專利名稱：支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請基于2009年9月30日申請的日本特許申請編號2009-227417號，參照其公開內(nèi)容并將其公開內(nèi)容整體編入。本發(fā)明涉及一種留置于在生物體內(nèi)的管腔中產(chǎn)生的狹窄部或者閉塞部來維持管腔的開通狀態(tài)的支架，特別是涉及一種在支架主體的外側(cè)表面涂敷有藥劑的被稱作 DES(Drug Eluting Ment、藥物洗脫支架)的藥劑洗脫型的支架。
背景技術(shù)：
支架是用于改善在血管、膽管、氣管、食道、尿道等生物體內(nèi)的管腔中產(chǎn)生的狹窄部或者閉塞部的醫(yī)療用具，一般是通過這樣的方式形成的網(wǎng)眼狀的圓筒體，即，使用較細的支承物，并將直狀或者彎曲的線狀部、U字狀等的彎曲部在同一個平面上連續(xù)地形成為例如波狀，在軸向上排列配置多個將該波狀的支承物做成環(huán)狀而成的波狀環(huán)狀體并將該多個波狀環(huán)狀體相互接合。支架用于防止例如心臟的冠狀動脈在經(jīng)皮腔內(nèi)冠狀動脈成形術(shù)(PTCA)之后產(chǎn)生再狹窄，但通常認為使用未涂敷藥劑的所謂的裸金屬支架(bare metal stent)，預(yù)先將裸金屬支架縮徑并到達目標部位，并使裸金屬支架擴張而留置在管腔內(nèi)時，雖然與完全沒有使用支架的僅進行PTCA的情況相比再狹窄率較低，但是會在支架留置部以約20% 30% 的比例發(fā)生再狹窄。再狹窄的主要原因是由血管平滑肌細胞的遷移、增殖引起的內(nèi)膜增生。因而，最近正在開發(fā)一種在支架(也稱作“支架主體”)的外表面涂敷能夠抑制血管平滑肌細胞的遷移、增殖的藥劑、在支架留置部位使藥劑洗脫來防止再狹窄的DES。作為藥劑，例如使用作為抗生素的西羅莫司(Sirolimus)或抗癌劑等。藥劑的涂敷以下述方式進行，即，通過利用浸漬法、噴霧法或者所謂的直涂法(沿著構(gòu)成支架主體的支承物涂敷) 等將把藥劑和生物體相容性聚合物溶解在溶劑中而成的涂敷液以存在規(guī)定量的藥劑的方式存在于支架主體的表面，并將涂敷液干燥固化。但是，為了將DES留置在管腔內(nèi)，在將支架暫且做成縮徑的狀態(tài)地到達管腔內(nèi)的目標部位之后，使支架擴張而留置，因此，產(chǎn)生涂敷在彎曲部等的藥劑涂層隨著支架(特別是彎曲部)的擴張變形而自支架主體的表面剝離、或者藥劑自身被破壞而自支架主體脫落這樣的問題。特別是在藥劑涂層具有脆性的情況下，該問題非常顯著。因此，在W003/009779A2 (參照段落編號“0065”、“0066”等)中，公開有在支架的除彎曲部(“應(yīng)變區(qū)域”或者“機械輪廓”)之外的部分以線狀或點狀形成藥劑涂層、或者在彎曲部以點狀形成藥劑涂層。但是，這樣以點狀形成藥劑涂層的方式恐怕藥劑在量上不充分，并不理想。另外， 即使是在除彎曲部之外的部分以線狀形成有藥劑涂層的支架，也恐怕由擴張引起的變形的起點與藥劑涂層的端部一致、或者根據(jù)情況在形成有藥劑涂層的部分存在變形的起點，有可能在藥劑涂層中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中，藥劑自支架主體的表面剝離，該剝離傳播到其周邊而破壞藥劑涂層，導(dǎo)致較大的脫落。即，在支架向放射方向擴張的情況下，擴張的大小等并不恒定，擴張的大小針對每個手技都不相同，從而，一律地對除彎曲部之外的部分進行涂敷，而不在也考慮到擴張的彎曲部的哪個位置成為變形的起點的基礎(chǔ)上來涂敷藥劑，若變形的起點和藥劑涂層的端部一致，則會在藥劑涂層中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中，發(fā)生藥劑的剝離、破損、脫落。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是為了解決上述課題而做成的，其目的在于提供一種極力避免隨著支架向放射方向擴張變形而在藥劑涂層中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中、沒有藥劑脫落、使用便利性較佳的支架。達到上述目的的本發(fā)明的支架的特征在于，使涂敷在支架主體的外側(cè)表面上的藥劑涂層的厚度朝向彎曲部逐漸減小，大幅度降低隨著支架的擴張變形而在藥劑涂層中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中，并且，藥劑涂層自身也能夠隨著支架的變形容易地變形，在兩者的相互作用下防止藥劑脫落。在技術(shù)方案1的發(fā)明中，由于形成有使藥劑涂層的厚度朝向彎曲部逐漸減小的漸減部，因此，即使隨著支架的擴張而變形的起點自支承物的彎曲部偏移一些，存在于變形的起點及其附近上的藥劑涂層也會變薄。因而，能夠大幅度降低在藥劑涂層中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中，防止藥劑脫落。