專利名稱：用于粒子治療的緊湊機(jī)架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于放射治療的帶電粒子治療設(shè)備。更具體地，本發(fā)明涉及用于輸送粒子束的緊湊機(jī)架。
背景技術(shù)：
使用帶電粒子(例如，質(zhì)子、碳離子等)的放射療法被證實是精確且適形的放射治療技木，其中能夠?qū)⒏邉┝枯斔偷桨袇^(qū)同時使圍繞健康組織的劑量最小化。粒子治療設(shè)備包括加速器，該加速器產(chǎn)生高能帶電粒子；束傳輸系統(tǒng)，該束傳輸系統(tǒng)用于將粒子束引導(dǎo)到一個或多個治療室；以及用于每個治療室的粒子束輸送系統(tǒng)。人們能夠區(qū)分兩種類型的束輸送系統(tǒng)，即能夠區(qū)分將束從固定放射方向輸送到靶的固定束輸送系統(tǒng)以及能夠?qū)⑹鴱亩鄠€放射方向輸送到靶的旋轉(zhuǎn)束輸送系統(tǒng)。這種旋轉(zhuǎn)束輸送系統(tǒng)還被稱為機(jī)架。靶通常被定位在由機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線與中心束軸線的交叉限定的固定位置。該交點(diǎn)被稱為等中心點(diǎn)， 并且能夠?qū)⑹鴱母鱾€方向輸送到等中心點(diǎn)的這種類型的機(jī)架被稱為等中心機(jī)架。機(jī)架束輸送系統(tǒng)包括用于整形該束以匹配靶的裝置。存在用于粒子束治療以整形該束的兩種主要技術(shù)更常見的被動式散射技術(shù)以及更先進(jìn)的動態(tài)輻射技木。動態(tài)輻射技術(shù)的示例是所謂的筆形束掃描(PBQ技木。在PBS中，窄筆形束被磁性掃描到與中心束方向正交的平面上。通過掃描磁體的適當(dāng)控制來獲得靶區(qū)的橫向一致。通過改變粒子束的能量，靶區(qū)中以其固定粒子能量表征的不同層能夠隨后被照射。由此，粒子輻射劑量能夠被輸送到整個3D靶區(qū)。在患者身上具有足夠穿透深度所需的粒子束能量取決于所使用的粒子類型。例如，對于質(zhì)子治療，束能量通常在70MeV和250MeV之間。申請人已經(jīng)構(gòu)造出結(jié)合高達(dá)235MeV 的質(zhì)子束能量使用的質(zhì)子機(jī)架。這種機(jī)架在圖IA中被示出并且該機(jī)架構(gòu)造由J. B. Flanz 在“Large Medical Gantries，，，Proceedings of the 1995 Particle Accelerator Conference,Volume 3，p 2007-2008中進(jìn)行描述。在該機(jī)架中，束在借助45°偶極磁體12 偏轉(zhuǎn)之前由一系列四極第一次聚集，并且接著，該束在其借助135°偶極磁體15彎曲并且朝向等中心點(diǎn)(垂直于旋轉(zhuǎn)軸線)之前由5個四極磁體19進(jìn)ー步聚焦。該機(jī)架還包括兩個掃描磁體18，以沿兩個正交方向掃描該束以供筆形束掃描使用。由于在135°的最后偏轉(zhuǎn)磁體與等中心點(diǎn)之間加的大距離，因此這些掃描磁體18被安裝在最后偏轉(zhuǎn)磁體下游。在最后偏轉(zhuǎn)磁體15與掃描磁體18之間安裝有兩個附加的四極磁體19。這種機(jī)架的缺點(diǎn)在于其具有大尺寸大約IOm的直徑以及超過IOm的長度。該機(jī)架還具有高制造成本。用于質(zhì)子和碳治療的機(jī)架的更新概述由U Wfeinrich在“Gantry design for proton and carbon nadrontherapy facilities", Proceedings of EPAC 2006 (European Particle Accelerator Conference) ，Edingburgh，Scotland中給出。如所不的，全部質(zhì)子等中心機(jī)架具有在9m至Urn之間的縱向尺寸以及束從機(jī)架旋轉(zhuǎn)軸線的最大徑向位移，該最大徑向位移在3 !與5m之間變化。旋轉(zhuǎn)粒子機(jī)架包括旋轉(zhuǎn)束線，該旋轉(zhuǎn)束線總體上包括用于在真空中傳輸粒子束的真空管；用于使粒子束聚焦和散焦的各個四極磁體；用于使粒子束彎曲的各個偶極磁體；以及用于監(jiān)測該束的束監(jiān)測器。