專利名稱：放射線圖像攝影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及放射線圖像攝影裝置，該放射線圖像攝影裝置具有用于將放射線轉(zhuǎn)換成熒光的閃爍體以及用于將熒光轉(zhuǎn)換為電信號的光檢測基板。
背景技術(shù)：
在醫(yī)療領(lǐng)域，慣常從放射線源向被攝體施加放射線并且使用組成放射線圖像攝影裝置的一部分的放射線檢測部來檢測透過被攝體的放射線，由此拍攝被攝體的放射線圖像。放射線圖像攝影裝置包括用于將透過被攝體的放射線轉(zhuǎn)換為熒光的閃爍體以及用于將熒光轉(zhuǎn)換為電信號的光檢測基板。光檢測基板包括光檢測器件，這些器件包括用于檢測熒光的光電二極管。如果光檢測器件的光電二極管由非晶硅(a-Si)等制成，則從熒光轉(zhuǎn)換來的一些電荷(即，電子)被非晶硅的雜質(zhì)能級(缺陷)暫時束縛。如果這種被束縛的電子隨后由于光電二極管的溫度升高而被釋放(可能在長時間拍攝運(yùn)動圖像時造成)，則會生成諸如暗電流的不必要的電流，有可能在得到的被攝體的放射線圖像中產(chǎn)生噪聲。為了解決此問題，如日本專利特開No. 2010-525359 (PCT)和日本專利特開No. 2007-225598中公開的，提出一種光復(fù)位處理，該處理用于通過在不向被攝體施加放射線時(即，如果不拍攝被攝體的放射線圖像時)向光電二極管施加復(fù)位光來減少噪聲，以由此將電荷嵌入雜質(zhì)能級，使得從熒光轉(zhuǎn)換的電荷在向被攝體施加放射線的情況下(即，拍攝被攝體的放射線圖像的情況下)不會被雜質(zhì)能級束縛。根據(jù)日本專利特開No. 2010-525359 (PCT)，具有多個小孔的反射層、閃爍體以及光檢測基板按照所述順序布置，并且通過各小孔及閃爍體向光檢測基板的光檢測元件施加復(fù)位光。根據(jù)日本專利特開No. 2007-225598，反射層、復(fù)位光源、閃爍體及光檢測基板按照所述順序布置，并且從復(fù)位光源發(fā)射的復(fù)位光經(jīng)過閃爍體施加到光檢測基板的光檢測器件。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)日本專利特開No. 2010-525359 (PCT)，由閃爍體從放射線轉(zhuǎn)換來的熒光被直接施加到光檢測基板，或者另選地在被反射層反射后施加到光檢測基板。然而，因?yàn)樵诜瓷鋵又性O(shè)置了多個小孔，到達(dá)反射層的熒光的一部分從小孔逃出，因此施加到光檢測基板的熒光的光量減少，由此使光檢測基板的靈敏度下降。此外，從平面視之，小孔和光檢測元件之間的位置會發(fā)生移位，或者如果將光檢測元件布置在與每個小孔不同的位置，則即使復(fù)位光通過各小孔施加到光檢測元件，復(fù)位效果也不充分(電荷不能夠充分嵌入雜質(zhì)能級中)。因此，如果為了獲得適當(dāng)?shù)膹?fù)位效果而使復(fù)位光的劑量較大，則出現(xiàn)可能由輸出復(fù)位光的復(fù)位光源產(chǎn)生不必要的熱的問題。按照這種方式，根據(jù)日本專利特開No. 2010-525359 (PCT)提出的技術(shù)，通過設(shè)置配備有多個小孔的反射層，不能夠獲得高靈敏度的放射線圖像，而在另一方面，不能充分地執(zhí)行基于光的復(fù)位。
另一方面，根據(jù)日本專利特開No. 2007-225598，閃爍體從放射線轉(zhuǎn)換來的熒光被直接施加到光檢測基板，或者經(jīng)過復(fù)位光源被反射層反射，之后經(jīng)過復(fù)位光源和閃爍體而被施加到光檢測基板。然而，由于這種被反射層反射的熒光透過復(fù)位光源，所以很容易產(chǎn)生放射線圖像的模糊。本發(fā)明的目的是提供一種放射線圖像攝影裝置，該裝置能夠向光檢測基板充分地施加復(fù)位光，能夠抑制在所拍攝的放射線圖像中發(fā)生模糊，并且能夠提高光檢測基板對熒光的靈敏度。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種放射線圖像攝影裝置，該放射線圖像攝影裝置包括閃爍體，其用于將放射線轉(zhuǎn)換成熒光；光檢測基板，其用于將所述熒光轉(zhuǎn)換成電信號；復(fù)位光源，其用于向所述光檢測基板施加復(fù)位光；以及切換濾光片，其選擇性地使所述復(fù)位光能夠透過和不能夠透過，其中，所述光檢測基板、所述閃爍體、所述切換濾光片和所述復(fù)位光源按照此順序布置，并且如果使所述切換濾光片能夠被所述復(fù)位光透過，則所述切換濾光片允許所述復(fù)位光通過所述閃爍體施加到所述光檢測基板，如果使所述切換濾光片不能被所述復(fù)位光透過，則所述切換濾光片至少將所述熒光反射向所述光檢測基板。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，如果切換濾光片切換到復(fù)位光可透過狀態(tài)，則復(fù)位光源可以通過切換濾光片和閃爍體將復(fù)位光施加到光檢測基板，以對光檢測基板充分地執(zhí)行光復(fù)位處理。