而且，由于漸減部的藥劑的涂敷量較少，因此，藥劑自身也易于追隨支架的變形， 在這一點上也能夠防止藥劑脫落。特別是，形成為由于不使用可塑劑等添加物就能夠防止藥劑脫落的結(jié)構(gòu)，因此，不會對生物體產(chǎn)生不良影響，安全性較高。在技術(shù)方案2的發(fā)明中，由于將以利用彎曲部的擴張而變形的起點(彎曲點)為中心的規(guī)定范圍做成無涂層，因此，通過不在最易于發(fā)生應(yīng)變或應(yīng)力集中的部分涂敷藥劑， 成為具有下述優(yōu)點的支架，該支架能夠抑制藥劑脫落，能夠容易地應(yīng)對支架在留置部位處的各種擴張狀態(tài)，容易處理，手技也容易且可靠，使用便利性極佳。在技術(shù)方案3的發(fā)明中，由于在以上述彎曲部的彎曲點為中心的規(guī)定范圍內(nèi)形成有藥劑的薄膜涂層，因此，抑制藥劑脫落并易于定量地確保藥劑。在技術(shù)方案4的發(fā)明中，由于利用藥劑和聚合物的混合物形成上述藥劑涂層，因此，易于對支承物的外表面進行涂敷作業(yè)，作業(yè)性也提高。在技術(shù)方案5 6的發(fā)明中，由于上述聚合物使用生物降解性聚合物、例如乳酸和二醇酸的共聚體、聚乳酸、聚二醇酸，因此，在生物體內(nèi)留置支架之后，覆蓋并保護藥劑的聚合物被生物降解，藥劑被慢慢釋放，能夠可靠地防止支架留置部的再狹窄。在技術(shù)方案7的發(fā)明中，由于在上述支架主體和藥劑涂層之間設(shè)有底涂層，因此， 成為支架主體和藥劑的結(jié)合良好的、剝離性較少的支架。在技術(shù)方案8的發(fā)明中，由于使上述漸減部的傾斜角為1度 45度，因此，能夠容易地形成或者制造即便使支架擴張變形也難以在藥劑涂層中發(fā)生應(yīng)變或應(yīng)力集中的支架。在技術(shù)方案9的發(fā)明中，通過將由具有彎曲部的波狀的支承物形成的波形環(huán)狀體在軸向上排列配置多個并將波形環(huán)狀體相互接合，來將上述支架主體形成為圓筒狀，因此， 能夠通過連結(jié)波形環(huán)狀體而得到規(guī)定長度的支架，不僅在制造支架主體的方面，而且在制造DES的方面也變得容易。在技術(shù)方案10的發(fā)明中，在自噴嘴噴出涂敷液并沿著支承物移動而形成層疊的多層薄膜涂層時，使上層的薄膜涂層的涂敷長度小于下層的薄膜涂層的涂敷長度，使上述漸減部成為階梯狀，因此，能夠簡單地形成上述漸減部。在技術(shù)方案11的發(fā)明中，在該上述漸減部的形成過程中，使上述噴嘴在上述彎曲部從支承物的一方朝向另一方地移動，因此，能夠迅速地形成或者制造漸減部。在技術(shù)方案12的發(fā)明中，由于使用噴霧法或者噴墨法形成上述藥劑涂層，因此， 能夠容易且迅速地形成藥劑涂層。特別是，在使用噴墨法形成的情況下，能夠藥劑損失較少且高精度地形成藥劑涂層。通過參考以下的說明及附圖所例示的優(yōu)選實施方式，應(yīng)能明確本發(fā)明的其他目的、特征及特質(zhì)。


圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的概略主視圖。
圖2是表示該實施方式的使用狀態(tài)的概略主視圖。
圖3是縮徑狀態(tài)的支架的放大俯視圖。
圖4是擴張狀態(tài)的支架的放大俯視圖。
圖5是彎曲部的放大俯視圖。
圖6是沿著圖5中的6-6的概略剖視圖。
圖7是涂敷裝置的概略主視圖。
圖8是沿著圖7中的8-8的概略剖視圖。
圖9是芯棒部分的剖視圖。
圖10是涂敷方法的流程圖。
圖11是接著圖10的涂敷方法的流程圖。
具體實施例方式下面，參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施方式。首先，概略說明支架，如圖1所示，其包括由較細的支承物3形成的例如做成網(wǎng)眼狀的圓筒狀的支架主體2、及涂敷在支架主體2的表面的藥劑涂層4(參照圖6)。支架1使用例如圖2所示的支架輸送系統(tǒng)留置在血管等的內(nèi)部。支架輸送系統(tǒng)10 包括軸主體部13，其為由同心地配置的內(nèi)管11和外管12構(gòu)成的雙重管構(gòu)造；球囊14，其設(shè)置在軸主體部13的前端部且能夠折疊和擴張；分支軸套16，其具有用于注入球囊擴張用流體的注射口 15。為了使用該系統(tǒng)10將支架1留置在血管內(nèi)，首先，以內(nèi)包折疊狀態(tài)的球囊14的方式使支架1縮徑而安裝在上述系統(tǒng)10上，之后向前端開放的內(nèi)管11的內(nèi)部貫穿導(dǎo)絲，將導(dǎo)絲作為引導(dǎo)件而將安裝有支架1的上述系統(tǒng)10引導(dǎo)到血管內(nèi)的規(guī)定位置。然后，從注射口 15注入流體，使流體通過內(nèi)管11和外管12之間的管腔流入至球囊14而將球囊14擴張。 當(dāng)安裝在此的支架1從內(nèi)部向放射方向外方擴張時，支架1向放射方向和/或軸向伸長而塑性變形，以擴張的狀態(tài)留置在血管內(nèi)。