本申請中提出的旋轉(zhuǎn)機(jī)架類別是所謂的單平面旋轉(zhuǎn)機(jī)架，該單平面旋轉(zhuǎn)機(jī)架包括構(gòu)造成使得在機(jī)架束線的每個偶極磁體中的彎曲發(fā)生在同一平面內(nèi)的偶極磁體。該單平面機(jī)架類別不同于另ー類別的機(jī)架(具有兩個正交彎曲平面的所謂“螺旋拔塞器式(cork-screw)”機(jī)架)。在單平面機(jī)架類別中，當(dāng)前存在兩種主要構(gòu)造， 這些構(gòu)造在圖IB中示意性地示出，其中示出了由這些機(jī)架中的束跟隨的中心束路徑。該束大致平行于旋轉(zhuǎn)軸線在耦合點(diǎn)或入口點(diǎn)11處進(jìn)入該機(jī)架并且在進(jìn)入第一偶極磁體12、13 之前以第一直束線段開始。該耦合點(diǎn)或入口點(diǎn)被限定為束線的固定部與旋轉(zhuǎn)機(jī)架的束線之間的過渡部。單平面機(jī)架的兩種主要構(gòu)造之間的差別與安裝在機(jī)架中的偶極磁體的數(shù)量有關(guān)。單平面機(jī)架的偶極的彎曲平面還被稱為“水平”平面并且非彎曲平面被稱為“豎直”平面或Y平面。單平面機(jī)架類別的第一主要構(gòu)造是所謂的錐形機(jī)架。示例是由申請人構(gòu)造并且如圖IA所示的質(zhì)子機(jī)架。由這種機(jī)架中的質(zhì)子束跟隨的中心束路徑在圖IB中以虛線示出。 第一 45°偶極磁體12將該束遠(yuǎn)離機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線彎曲，并且該束接著在進(jìn)入第二 135° 偶極磁體15之前跟隨第二直束線段，該第二 135°偶極磁體15使得束彎曲并且將其大致垂直于旋轉(zhuǎn)軸線引導(dǎo)。束與機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線的交點(diǎn)被稱為治療等中心點(diǎn)17。待被照射的靶被定位在治療等中心點(diǎn)處。在由申請人構(gòu)造的錐形機(jī)架構(gòu)造中(圖1A)，耦合點(diǎn)11與第一 45°偶極磁體12之間的直束線段包括四個四極磁體，并且第一偶極磁體12和第二偶極磁體15之間的第二直線段包括五個四極磁體(在圖IB中未示出四極磁體)。由申請人構(gòu)適的錐形機(jī)架構(gòu)適還由 Pavlovic 在‘‘Beam-optics study of the gantry beam delivery system for light-ion cancer therapy",Nuc1. Instr. Meth. In Phys. Res. A 399 (1997)on page 440中討論。單平面機(jī)架類別的第二主要構(gòu)造是所謂的筒形機(jī)架，也稱為桶形機(jī)架。在筒形機(jī)架中的束的中心束路徑也在圖IB中示出，其中用實線表示的束在耦合點(diǎn)11處進(jìn)入機(jī)架，并且在進(jìn)入使得束遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸線彎曲的第一偶極磁體13(例如，第一 60°磁體)之前行進(jìn)通過第一直束線段，并且在進(jìn)入具有相同彎曲角度但具有相反方向的第二偶極磁體14之前由第二直束線段跟隨，從而得到在與機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線平行的第三直束線段中傳播的束。于是，第三90°偶極磁體16還被用于使得束沿與旋轉(zhuǎn)軸線垂直的方向彎曲。這三條直束線段分別包括兩個、兩個和三個四極磁體(在圖IB中未示出)。如圖IB所示的該筒形機(jī)架構(gòu)造與針對PSI質(zhì)子機(jī)架2提出的幾何尺寸對應(yīng)，該P(yáng)SI質(zhì)子機(jī)架2由Wfeinrich (966-967頁以及966頁的圖8)討論。