn)生負離子的發(fā)生 量減少的狀況。另外,同樣隨著空氣,美容器主體12內(nèi)的灰塵也易于附著在針電極63上。 因此,通過將針電極63周圍的空間X2和美容器主體12內(nèi)的空間Xl隔開,就能防止在美容 器主體12內(nèi)產(chǎn)生的懸浮硅或灰塵等異物往針電極63周圍的空間X2的進入,對針電極63 的異物附著被防止于未然。控制電路基板71通過電源軟線70(參見圖1)從外部接受電源供應,根據(jù)由搭載 于基板71上的各種電路部件構(gòu)成的控制電路72的控制,給蒸汽生成部31、噴霧生成部31 及離子生成部33的各自供應動作電源。如圖5所示,控制電路72基于電源開關25的開啟 關閉操作,執(zhí)行美容器10的可動作狀態(tài)和停止狀態(tài)之間的轉(zhuǎn)換,在可動作狀態(tài)下根據(jù)由運 行控制開關26及過程選擇開關27的組合操作而來的各種使用程序設定,來控制蒸汽生成 部31 (PTC加熱器35、36、蒸汽用放電部43等)和噴霧生成部32 (泵54等)的動作,另外, 還使離子生成部33 (離子放電部61)和前面各生成部31、32的動作配合,進行動作。另外,在控制電路基板71上,構(gòu)成圖6所示的那種負離子生成電路73。在離子生成 電路73中具備離子放電用電源電路74,生成例如向負方升壓到-5[kV]的直流電壓;對離 子放電部61的針電極63施加該升壓電壓。另一方面,對置電極64例如經(jīng)由2[GQ]的電阻 75連接于接地(GND)上,由電阻75設定出其電位,使之成為例如-3[kV]的電位,該_3[kV] 的電位是接地電位和針電極63的電位的中間電位。還有,如圖6(b)所示,也可以取代電阻 75而使用下述電位設定電路76,來設定對置電極64的電位,該電位設定電路76使用電源 來生成電壓。而且,在負離子生成時,若對針電極63施加了高電壓,則利用和對置電極64之間 的電位差,在針電極63的前端周圍發(fā)生電暈放電,發(fā)生負離子。所發(fā)生的負離子被比針電 極63更低電位的對置電極64吸引,不在對置電極64上附著的部分朝向離子噴嘴24的外 部噴出。此時,針電極63和對置電極64之間的電位差為_2[kV],與將對置電極64設為接 地電位的情形(電位差為_5[kV])相比電位差進一步變小,負離子的發(fā)生量本身減少。對 此,因為對置電極64的電位與接地電位相比得到進一步提高,所以與將對置電極64設為接 地電位的情形相比對對置電極64的附著量進一步減少,向外部的噴出量增加。這里,圖7(a)表示出電阻75的電阻值和帶電電流之間的關系,表示出將到達對象 物的負離子量作為帶電電流測量后的結(jié)果。具體而言,在對象物上例如使用鋁板,由于因負 離子的附著而向該鋁板流動帶電電流,因而可以測量到達對象物的負離子量,帶電電流越大,意味著到達對象物的負離子量,也就是負離子的噴出量越多。根據(jù)同圖7 (a),在將電阻75的電阻值設為0 [G Ω ],也就是說將對置電極64象以往那樣設為接地電位的情況下,帶電電流較小。在電阻值為0[GQ] 1[GQ]的范圍內(nèi),伴 隨其電阻值的增加,帶電電流增加,并且其增加程度也較大。在電阻值比1[GQ]大的范圍 內(nèi),雖然伴隨電阻值的增加,帶電電流的增加程度其本身變小,但是該帶電電流即便較少, 在電阻值達到5[GQ]之前也大致一定地增加。也就是說,判明若增大了電阻75的電阻值, 使對置電極64的電位比接地電位更高(在比針電極63的電位低的范圍內(nèi)),則負離子的噴 出量增加。加之,如上所述若提高了對置電極64的電位,則如圖7(c)所示,針電極63和對 置電極64之間的放電電流變小。