更詳細地說明本實施方式的支架1。如圖1、圖3所示，本實施方式的支架主體2 將由張開角α較小的U字狀的彎曲部Κ1、張開角α較大的V字狀的彎曲部Κ2、由直狀部或彎曲部構(gòu)成的線狀部S交替配置而成的結(jié)構(gòu)做成環(huán)狀來形成波狀環(huán)狀體C (也稱作“單元部分C”)。各單元部分C的軸線方向長度為“Li”。而且，通過利用接合部F將一個單元部分C中的呈U字狀的彎曲部Kl的前端和相鄰的單元部分C的呈U字狀的彎曲部Kl的基端連續(xù)地接合起來，從而做成將多個單元部分C連結(jié)而成的、軸線方向長度為“L2”的、整體例如做成網(wǎng)眼狀的圓筒體。另外，在圖1所示的結(jié)構(gòu)中，由14個單元部分C構(gòu)成。支架主體2自圖3所示的收縮狀態(tài)被向放射方向推開而展開時，如圖4所示，張開角α變大，構(gòu)成彎曲部Kl或彎曲部Κ2的支承物3相互遠離，成為空隙部0較大地擴展的擴開狀態(tài)。支架主體2的彎曲部Kl、Κ2不優(yōu)選彎曲的部分彎折成銳角，優(yōu)選以U字狀或者平緩的圓弧狀彎折或者彎曲。由此，也能夠減少產(chǎn)生在擴開時對后述的藥劑涂層4施加的應(yīng)變，抑制藥劑涂層4的剝離、破壞、破損或者脫落的效果較高。但是，彎曲端部的彎曲形狀優(yōu)選如圖3所示地彎曲成不會朝向外方較大地鼓起的程度、即彎曲端部不會以圓弧狀向外方鼓出的程度。由此，能夠減小縮徑時的外徑，也有利于支架向細徑的生物體內(nèi)器官(例如血管)中插入。作為支架主體2的形狀材料，優(yōu)選具有生物體相容性的材料，例如優(yōu)選為不銹鋼、 鉭或者鉭合金、鉬或者鉬合金、金或者金合金、鈷基底合金、鈷鉻合金、鈦合金、鈮合金等。而且，作為不銹鋼，最優(yōu)選具有耐腐蝕性的SUS316L。支架主體2優(yōu)選為安裝在球囊14上的狀態(tài)的支承物3所占的面積是包含空隙部 0的整個外周面的面積的60% 80%。作為支承物3的寬度，優(yōu)選為40 μ m 150 μ m,特別優(yōu)選為80 μ m 120 μ m。作為各單元部分C的軸線方向長度Li，優(yōu)選為0. 5mm 2. Omm,特別優(yōu)選為0. 9mm 1. 5mm。 支架主體2的非擴張時的直徑Dl優(yōu)選為0. 8mm 2. 5mm,特別優(yōu)選為0. 9mm 2. 0mm。非擴張時的長度L2優(yōu)選為8mm 40mm左右。支架主體2的成形是通過自管體(具體地講是金屬管)除去除支承物之外的部分而形成規(guī)定的圖案來進行的。例如通過利用被稱作金屬表面光刻法(Wiotofabrication) 的使用掩模和化學(xué)藥品進行的蝕刻方法、利用模具進行的放電加工法、切削加工法(例如機械研磨、激光切削加工)等自金屬管除去空隙部0來進行支架主體2的成形。在這樣成形之后，利用化學(xué)研磨或者電解研磨除去支承物3的邊緣，精加工成平滑的面。并且，也可以在成形為規(guī)定的圖案之后進行退火。利用退火，整個支架的柔軟性和撓性上升，支架在彎曲的血管內(nèi)的留置性變得良好，對血管內(nèi)壁施加的物理刺激也減少，能夠減少再狹窄的誘因。為了不在支架表面形成氧化被膜，退火優(yōu)選通過在不活性氣體氣氛下(例如氮和氫的混合氣體)加熱到900°C 1200°C之后慢慢地冷卻來進行。藥劑涂層4的形成例如能夠使用浸漬法、噴霧法、噴墨法、噴嘴噴射法等各種方法，但在本發(fā)明中優(yōu)選噴霧法、噴墨法、噴嘴噴射法。在此，噴霧法是指將藥劑與空氣流一同噴射到支架主體2的外側(cè)表面來形成藥劑涂層4，噴墨法是指將藥劑做成微細顆粒而涂敷到支架主體2的外表面，噴嘴噴射法是指將藥劑自噴嘴涂敷到支架主體2的外表面。在使用噴霧法或噴墨法時，能夠容易且迅速地形成藥劑涂層，而且，在使用噴墨法或噴嘴噴射法時，能夠藥劑損失較少且高精度地形成藥劑涂層。噴霧法、噴墨法、噴嘴噴射法基本上僅是將藥劑涂敷在支架主體2的外表面的工藝不同，形成的藥劑涂層4的構(gòu)造相同，因此，下面對使用噴嘴噴射法來形成藥劑涂層4的情況進行說明。圖5是彎曲部的放大俯視圖，圖6是沿著圖5中的6-6的概略剖視圖。在本實施方式中，在上述支架主體2的外側(cè)表面形成圖5、圖6所示那樣的藥劑涂層4。在本實施方式中，使用沿著支承物3直接涂敷多次涂敷液的層疊法，形成為藥劑涂層4的厚度B朝向彎曲部K漸減。而且，優(yōu)選在支架主體2和藥劑涂層4之間設(shè)置底涂層5。由于底涂層5由具有與構(gòu)成后述的藥劑涂層的聚合物的粘接性的材料構(gòu)成，因此，支架主體2和藥劑的結(jié)合良好，成為剝離性較少的支架。本實施方式的藥劑涂層4如圖5所示地以如下方式形成有漸減部6，即，支架主體 2的由直狀部或彎曲部等構(gòu)成的線狀部S的厚度B大致均勻，但從線狀部S到彎曲部K的厚度B逐漸減小，在彎曲點P及其附近成為未涂敷藥劑的無涂層或者極薄的藥劑涂層。