通過Weinrich所討論的全部等中心機(jī)架構(gòu)造，與機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線具有最小的最大徑向束位移(這還被稱為機(jī)架半徑)的機(jī)架通過如上所述針對等中心PSI 質(zhì)子機(jī)架2所提出的設(shè)計來獲得。在該幾何尺寸下，獲得32m的機(jī)架半徑(第967頁表2 的最后ー欄)。筒形機(jī)架的變形是由M· Pavlovic在“Oblique gantry-an alternative solution ior a beam delivery system ior heavy-ion cancer therapy，.，Nucl.丄nstr. Metn. in Phys. Res. A 434 (1999) on page 4M-466中公開的所謂傾斜機(jī)架。正如標(biāo)準(zhǔn)筒形機(jī)架的那樣，該傾斜機(jī)架也包括三個偶極磁體，其中前面兩個偶極磁體具有相同的彎曲角度但是具有相反的符號，從而導(dǎo)致束沿與機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線平行的方向在第二偶極和第三偶極之間傳播(見I^avlovic等人的，460頁的圖3)。第三偶極磁體具有小于90° (例如60° )的角度，并且因此最終束不垂直于機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線被輸送，如同上述標(biāo)準(zhǔn)筒形機(jī)架那樣。相反， 該最終束以相對于機(jī)架軸線的不同于90°的角度在等中心點(diǎn)處被輸送。例如，在第三偶極磁體的彎曲角度是60°的情況下，該束在60°的角度下被輸送。這種傾斜機(jī)架的缺點(diǎn)在干，在不移動患者的情況下，一個機(jī)架不能覆蓋全部治療角度。例如，對于60°的傾斜機(jī)架， 治療角度被局限于-60°至+60°的扇區(qū)(見463頁的部分4的第一句)。在EP1041579A1中，公開了筒形機(jī)架構(gòu)造的附加示例。在該專利申請的圖1中，筒形機(jī)架被示出并且在表2中被規(guī)定第一偶極磁體和第二偶極磁體具有42°的彎曲角度， 并且第三偶極磁體具有90°的彎曲角度。如在該專利申請的摘要中提及的，預(yù)期其他構(gòu)造， 即第一偶極磁體具有在40°至45°范圍內(nèi)的彎曲角度且第二偶極磁體具有與第一偶極磁體相同的彎曲角度，以使得該束平行于機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線彎曲。第三彎曲磁體具有在45°至 90°范圍內(nèi)的彎曲角度，用于使該束朝向機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線彎曲并且使得該束與該旋轉(zhuǎn)軸線相交。如上所述，如果最后彎曲磁體具有小于90°的彎曲角度(這是所謂的傾斜機(jī)架)，那么該束不會與機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線垂直地被輸送。同樣，這種傾斜機(jī)架構(gòu)造的缺陷在干，不能覆蓋全部的治療角度。申請人:開發(fā)并且如圖IA所示的錐形機(jī)架以及PSI機(jī)架2(見Weinrich的966頁的圖8)的筒形機(jī)架構(gòu)造被設(shè)計用于供筆形束掃描系統(tǒng)使用。在45° -135°錐形機(jī)架構(gòu)造中，用于沿水平平面(也稱為X方向)以及豎直平面(也稱為Y方向)掃描該束的掃描磁體18被安裝在135°偶極磁體的下游。這種機(jī)架構(gòu)造的缺陷在干，需要在最后偏轉(zhuǎn)磁體 (在該示例中，135°磁體)的出口與機(jī)架等中心點(diǎn)之間提供大的間距，這導(dǎo)致大的機(jī)架半徑R。該掃描磁體需要被安裝得足夠遠(yuǎn)離等中心點(diǎn)(例如，加或更多)，以便具有足夠大的 SAD(源軸距)。SAD越大，皮膚劑量就越小。如圖IB所示，對于該錐形機(jī)架，被限定為從該束到機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線的最大距離的機(jī)架半徑是大約4. 5m。在筒形PSI機(jī)架2構(gòu)造中，掃描磁體18被安裝在第二 60°偶極磁體14與最后 90°偶極磁體16之間。