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      足型量測裝置的制作方法

      文檔序號:961659閱讀:155來源:國知局
      專利名稱:足型量測裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種足型量測裝置,尤指一種可讓被測者站立于足形量測區(qū)使反 射單元映像出其足形影像,并利用影像擷取機構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像與足壓,以 作為醫(yī)學(xué)判斷,而達到判斷誤差小、量測精準(zhǔn)度佳以及可實時量測的功效。
      背景技術(shù)
      一般于醫(yī)療行為上進行足型量測時,通常是以一可壓印出足部形狀的模型(如石 膏?;蚬枘z記憶軟墊)作為被測者的足形轉(zhuǎn)印,并于足形定型之后,讓相關(guān)的醫(yī)療人員以模 型上的足印作為醫(yī)學(xué)的判斷與分析。由于以現(xiàn)有的模型取得被測者的足形時,是讓被測者直接踩在模型上待模型定型 后,再藉由該模型上所壓印出的足形作為醫(yī)學(xué)的判斷與分析,因此,常會因為被測者站立于 模型上的施力不均或偏移,而使得模型上轉(zhuǎn)印的足形產(chǎn)生有相當(dāng)程度的偏差,進而導(dǎo)致相 關(guān)醫(yī)療人員于進行醫(yī)學(xué)判斷時會產(chǎn)生較大的誤差,使分析的精準(zhǔn)度較差,且當(dāng)現(xiàn)有的模型 于定型時通常需要一段時間,故造成無法實時量測的情形。
      發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種足型量 測裝置,可讓被測者以靜態(tài)或動態(tài)方式站立于足形量測區(qū),而使反射單元映像出其足形影 像與足壓,并利用影像擷取機構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像,以作為醫(yī)學(xué)判斷,而達到判 斷誤差小、量測精準(zhǔn)度佳以及可實時量測的功效。為了解決上述技術(shù)問題,本實用新型所采用的技術(shù)方案是一種足型量測裝置,其 特點是該裝置包括殼體、至少一足形量測區(qū)、反射單元、及影像擷取機構(gòu),該殼體具有一 容置區(qū);該足形量測區(qū)設(shè)于殼體的一面上;該反射單元設(shè)于容置區(qū)底面且與足形量測區(qū)對 應(yīng);該影像擷取機構(gòu)設(shè)于殼體上且對應(yīng)反射單元。如此,可讓被測者以靜態(tài)或動態(tài)方式站立于足形量測區(qū)使反射單元映像出其足形 影像,并利用影像擷取機構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像,以作為醫(yī)學(xué)判斷,而達到判斷誤 差小、量測精準(zhǔn)度佳以及可實時量測的功效。


      圖1是本實用新型第一實施例的立體外觀示意圖。圖2是本實用新型第一實施例的剖面狀態(tài)示意圖。圖3是本實用新型第一實施例的使用狀態(tài)示意圖。圖4是本實用新型第一實施例的另一使用狀態(tài)示意圖。圖5是本實用新型第二實施例的示意圖。圖6是本實用新型第三實施例的示意圖。標(biāo)號說明殼體1容置區(qū)1 1
      3[0016]框體 1 2軟墊 1 3凸體 1 3 1發(fā)光單元1 5反射單元3
      軸板1 2 1 軟墊1 3 a 樞接部1 4 足形量測區(qū)2
      影像擷取機構(gòu)4發(fā)光單元4 具體實施方式
      請參閱圖1及圖2所示,分別為本實用新型第一實施例的立體外觀示意圖及剖面 狀態(tài)示意圖。如圖所示本實用新型為一種足型量測裝置,其至少由一殼體1、至少一足形 量測區(qū)2、一反射單元3以及一影像擷取機構(gòu)4所構(gòu)成。上述所提的殼體1具有一容置區(qū)1 1,且該殼體1 一面的兩外側(cè)活動設(shè)有一框體 1 2,各框體1 2上分別設(shè)有一軟墊1 3 (如將各軟墊1 3拉撐后固定于框架1 2上), 各軟墊1 3可為一平面狀,或依所需于各軟墊1 3的一面上布設(shè)有數(shù)個凸體1 3 1,而 該殼體1上分別設(shè)有與各框體1 2活動結(jié)合的樞接部1 4,并于各框體1 2分別以軸板 1 2 1與樞接部1 4對接。各足形量測區(qū)2相鄰設(shè)于殼體1的一面上,且各足形量測區(qū)2為可透光的強化玻 璃,且其透明度介于100% 20%。該反射單元3設(shè)于容置區(qū)1 1底面且與足形量測區(qū)2對應(yīng),而該反射單元3可為 反射鏡。該影像擷取機構(gòu)4設(shè)于殼體1之上的二足形量測區(qū)2之間且對應(yīng)反射單元3。如 是,藉由上述結(jié)構(gòu)構(gòu)成一全新的足型量測裝置。請參閱圖3及圖4所示,分別為本實用新型第一實施例的使用狀態(tài)示意圖及另一 使用狀態(tài)示意圖。如圖所示當(dāng)本實用新型于使用時(同時配合參閱圖1),可翻開各框體 1 2使軟墊1 3遠(yuǎn)離各足形量測區(qū)2,此時被測者的雙足即可以靜態(tài)(如站立不動),或 動態(tài)(如原地行走或行走)的方式于各足形量測區(qū)2上進行量測,而讓被測者的雙足影 像映像于反射單元3上,進而利用影像擷取機構(gòu)4擷取該反射單元3上所呈現(xiàn)的足形影像 并配合相關(guān)的軟件進行校正形變,藉以作為醫(yī)學(xué)判斷與所需的分析。