即，在使用下述的層疊法形成規(guī)定厚度B的藥劑涂層4時，只要噴嘴隨著接近彎曲點P及其附近而調(diào)整各薄膜涂層如的涂敷區(qū)域，階梯性地減少薄膜涂層如的層疊數(shù)，就能夠容易地逐漸減小藥劑涂層的厚度B，從而能夠形成以彎曲點P及其附近為中心的谷狀的漸減部6。上述層疊法是使噴嘴沿著支架主體2的規(guī)定圖案移動、并向支架主體2的表面噴出藥劑而形成多層較薄的厚度b的薄膜涂層如的方法。另外，之后詳細說明薄膜涂層如的形成。若這樣使藥劑涂層4的厚度B朝向彎曲部K及其附近逐漸減小，則在將支架1向放射方向擴張時，即使支架主體2發(fā)生變形的起點自彎曲部K的彎曲點P偏移一些，由于存在于變形的起點及其附近的藥劑涂層4的厚度較薄，因此，也會大幅度減少在藥劑涂層4中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中。即，支架主體2中的彎曲點P的位置在幾何學(xué)上是彎曲部K中的所謂的拐點，但實際上使用球囊等自支架的內(nèi)部施加擴張力而使支架1向放射方向擴張時，支架主體2的彎曲部K發(fā)生變形的起點并非總是拐點，而是根據(jù)對支承物3施加的擴張力的作用方向等而變化，無法唯一確定。但是，若形成藥劑涂層4的漸減部6，使藥劑涂層4的厚度B朝向彎曲部K及其附近逐漸減小，則即使支架主體2中的彎曲點P的位置變化一些，藥劑涂層4也會追隨支架主體2地變形，在藥劑涂層4中產(chǎn)生的應(yīng)變或應(yīng)力集中極小。而且，由于該部分的藥劑涂敷量較少，因此，藥劑自身也易于追隨支架主體2的變形。結(jié)果，在兩者的相互作用下大幅提高防止藥劑脫落的效果。另外，關(guān)于彎曲點P，如上所述并不是明確地確定的，因此，在圖5中以虛線表示有可能存在彎曲點P的區(qū)域。在將彎曲部K作為直狀表示的圖6中，表示漸減部6的具體例子，1層薄膜涂層如的厚度b優(yōu)選為1 μ m 5 μ m，薄膜涂層如的層數(shù)優(yōu)選為1層 50層，彎曲部K的長度X 優(yōu)選為50 μ m 1000 μ m,上下的薄膜涂層如的端部之間的長度Y (其中也存在各端部之間的長度不均等的情況)優(yōu)選為1 μ m 1000 μ m。而且，漸減部6的傾斜角θ小于90度，優(yōu)選為1度 60度，更優(yōu)選為1度 45度。在傾斜角θ小于1度的情況下，雖然能在較寬范圍內(nèi)發(fā)揮抑制藥劑的脫落的效果，但是涂敷的藥劑量有可能減少，并不優(yōu)選，相反，在傾斜角θ大于60度的情況下，抑制藥劑的脫落的效果有可能降低，因此并不優(yōu)選。而且，傾斜角θ為1度 45度的形態(tài)容易利用后述的層疊法制造。上述的例子是將以彎曲點P為中心的50μπι ΙΟΟΟμπι的范圍做成未形成有藥劑涂層4的無涂層的情況，在該無涂層的情況下，在應(yīng)變最易于集中的部分未涂敷藥劑，因此，成為藥劑脫落抑制能力較高的支架，即使在支架的留置部位發(fā)生例如必須較大地擴張的狀況，也能夠容易地應(yīng)對該狀況，支架的處理較容易，手技也容易且可靠，成為使用便利性極佳的支架。但是，本發(fā)明并不必僅限定于無涂層，彎曲部K也可以具有1層 幾層薄膜涂層 4a ο藥劑涂層4由藥劑和聚合物的混合物構(gòu)成。該混合物更優(yōu)選由藥劑和生物降解性聚合物的混合物構(gòu)成。在生物體內(nèi)留置支架之后，當(dāng)覆蓋并保護藥劑的聚合物生物降解時， 藥劑漸漸釋放，能夠可靠地防止支架留置部的再狹窄。作為生物降解性聚合物優(yōu)選使用乳酸和二醇酸的共聚體、聚乳酸、聚二醇酸中的任一種。藥劑涂層4的各薄膜涂層如的藥劑和聚合物的混合比可以相同，也可以不同。例如也可以使藥劑相對于聚合物的比例從與底涂層5接觸的最下層的薄膜涂層如朝向上層薄膜涂層如逐漸升高。圖7是涂敷裝置的概略主視圖，圖8是沿著圖7中的8-8的概略剖視圖，圖9是芯棒部分的剖視圖。作為利用層疊法在支承物上形成薄膜涂層如的涂敷裝置，使用例如圖7、圖8所示的裝置。在涂敷裝置20中，通過由透明的合成樹脂板(未圖示)從外表面覆蓋被豎立設(shè)置在基臺21上的框架22，在其內(nèi)部形成具有氣密性的腔室23。在腔室23中，在頂部連結(jié)有管道24，自空調(diào)機25供給被控制了溫度和濕度的空氣，使腔室內(nèi)成為恒溫恒濕的狀態(tài)，將在支架主體2上涂敷后述的涂敷材料W時的干燥固化條件始終保持恒定。在腔室23內(nèi)的下部設(shè)有用于保持支架主體2的保持器具30、及用于使保持器具 30移動的移動部件40，在腔室23內(nèi)的中間部，在橫架于框架22的支承框架沈上安裝有用于將涂敷材料W涂敷在支架主體2的支承物3上的涂敷頭50、用于獲取支架主體2的表面、 即支承物3的表面在正交坐標系中的X-Y方向的位置信息的第1位置信息獲取部件60、及用于獲取該正交坐標系中的Z方向的位置信息的第2位置信息獲取部件70。另一方面，在腔室23的外部設(shè)有控制部80，用于控制保持器具30、移動部件40、涂敷頭50和兩位置信息獲取部件60、70。