該機(jī)架構(gòu)造的主要缺陷在于，最后90°偏轉(zhuǎn)磁體16需要具有大間隙(豎直)和大極寬(水平)，以便能夠在等中心點(diǎn)的大靶面積(例如，25cmX20cm或 40cmx30cm)內(nèi)掃描該束。因此，這種90°偶極磁體的尺寸和重量是大的，并且此外功耗是高的。這種90°磁體能夠重達(dá)20噸。第二缺陷在干，第二 60°偶極磁體14與最后90° 偏轉(zhuǎn)磁體之間的直平行線段是相對長的，這導(dǎo)致長的軸向機(jī)架尺寸。該P(yáng)SI機(jī)架2具有如 Weinrich (966頁的表2)中描述的11. 6m的軸向長度，該軸向長度被限定為耦合點(diǎn)11與等中心點(diǎn)之間的軸向距離。具有90°最后偏轉(zhuǎn)磁體的筒形機(jī)架構(gòu)造同樣在專利US7348579中被討論。本發(fā)明旨在提供ー種克服現(xiàn)有技術(shù)的問題的裝置。本發(fā)明的目的在于設(shè)計ー種機(jī)架，該機(jī)架與現(xiàn)有技術(shù)的機(jī)架相比能夠以降低的成本構(gòu)造并且其中最后偶極磁體的功耗降低。附加目的還在于降低機(jī)架的總尺寸，使得治療室的容積能夠減少，且因此建筑的成本也能夠減少。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明由所附權(quán)利要求書闡述并表征。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供ー種等中心機(jī)架，所述等中心機(jī)架被設(shè)計用于繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)并且用于輸送粒子束以用于粒子治療。所述等中心機(jī)架包括機(jī)架束線，所述機(jī)架束線具有用于使所述粒子束沿大致平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的方向進(jìn)入到所述機(jī)架中的機(jī)架入口點(diǎn)；第一偶極磁體、第二偶極磁體和第三偶極磁體，這些偶極磁體順序設(shè)置用于依次使得所述粒子束在單平面內(nèi)彎曲并且用于沿大致垂直于旋轉(zhuǎn)軸線的方向在等中心點(diǎn)處輸送所述粒子束；四極磁體，所述四極磁體用于使所述粒子束聚集和散焦；所述等中心機(jī)架的進(jìn)ー步特征在干，所述第三偶極磁體具有小于90°、優(yōu)選地小于80°、更優(yōu)選地小于70°的彎曲角度。最優(yōu)選地，所述第三偶極磁體具有60°的彎曲角度。更優(yōu)選地，所述機(jī)架入口點(diǎn)與所述第一偶極磁體的入口之間的束線段是短漂移段。這意味著在所述入口點(diǎn)與所述第一偶極磁體的所述入口之間不安裝四極磁體。甚至更優(yōu)選地，所述第一偶極磁體和所述第二偶極磁體之間的所述束線段包括五個四極磁體，并且所述第二偶極磁體和所述第三偶極磁體之間的束線段不包括四極磁體。甚至更優(yōu)選地，所述等中心機(jī)架包括用于使所述機(jī)架在至少180°的角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)的裝置。根據(jù)本發(fā)明的機(jī)架還能夠包括粒子束掃描裝置或適于在所述等中心點(diǎn)處提供寬束的粒子束散射裝置，所述粒子束掃描裝置被安裝在所述第二偶極磁體與所述第三偶極磁體之間并且構(gòu)造用于在所述等中心點(diǎn)處的靶區(qū)內(nèi)掃描所述粒子束。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供ー種粒子治療設(shè)備，所述粒子治療設(shè)備包括粒子加速器；用于改變粒子能量的裝置；束傳輸系統(tǒng)；以及根據(jù)本發(fā)明第一方面的等中心機(jī)架。