特別是在電阻值達到1[GQ]之前放電電流減少得較大。 據(jù)此,如圖7(b)所示,因為該放電電流而發(fā)生的臭氧量也減少,特別是在電阻值稍稍超過 0.5[6Ω]的附近之前臭氧發(fā)生量仍減少得較大。據(jù)此,判明因為為了使負離子的噴出量增 加而提高對置電極64的電位,所以還可以抑制使使用者感到臭氣的臭氧發(fā)生。根據(jù)這些結(jié)果,在本實施方式的美容器10所具備的離子生成部33 (離子放電部 61)中,通過將電阻75的電阻值適當設定為例如1 3GQ或2G Ω,提高對置電極64的電 位,就能尋求負離子噴出量的增加,另外,還能謀求因放電而產(chǎn)生的臭氧發(fā)生量的減低。下面,記述本實施方式的特征性作用效果。(1)在本實施方式中,在負離子生成部73中具備電阻75,將和離子放射用的針電 極63成對設置的對置電極64設定為比接地電位高的電位(在比針電極63的電位低的范 圍內(nèi))。據(jù)此,雖然因為兩個電極63、64間的電位差變小,所以離子發(fā)生量被抑制,但是由于 可以減低從針電極63朝向?qū)χ秒姌O64的離子對該對置電極64的附著量,因而可以使向外 部的離子噴出量增大。因此,作為美容器10,可以效率良好地實施向使用者臉部表面等的離 子噴出,能夠期望利用離子附著的美容效果的提高。另外,因為通過提高對置電極64的電 位,放電電流得到抑制,所以還可以抑制使使用者感到臭氣的臭氧發(fā)生。(2)在本實施方式中,可以采用連接于該對置電極64和接地之間的電阻75,來簡 單地構(gòu)成提高對置電極64電位的電位設定機構(gòu),用簡單的電路結(jié)構(gòu)就能夠?qū)崿F(xiàn)離子生成 電路73的電路結(jié)構(gòu)。還有,本發(fā)明的實施方式也可以如下進行變更?!ぜ瓤梢赃m當變更上述實施方式美容器10的結(jié)構(gòu),另外,還可以在離子發(fā)生裝置 (離子生成電路73)中生成正離子?!ぴ谏鲜鰧嵤┓绞街?,雖然使用到美容器10所搭載的離子發(fā)生裝置(離子生成電 路73)中,但是也可以使用于搭載離子發(fā)生裝置的干發(fā)器、梳發(fā)器、燙發(fā)器等頭發(fā)·頭皮護 理裝置或空氣清新機之類的其他美容裝置。
權(quán)利要求
一種離子發(fā)生裝置,具有離子放射用的第1電極和低電位方的第2電極,基于對上述第1電極施加高電壓使兩個電極間產(chǎn)生放電來發(fā)生離子,其特征為,具備電位設定機構(gòu),將上述第2電極設定為上述第1電極的電位與接地電位之間的電位。
2.如權(quán)利要求1所述的離子發(fā)生裝置,其特征為,上述電位設定機構(gòu)由連接于上述第2電極和接地之間的電阻構(gòu)成。
3.一種美容裝置,其特征為,具備權(quán)利要求1或2所述的離子發(fā)生裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種離子發(fā)生裝置及具備該離子發(fā)生裝置的美容裝置,可以使向外部的噴出量相對于離子發(fā)生量增加。在負離子生成電路(73)中,具備電阻(75),將和離子放射用的針電極(63)成對設置的對置電極(64)設定為比接地電位高的指定電位。
文檔編號A61N1/44GK101804244SQ201010121268
公開日2010年8月18日 申請日期2010年2月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月16日
發(fā)明者谷口真一 申請人:松下電工株式會社