如圖8所示，保持器具30的結(jié)構(gòu)如下，S卩，芯棒34的基端夾持在連結(jié)于能夠正反旋轉(zhuǎn)的電動機M2的卡盤部33上，支架主體2能夠裝卸地設(shè)置在芯棒34的外周。電動機M2載置在滑動部32上，滑動部32能夠移動地(沿Y方向)設(shè)置在基板31 上，基板31載置在移動臺42上，該移動臺42沿著作為所謂的線性電動機式的驅(qū)動源的行進軌道41移動(沿X方向)。由此，保持器具30能夠使支架主體2正反旋轉(zhuǎn)、沿X方向、Y 方向移動。芯棒34的外徑優(yōu)選與支架主體2的內(nèi)徑大致相同或者比支架主體2的內(nèi)徑大一些，但芯棒34能夠根據(jù)支架主體2的內(nèi)徑更換，準備了具有多種外徑的芯棒34。芯棒34均為了吸收光而以黑色涂料涂裝，提高了裝配的支架主體2的支承物3與空間部0的對比度。 另外，如圖9所示，芯棒34在其外周面形成有凹部35，在將支架主體2安裝在芯棒34上時， 在芯棒34的外周面和支架主體2的支承物3的下表面3a之間產(chǎn)生間隙G，防止將涂敷材料 W涂敷在支承物3上時涂敷材料W蔓延到芯棒34的表面和支架主體2的內(nèi)側(cè)表面之間，謀求形成均勻的涂層、作業(yè)的便利性。如圖7、圖8所示，涂敷頭50借助例如垂直臺(未圖示)裝配在安裝于支承框架 26的托架51上，該垂直臺利用由電動機M 3驅(qū)動的絲杠進給機構(gòu)等沿Z方向移動，該涂敷頭50具有用于慢慢噴出儲存在內(nèi)部的涂敷材料W的分配器53、和用于噴出涂敷材料W的噴嘴部54。如圖8所示，分配器53是注射器工作機構(gòu)，其具有在內(nèi)部儲存有涂敷材料W的筒體(cylinder)部55、能夠滑動地設(shè)置在筒體部55內(nèi)的活塞部56、及利用規(guī)定的力F按壓活塞部56的電動機或者液壓機構(gòu)等驅(qū)動部(未圖示)。噴嘴部M由設(shè)置在筒體部55的下端的安裝構(gòu)件57、及自安裝構(gòu)件57垂下的噴嘴 58構(gòu)成，從筒體部55到噴嘴58形成有供涂敷材料W流通的流路(未圖示)。噴嘴58的頂端外徑為10 μ π! 1000 μ m,為了將具有后述粘度的涂敷材料W以規(guī)定的噴出速度擠出，噴嘴58的頂端內(nèi)徑為1 μ m 500 μ m，優(yōu)選為5 μ m 250 μ m。在其頂端內(nèi)徑小于5 μ m的情況下，涂敷材料W無法順暢地流出，且噴出涂敷材料W需要很大的壓力。另外，在其頂端內(nèi)徑大于250 μ m的情況下，有可能實質(zhì)上無法在現(xiàn)今使用的支架主體 2上順暢地涂覆涂敷材料W。另外，為了防止噴出的涂敷材料W附著，噴嘴58優(yōu)選研磨為盡可能地減小表面的凹凸，例如優(yōu)選使用不銹鋼、碳鋼、鎳、鈦、鉻、玻璃、鋁氧化物、鋯氧化物、金剛石、或者將它們復(fù)合而成的材料等。分配器53設(shè)置為，以噴嘴58和支承物3的間隔N為規(guī)定長度的方式自支承物3 離開，將涂敷材料W從噴嘴58朝向支承物3的表面不間斷地連續(xù)擠出而使涂敷材料W載置在支承物3的表面上。采用該連續(xù)擠出方式，能夠?qū)⑼糠蟛牧蟇均勻地涂敷在支架主體 2的目標部分，而且能夠定量地噴出，因此，控制性也較佳，也能夠高精度且可靠地調(diào)整治療物質(zhì)的量。而且，在調(diào)整為恒溫、恒濕的腔室內(nèi)，使涂敷材料W干燥固化的條件恒定，因此， 能夠容易且迅速地制造附著有涂敷材料W的支架1。自噴嘴58噴出的涂敷材料W的粘度為0. Icp 10cp，優(yōu)選為1. Ocp 4. Ocp0在粘度高于上述范圍時，存在噴出需要很大的壓力、或者無法自較細的噴嘴58噴出的情況， 在粘度低于上述范圍時，也有可能噴出的涂敷材料W自支承物3泄漏，無法形成均勻的涂覆層。噴嘴58和支承物3的間隔N為0. 1 μ m 200 μ m，優(yōu)選為1 μ m 100 μ m。在間隔N大于上述范圍時，存在涂敷材料W中斷這樣的問題，在間隔N小于上述范圍時，存在涂敷材料W自支承物表面泄漏這樣的問題。如圖7所示，第1位置信息獲取部件60是借助托架(未圖示)位置固定地安裝在支承框架沈上的攝像部件，具有照相機部62和以沿支架主體2的軸向延伸的方式配置的線傳感器(line sensor)部(未圖示)，第1位置信息獲取部件60與保持器具30上的支架主體2的旋轉(zhuǎn)同步地掃描支架主體2的表面，獲取支架主體2表面的圖像，傳送到控制部 80。如上所述，芯棒34為了提高裝配的支架主體2的支承物3與空間部0的對比度而以黑色涂料涂裝，能夠吸收光，因此，在獲得的支架表面的圖像中，支承物3的亮度較高，空間部 0的亮度較低。因此，控制部80通過以適當(dāng)?shù)牧炼葘@取的支架主體2的表面圖像二值化而區(qū)分為支承物3和空間部0，能夠作為支承物3的坐標、即支承物3在X-Y方向上的位置信息。