圖IA示出了現(xiàn)有技術(shù)機(jī)架構(gòu)造的示意圖。圖IB示出了由用于兩種現(xiàn)有技術(shù)機(jī)架構(gòu)造的粒子束跟隨的跡線的示意圖。圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性機(jī)架的布局的示意圖。圖3示出了用于圖2的機(jī)架的束光學(xué)計算的結(jié)果。圖4是當(dāng)掃描圖2的機(jī)架中的束時的束光學(xué)計算的結(jié)果。圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性機(jī)架機(jī)械結(jié)構(gòu)的概念視圖。圖6示出了用于現(xiàn)有技術(shù)機(jī)架的治療室布局連同用于根據(jù)本發(fā)明的機(jī)架的治療至局。圖7示出了由用于根據(jù)本發(fā)明的各種機(jī)架構(gòu)造的質(zhì)子束跟隨的中心束路徑。
具體實施例方式現(xiàn)將關(guān)于附圖來詳細(xì)地描述本發(fā)明。然而，顯然，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠構(gòu)想到若干等同的實施方式或執(zhí)行本發(fā)明的其他方式。首先，公開了包括筆形束掃描系統(tǒng)的示例性單平面機(jī)架，該單平面機(jī)架同時是緊湊的、具有降低的重量并且具有降低的生產(chǎn)成本以及具有較低的功率消耗。
圖2示出了這種機(jī)架的優(yōu)選布局。機(jī)架被示出處于90°的角位置(即，當(dāng)沿平行于機(jī)架軸線的方向從等中心點(diǎn)27朝向第一偶極磁體20看吋，機(jī)架在三點(diǎn)鐘處)。機(jī)架具有三個偶極磁體20、21、22并且具有用于在X和Y上掃描該束的被安裝在第二偶極磁體21和第三偶極磁體22之間的裝置23。在第一偶極磁體20和第二偶極磁體21之間，安裝有許多四極磁體24。在機(jī)架入口點(diǎn)25與第一偶極磁體20的入口之間的束線段優(yōu)選地是不包括四極磁體的短漂移段。如圖2中用虛線所示的，該機(jī)架在旋轉(zhuǎn)時繪制的總體形狀能夠被近似為對頂圓錐，第一圓錐具有處于耦合點(diǎn)25的水平的頂點(diǎn)以及垂直于機(jī)架旋轉(zhuǎn)軸線的底部， 并且該底部在該束實現(xiàn)等于第一偶極磁體的角度的第一角旋轉(zhuǎn)的位置處與該第二偶極磁體21交叉。第二圓錐是截錐，該截錐具有與第一圓錐的底部重合的底部并且其頂點(diǎn)由平行于底平面的平面切斷，如圖2所示。在本發(fā)明的優(yōu)選實施方式中，第三偶極磁體22具有60°的彎曲角度，第一偶極磁體20具有36°的彎曲角度。于是，第二磁體的彎曲角度被計算為36° +90° -60° =66°。 在第二偶極磁體21和第三偶極磁體22之間，能夠提供用于在X和Y上掃描粒子束的裝置。 該情況是，優(yōu)選地將組合X-Y掃描磁體用于該端，因為這與用于X和Y方向的兩個單獨(dú)掃描磁體相比占用更少的空間。在機(jī)架入口點(diǎn)25與第一偶極磁體20之間的第一直束線段的長度是大約0.細(xì)長并且是純漂移段(即，在該段中未安裝有四極磁體)。在本發(fā)明的優(yōu)選實施方式中，在第一 36°偶極磁體20與第二 66°偶極磁體21之間安裝有五個四極磁體?？捎糜诎惭b這些四極磁體的空間，即第一偶極磁體和第二偶極磁體之間的直線段的長度是大約3.5m。第二 66°偶極磁體21與第三60°偶極磁體之間的直束線段的長度是大約0. Sm。 60°最后彎曲磁體22的出口與等中心點(diǎn)27之間的距離是大約lm，這允許足夠的空間不僅用于安頓患者還用于例如在60°彎曲偶極22的出口與患者之間安裝監(jiān)測檢測器(例如，劑量監(jiān)測檢測器和/或束定位監(jiān)測檢測器)。在表1中概述了設(shè)計用作根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施方式的機(jī)架的最后偶極磁體22的磁體的主要特征。給出的示例是用于為具有2. 3Tm的磁剛度(例如，235MeV的質(zhì)子)的粒子束而設(shè)計。為了限制功耗，該磁體使用大截面的鞍形線圈(也已知為床架線圈)。如表1所示，磁體的重量是大約9. 17噸(包括線圈的2. 05噸)并且在235MeV的束能量下的總磁體功率是226kW。該60°偶極磁體具有旋轉(zhuǎn)17°的極面，以便提供附加的豎直聚焦，如將在下文討論的。