另外亦可將各框體1 2往各足形量測區(qū)2蓋合,而使各軟墊1 3對應(yīng)于各足形量 測區(qū)2上,此時被測者的雙足即可以靜態(tài)或動態(tài)方式施力于各軟墊1 3上,使各軟墊1 3 上的數(shù)個凸體1 3 1因受足部的壓力而產(chǎn)生不同的形狀及顏色的變化,而讓該形狀變化的 影像映像于反射單元3上,并利用影像擷取機構(gòu)4擷取該反射單元3上所呈現(xiàn)的影像并配 合相關(guān)的軟件進行施力狀態(tài)的分布,藉以作為醫(yī)學(xué)的判斷與所需的分析。請參閱圖5所示,為本實用新型第二實施例的示意圖。如圖所示本實用新型除上 述第一實施例結(jié)構(gòu)型態(tài)之外,亦可為本第二實施例的結(jié)構(gòu)型態(tài),而其所不同之處在于,各軟 墊1 3a分別活動貼覆于二足形量測區(qū)2的一面上;如此,可使各軟墊1 3a于足形量測區(qū) 2上直接進行貼覆或移除的動作,以使本實用新型能更符合實際使用時所需。請參閱圖6所示,為本實用新型第三實施例的示意圖。如圖所示本實用新型除上 述第一及第二實施例所提結(jié)構(gòu)型態(tài)之外,亦可為本第三實施例的結(jié)構(gòu)型態(tài),而其所不同之 處在于,該容置區(qū)1 1中可具有設(shè)于反射單元3周緣的發(fā)光單元1 5,且于該影像擷取機構(gòu)4的周緣可設(shè)有發(fā)光單元4 1,而各發(fā)光單元1 5、4 1可單獨或同時存在,藉以于影像 擷取機構(gòu)4擷取影像時,利用各發(fā)光單元1 5、4 1作為輔助光源(補光)之用,進而使本實 用新型能更符合實際使用時所需。 綜上所述,本實用新型足型量測裝置可有效改善現(xiàn)有技術(shù)的種種缺點,可讓被測 者以靜態(tài)或動態(tài)方式站立于足形量測區(qū)使反射單元映像出其足形影像,并利用影像擷取機 構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像,以作為醫(yī)學(xué)判斷,而達到判斷誤差小、量測精準(zhǔn)度佳以及 可實時量測的功效。
      權(quán)利要求一種足型量測裝置,其特征在于該裝置包括殼體、至少一足形量測區(qū)、反射單元、及影像擷取機構(gòu),該殼體具有一容置區(qū);該足形量測區(qū)設(shè)于殼體的一面上;該反射單元設(shè)于容置區(qū)底面且與足形量測區(qū)對應(yīng);該影像擷取機構(gòu)設(shè)于殼體上且對應(yīng)反射單元。
      2.如權(quán)利要求1所述的足型量測裝置,其特征在于所述殼體的一面上設(shè)有二相鄰的 足形量測區(qū),而該影像擷取機構(gòu)設(shè)于二足形量測區(qū)之間,且該殼體于鄰近足形量測區(qū)的兩 外側(cè)活動設(shè)有一框體,各框體上分別設(shè)有一軟墊。
      3.如權(quán)利要求2所述的足型量測裝置,其特征在于所述各軟墊為平面狀。
      4.如權(quán)利要求2所述的足型量測裝置,其特征在于所述各軟墊的一面上布設(shè)有數(shù)個 凸體。
      5.如權(quán)利要求2所述的足型量測裝置,其特征在于所述殼體上分別設(shè)有與框體活動 結(jié)合的樞接部,而各框體分別以軸板與樞接部對接。
      6.如權(quán)利要求1所述的足型量測裝置,其特征在于所述殼體的一面上設(shè)有二相鄰的 足形量測區(qū),而該影像擷取機構(gòu)設(shè)于二足形量測區(qū)之間,且各足形量測區(qū)上分別活動貼覆 有一軟墊,并于各軟墊的一面上布設(shè)有數(shù)個凸體。
      7.如權(quán)利要求1所述的足型量測裝置,其特征在于所述容置區(qū)中設(shè)有發(fā)光單元。
      8.如權(quán)利要求1所述的足型量測裝置,其特征在于所述足形量測區(qū)為可透光的強化 玻璃,且其透明度介于100% 20%。
      9.如權(quán)利要求1所述的足型量測裝置,其特征在于所述反射單元為反射鏡。
      10.如權(quán)利要求1所述的足型量測裝置,其特征在于所述影像擷取機構(gòu)的周緣設(shè)有發(fā) 光單元。
      專利摘要一種足型量測裝置,包含一具有容置區(qū)的殼體;至少一設(shè)于殼體一面上的足形量測區(qū);一設(shè)于容置區(qū)底面且與足形量測區(qū)對應(yīng)的反射單元;以及一設(shè)于殼體上且對應(yīng)反射單元的影像擷取機構(gòu)。藉此,可讓被測者以靜態(tài)量測或動態(tài)方式站立于足形量測區(qū),而使反射單元映像出其足形影像,并利用影像擷取機構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像與足壓,以作為醫(yī)學(xué)判斷,而達到判斷誤差小、量測精準(zhǔn)度佳以及可實時量測的功效。
      文檔編號A61B5/103GK201691928SQ201020226090
      公開日2011年1月5日 申請日期2010年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月13日
      發(fā)明者蔡銘煌, 鄧豐毅 申請人:旭鋒科研股份有限公司;臺灣冠廉實業(yè)有限公司
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