并且，控制部80根據(jù)獲得的X-Y方向的位置信息(支承物3的X-Y坐標)計算出通過支承物3中心的軌道的坐標，獲得的中心軌道的數(shù)據(jù)被保存在控制部80的存儲器中。在涂敷涂敷材料W時，不使涂敷材料W自支承物3脫落地進行涂敷非常重要，為此，確定支承物3的中心也極為重要。 如圖7所示，第2位置信息獲取部件70由被稱作所謂的垂直傳感器(vertical sensor)的激光變位傳感器73構(gòu)成，該激光變位傳感器73為Z方向的變位測定部件，用于測定支承物3的Z方向變位，且該激光變位傳感器73位置固定地安裝在被安裝于支承框架 26的托架71的下端。 支承物3嚴格地講表面并不平滑，而是具有凹凸，為了在該具有凹凸的支承物上定量且精密地涂敷涂敷材料W，必須使噴嘴58的頂端嚴格地與支承物3的表面平行地移動， 涂敷規(guī)定量的涂敷材料W。因而，利用激光變位傳感器73從支架主體2的規(guī)定位置、例如涂敷開始點處的支承物3的位置信息開始獲取位置信息，在使支架主體2正反旋轉(zhuǎn)的同時沿著通過支承物3的中心的軌道掃描，收集整個支架主體2的Z方向變位數(shù)據(jù)，將獲取的變位數(shù)據(jù)保存在控制部80的存儲器中?？刂撇?0雖未圖示，但具有處理器、監(jiān)視器、鍵盤等，由上述各種位置信息決定涂敷涂敷材料W的涂敷方式的設(shè)定、涂敷頭50在支架主體2的支承物3上涂敷涂敷材料W的涂敷路徑。另外，控制保持器具30的芯棒34的旋轉(zhuǎn)、移動部件40的移動及自涂敷頭50噴出的涂敷材料W的噴出量、攝像部件或垂直傳感器的掃描等。涂敷方式是指沿著支承物3涂覆的情況下的涂敷路線。涂敷路線優(yōu)選為能夠沒有重復(fù)涂覆的區(qū)間地連續(xù)涂敷整個支承物3的路線，但在支承物3復(fù)雜地交叉的支架1中，也存在不容易設(shè)定沒有重復(fù)涂敷的區(qū)間的路線的情況。在這種情況下，設(shè)置重復(fù)涂敷的區(qū)間、 或者設(shè)置從支承物3上的某一點向另一點跳躍的區(qū)間。通過這樣在一部分設(shè)置重復(fù)的區(qū)間或跳躍的區(qū)間，能夠縮短涂敷路線。另外，通過使在重復(fù)的區(qū)間(通過多次的區(qū)間)通過的移動速度比在通過一次的區(qū)間通過的移動速度快，能夠在支架主體2的目標部分均勻地涂敷藥劑，從而能夠充分地發(fā)揮降低PTCA等情況下的再狹窄率的效果。特別是，在以像本實施方式這樣形成隨著接近彎曲部K而厚度逐漸減小的漸減部6的方式進行涂敷的情況下， 優(yōu)選使噴嘴58從支承物3的形成彎曲部K的一部分朝向形成彎曲部K的與該一部分相對的另一部分移動。由此，能夠迅速地形成漸減部6。在決定涂敷路徑時，優(yōu)選采取下述的各種對策。(1)在支架主體2的支承物3上涂敷涂敷材料W的情況下，在支承物3的線狀部S 中，優(yōu)選將通過支承物3中心的軌道作為涂敷路徑。但是，在支承物3的彎曲部K中，優(yōu)選將通過在支承物3的寬度方向上偏移規(guī)定量的位置的軌道作為涂敷路徑。涂敷材料W是液體，以利用表面張力隆起的狀態(tài)存在于支承物3的表面上，即使涂敷材料W干燥固化，也容易成為截面呈圓弧狀的涂層。從而，在涂敷多次的情況下，有以圓弧狀隆起的傾向，因此優(yōu)選如下方式，即，將通過自支承物3的第1次的涂層偏移規(guī)定量的位置的軌道作為涂敷路徑來形成第2次的涂層，第3次的涂層將通過與第1次涂敷路徑和第2次涂敷路徑不同的位置的軌道作為涂敷路徑。(2)在決定涂敷路徑時，優(yōu)選使涂敷路徑在線狀部S和彎曲部K中不同。在線狀部 S中，如上所述那樣將通過支承物3的寬度方向中心的軌道作為涂敷路徑即可，但若在彎曲部K中將通過支承物3的寬度方向中心的軌道作為涂敷路徑，則從涂敷頭50噴出的涂敷材料W會被其粘性、自噴嘴的落下速度等影響，不會沿著涂敷頭50的移動軌道地追隨。因而， 優(yōu)選將通過支承物3的彎曲部K的中心的線的外側(cè)設(shè)定為涂敷路徑。C3)在支承物3的交叉部中，優(yōu)選將上述多個支承物3的中心軸線的交點或者交點的附近作為涂敷路徑。在支承物3交叉的部分中，涂敷路徑P也會交叉，因此，只要將支承物3的中心軸線的交點或者交點的附近作為涂敷路徑，就能夠防止涂敷材料W滴落，較為理
術(shù)g
；ο接著，說明涂敷方法。圖10是涂敷方法的流程圖，圖11是接著圖10的涂敷方法的流程圖。準備工序首先，在開始涂敷時，使空調(diào)機25工作，使腔室23內(nèi)成為恒溫恒濕的狀態(tài)。而且， 將注射器工作機構(gòu)53設(shè)置在支承框架沈上，該注射器工作機構(gòu)53是將具有與支承物3的寬度、涂敷材料W相對應(yīng)的內(nèi)徑的噴嘴58的噴嘴部M、及注入有涂敷材料W的筒體部55等組合而形成的。另一方面，在將支架主體2安裝在芯棒34上之后，將它們安裝在處于待機位置的保持器具30的卡盤部33上，設(shè)定為支承物3的涂敷開始點位于芯棒34的凹部35之上。另外，如圖7所示，在腔室23的下部具有移動部件40的情況下，待機位置是腔室23的入口部 23A的附近。