權(quán)利要求
1.ー種等中心機(jī)架，所述等中心機(jī)架被設(shè)計用于繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)并且用于輸送粒子束以用于粒子治療，所述等中心機(jī)架包括機(jī)架束線，所述機(jī)架束線具有用于使所述粒子束沿大致平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的方向進(jìn)入到所述機(jī)架中的機(jī)架入口點(diǎn)05)；第一偶極磁體OO)、第二偶極磁體01)和第三偶極磁體(22)，這些偶極磁體順序設(shè)置用于依次使得所述粒子束在單平面內(nèi)彎曲并且用于沿大致垂直于所述旋轉(zhuǎn)軸線的方向在等中心點(diǎn)07)處輸送所述粒子束；四極磁體(M)，所述四極磁體用于使所述粒子束聚集和散焦；所述等中心機(jī)架的特征在干，所述第三偶極磁體02)具有小于80°的彎曲角度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述第三偶極磁體0 具有60° 的彎曲角度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述機(jī)架入口點(diǎn)0 與所述第一偶極磁體OO)的入口之間的束線段是短漂移段。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述第一偶極磁體 (20)和所述第二偶極磁體01)之間的束線段包括五個四極磁體04)；并且，所述第二偶極磁體01)和所述第三偶極磁體0 之間的束線段不包括四極磁體04)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的等中心機(jī)架，所述等中心機(jī)架還包括用于使所述機(jī)架在至少180°的角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)的裝置。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述等中心機(jī)架還包括粒子束掃描裝置(23)，所述粒子束掃描裝置被安裝在所述第二偶極磁體01)與所述第三偶極磁體02)之間并且構(gòu)造成用于掃描在所述等中心點(diǎn)07)處的靶區(qū)內(nèi)的所述粒子束ο
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述粒子束掃描裝置じ幻包括組合X-Y掃描磁體。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述等中心機(jī)架還包括粒子束散射裝置，所述粒子束散射裝置適于在所述等中心點(diǎn)07)處提供寬束。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的等中心機(jī)架，其特征在干，所述粒子束散射裝置包括安裝在所述第二偶極磁體01)與所述第三偶極磁體(2 之間的第一散射裝置以及安裝在所述第三偶極磁體0 后面的第二散射裝置。
10.ー種粒子治療設(shè)備，所述粒子治療設(shè)備包括粒子加速器；用于改變粒子能量的裝置；束傳輸系統(tǒng)；以及根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的等中心機(jī)架。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于放射治療的粒子治療設(shè)備。更具體地，本發(fā)明涉及一種緊湊等中心機(jī)架，該機(jī)架用于以與所述機(jī)架的旋轉(zhuǎn)軸線垂直的方式輸送粒子束。該機(jī)架包括三個偶極磁體。最后偶極磁體的角度小于90°，并且該最后偶極磁體的最優(yōu)選彎曲角度是60°。
文檔編號A61N5/10GK102596316SQ201080048899
公開日2012年7月18日 申請日期2010年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月28日
發(fā)明者Y·喬丹 申請人:離子束應(yīng)用公司