攝像工序控制部80接受攝像參數(shù)的輸入，將所輸入的攝像參數(shù)存儲在存儲裝置中(Si)。攝像參數(shù)由操作人員例如從鍵盤輸入。攝像參數(shù)包含芯棒34的轉(zhuǎn)速、攝影線路(line)數(shù)量、 攝影線路寬度、攝影時動作速度?？刂撇?0在存儲被輸入的攝像參數(shù)之后命令開始攝像。同時，使X方向移動部件 40x工作(S》。由此，保持器具30從待機位置沿著行進軌道41移動到第1位置信息獲取部件60之下?？刂撇?0確認保持器具30到達規(guī)定位置的情況(S3)，若保持器具30到達規(guī)定位置，則使保持器具30的電動機M2工作，使支架1開始旋轉(zhuǎn)(S4)。另一方面，在收到攝像開始的命令之后，第1位置信息獲取部件60的線傳感器開始拍攝，掃描支架主體2的表面，拍攝表面圖案(S5)。拍攝到的圖像作為平面展開圖像存儲在控制部80內(nèi)的存儲裝置(例如存儲器或硬盤等)中。也可以將圖像輸出到監(jiān)視器中，使得能夠利用肉眼確認。在支架主體2的表面圖像中，支承物3的亮度較高，空間部0的亮度較低，因此，控制部80將某一亮度作為邊界而轉(zhuǎn)換為黑白的二值化圖像(S6)，利用支承物3的寬度的細線化處理計算出通過支承物3中心的軌道的坐標(S7)。涂敷方式的設(shè)定工序
由獲取的支架主體2的表面圖像進行判斷，考察位置和是否需要重復(fù)涂敷的區(qū)間及跳躍的區(qū)間，涂敷支承物3的目標表面部分，以重復(fù)涂敷的區(qū)間及跳躍的區(qū)間盡量地少或短的方式設(shè)定涂敷路線。Z方向的變位測定工序接著，控制部80接受作為Z方向的變位測定部件的第2位置信息獲取部件70的變位測定參數(shù)的輸入并存儲該變位測定參數(shù)(S9)。該變位測定參數(shù)也由操作人員輸入。變位測定參數(shù)包含測定開始位置、測定的方向、分支點處的方向、測定速度、測定間隔。控制部80在存儲變位測定參數(shù)之后，使Y方向移動部件40y的電動機Ml工作 (SlO)。必要的話，一邊利用攝像機和監(jiān)視器觀察，一邊調(diào)整支架主體2和變位測定部件的測定位置，使得上述變位測定部件的測定位置和軌道上的指定位置一致(Sll)。在通過調(diào)整使測定位置和指定位置一致時(另外，一致的狀況由操作人員輸入到控制部80中(S12 =Yes))，控制部80對第2位置信息獲取部件70命令開始測定支承物3的 Z方向變位(S13)。同時，控制部80使利用電動機M2進行的正反旋轉(zhuǎn)以及利用電動機Ml 進行軸向移動反復(fù)進行。由此，支架主體2反復(fù)進行旋轉(zhuǎn)以及軸向移動(S14)。由此，第2位置信息獲取部件70沿著通過支承物3的中心的軌道移動，因此，控制部80收集Z方向的變位數(shù)據(jù)(S15)。該變位數(shù)據(jù)與中心軌道的坐標一同保存在控制部80 的存儲裝置中。涂敷工序控制部80接受涂敷參數(shù)的輸入并將所輸入的涂敷參數(shù)存儲(S16)。涂敷參數(shù)也由操作人員輸入。涂敷參數(shù)包含涂敷開始位置、涂敷的方向、交叉點處的方向、軌道調(diào)整區(qū)間的設(shè)定、軌道的調(diào)整量、涂敷速度、涂敷材料W的噴出速度、涂敷頭的高度、涂敷次數(shù)(層數(shù))、涂敷頭的選擇?？刂撇?0在存儲涂敷參數(shù)之后命令開始涂敷。同時，發(fā)出利用X方向移動部件 40x而使保持器具30移動的命令(S17)。由此，使支架主體2移動至涂敷頭50之下的涂敷開始位置(S18)。在支架主體2到達涂敷頭50之下的涂敷開始位置之后(S19 :Yes)，發(fā)出利用電動機M2進行的正反旋轉(zhuǎn)以及利用電動機Ml進行的軸向移動的命令，通過利用電動機M2進行的正反旋轉(zhuǎn)并利用電動機Ml進行的軸向移動，使支架主體2遵照指定的參數(shù)沿 χ軸方向和y軸方向移動(S20)。同時，使涂敷頭50遵照指定的參數(shù)而利用電動機M3沿Z 軸方向移動(S21)。此時，自涂敷頭50連續(xù)地噴出涂敷材料W。由此，涂敷頭50在沿著預(yù)先決定的涂敷路徑移動的同時涂敷涂敷材料W。在涂敷過程中，噴嘴58的頂端和支架主體2之間成為充滿涂敷材料W的狀態(tài)，因此，能夠定量噴出涂敷材料W，也能夠可靠地將支架主體2上的藥劑量設(shè)定為規(guī)定值。而且， 也不會在支承物3之間產(chǎn)生片狀物或橋，能夠極高精度地形成藥劑涂層4。在涂敷結(jié)束時，保持器具30利用X方向移動部件40x移動至待機位置，將芯棒34 自保持器具30拆下并取出到腔室23之外，將形成有藥劑涂層4的支架主體2自芯棒34拆下。本發(fā)明并不僅限定于上述實施方式，能夠在本發(fā)明的技術(shù)思想內(nèi)由本領(lǐng)域技術(shù)人員進行各種變更。例如在上述實施方式中，列舉出藥劑涂層的厚度B朝向彎曲部K或其附近呈直線變化的漸減部6，但本發(fā)明的漸減部6的形狀不只是這樣，只要藥劑涂層的厚度B在彎曲部K及其附近變薄即可，也可以做成圓弧狀等各種形狀。另外，涂敷材料W也可以不只是1種而是多種。在涂敷多種涂敷材料W的情況下， 準備多個注射器、噴嘴及注射器工作機構(gòu)，依次切換地涂敷。這些注射器工作機構(gòu)等的依次切換利用控制部80來控制。在此，不同的涂敷材料W是指聚合物不同或聚合物相同但其量不同、或者藥劑不同或藥劑相同但其量不同、或者溶劑不同的情況。若這樣地使用多種涂敷材料，則藥效也是復(fù)合性的，能夠減輕患者的肉體及精神上的痛苦等，對患者來說極為有利。而且，形成藥劑涂層4的方法也并不僅限定于上述實施方式，例如也可以使用噴霧法或噴墨法。并且，上述實施方式是具有做成波形的規(guī)定圖案的支架，但并不僅限定于這種支架，只要是具有彎曲部K的支架，就也可以具有其他圖案的支架。產(chǎn)業(yè)上的可利用件本發(fā)明能夠用作大幅度降低經(jīng)皮腔內(nèi)冠狀動脈成形術(shù)(PTCA)之后的再狹窄率的支架。
權(quán)利要求
1.一種支架，該支架包括由具有彎曲部的波狀的支承物形成的圓筒狀的支架主體、及通過在該支架主體的外側(cè)表面涂敷藥劑而形成的藥劑涂層，隨著上述支架主體向放射方向擴張或收縮，至少上述彎曲部擴張變形或收縮變形，其特征在于，上述藥劑涂層具有通過使該藥劑涂層的厚度朝向上述彎曲部逐漸減小而形成的漸減部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支架，其特征在于，上述彎曲部使以彎曲點為中心的規(guī)定范圍成為未形成有上述藥劑涂層的無涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支架，其特征在于，上述彎曲部在以彎曲點為中心的規(guī)定范圍內(nèi)形成有上述藥劑的薄膜涂層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項所述的支架，其特征在于， 上述藥劑涂層由上述藥劑和聚合物的混合物形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的支架，其特征在于， 上述聚合物是生物降解性聚合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的支架，其特征在于，上述生物降解性聚合物是乳酸和二醇酸的共聚體、聚乳酸、聚二醇酸中的任一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中任一項所述的支架，其特征在于， 在上述支架主體和上述藥劑涂層之間設(shè)有底涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支架，其特征在于， 上述漸減部的傾斜角為1度 45度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中任一項所述的支架，其特征在于，通過由具有上述彎曲部的波狀的支承物形成波形環(huán)狀體，將該波形環(huán)狀體在軸向上排列配置多個并將該波形環(huán)狀體相互接合，從而將上述支架主體形成為圓筒狀。
10.根據(jù)權(quán)利要求1 9中任一項所述的支架，其特征在于，通過層疊多層薄膜涂層來形成上述藥劑涂層，該薄膜涂層通過自噴嘴部噴出將藥劑和聚合物溶解在溶劑中而成的涂敷液、并使該噴嘴部沿著上述支承物移動而形成，使上述多層中的上層的薄膜涂層的涂敷長度小于下層的薄膜涂層的涂敷長度，使上述漸減部成為階梯狀。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的支架，其特征在于，通過使上述噴嘴部在到達上述彎曲部或者該彎曲部附近時、從上述支承物的形成該彎曲部的一部分朝向形成該彎曲部的與該一部分相對的另一部分移動，從而使上述藥劑涂層形成上述漸減部。
12.根據(jù)權(quán)利要求1 9中任一項所述的支架，其特征在于， 上述藥劑涂層使用噴霧法或者噴墨法來形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種支架。該支架極力避免隨著支架向放射方向擴張變形而在藥劑涂層中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力集中，且藥劑不會脫落。使涂敷在支架主體(2)的外側(cè)表面上的藥劑涂層(4)的厚度(B)朝向彎曲部(K)逐漸減小，降低隨著支架(1)的擴張變形而在藥劑涂層(4)中產(chǎn)生應(yīng)變或應(yīng)力，避免藥劑脫落。
文檔編號A61F2/915GK102448406SQ20108002337
公開日2012年5月9日 申請日期2010年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月30日
發(fā)明者丸山和宏, 后藤大樹, 齋藤昇 申請人:泰爾茂株式會社