如果切換濾光片切換到復(fù)位光不可透過狀態(tài)，則在由閃爍體從放射線轉(zhuǎn)換來的熒光中，熒光中的向復(fù)位光源行進(jìn)的部分被切換濾光片反射向光檢測基板。因此，反射光通過閃爍體行進(jìn)并且施加到光檢測基板而不到達(dá)復(fù)位光源。因此，可以獲取不模糊的高質(zhì)量放射線圖像，并且可以增加施加到光檢測基板的熒光量，由此提高光檢測基板對熒光的靈敏度。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，由于光檢測基板、閃爍體、切換濾光片和復(fù)位光源按此順序依次布置，并且切換濾光片能夠選擇性地使復(fù)位光可透過和不可透過，因此可以對光檢測基板充分執(zhí)行光復(fù)位處理，可以抑制放射線圖像的模糊，而且還可以提高光檢測基板對熒光的靈敏度。所述閃爍體將透過被攝體的所述放射線轉(zhuǎn)換為所述熒光。所述光檢測基板將所述熒光轉(zhuǎn)換為電信號，所述電信號代表所述被攝體的放射線圖像?；谏婕芭臄z所述被攝體的放射線圖像的圖像攝影順序，所述切換濾光片可以選擇性地切換到所述復(fù)位光可透過的透明狀態(tài)(可透過狀態(tài))、和向所述光檢測基板反射所述熒光并且還向所述復(fù)位光源反射所述復(fù)位光的反射鏡狀態(tài)(不可透過狀態(tài))。根據(jù)針對被攝體的圖像攝影方法(靜止圖像攝影模式或者運(yùn)動圖像攝影模式)， 切換濾光片可以保持透明狀態(tài)或者反射鏡狀態(tài)，或者可以切換到透明狀態(tài)或反射鏡狀態(tài)， 以由此針對光檢測基板可靠且有效地執(zhí)行光復(fù)位處理，并且高靈敏度地獲取被防止變模糊的高質(zhì)量的放射線圖像。如果處于反射鏡狀態(tài)的切換濾光片向光檢測基板反射熒光，則施加到光檢測基板的熒光量增加。因此，可以減少施加到被攝體的放射線的量，以減少施加到被攝體的放射線劑量。更具體地，根據(jù)以下描述的情況[1]到[9]，期望放射線圖像攝影裝置根據(jù)圖像攝影順序?qū)⑶袚Q濾光片保持在透明狀態(tài)或保持在反射鏡狀態(tài)，或者將切換濾光片切換到透明狀態(tài)或切換到反射鏡狀態(tài)。[1]如果圖像攝影順序包括用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式或者幀速率比幀速率閾值低的運(yùn)動圖像攝影模式，則切換濾光片保持反射鏡狀態(tài)。以上圖像攝影模式尤其要求高靈敏度地獲取高質(zhì)量的放射線圖像。由于上述圖像攝影模式中的圖像攝影間隔相對長，光電二極管的溫度不顯著升高，并且預(yù)期由被雜質(zhì)能級束縛并再次釋放的電荷造成的噪聲不會極大地影響所拍攝的放射線圖像。如果接收到上述圖像攝影順序，則切換濾光片保持反射鏡狀態(tài)以阻止光復(fù)位處理，并且將閃爍體從放射線轉(zhuǎn)換來的熒光反射向光檢測基板，由此增加施加到光檢測基板的熒光量。結(jié)果，在情況[1]中，能夠很容易高靈敏度地獲取低噪聲的高質(zhì)量放射線圖像， 抑制了放射線圖像的模糊。[2]如果圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式，則切換濾光片保持透明狀態(tài)。在運(yùn)動圖像攝影模式的情況下，由于在延長的時段拍攝圖像，光電二極管的溫度升高，并且預(yù)期由于重新釋放被雜質(zhì)能級束縛的電荷而造成的噪聲將顯著地負(fù)面影響放射線圖像。因此，通過保持切換濾光片的透明狀態(tài)，能夠在拍攝放射線圖像之間的不施加放射線時執(zhí)行光復(fù)位，結(jié)果，可以減少放射線圖像中的噪聲。[3]如果圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式，則切換濾光片在被攝體被放射線照射時在每一幀中保持反射鏡狀態(tài)，并且在被攝體不被放射線照射時保持透明狀態(tài)，切換濾光片藉此在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換。在此情況下，由于切換濾光片在一幀中在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換， 如果被攝體被放射線照射，則切換濾光片保持反射鏡狀態(tài)以將熒光可靠地反射向光檢測基板，由此增加施加到光檢測基板的熒光量。此外，如果被攝體不被放射線照射，則由于切換濾光片保持透明狀態(tài)，可以對光檢測基板充分執(zhí)行光復(fù)位處理。因此按照這種方式，在運(yùn)動圖像攝影模式中，切換濾光片在一幀中在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間交替地切換，由此高靈敏度地獲取高質(zhì)量的放射線圖像，并且還減少了所獲取的放射線圖像中的噪聲。對于此類型的切換濾光片而言，必須具有能夠足以跟上運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率的切換時間，即，切換濾光片具有比圖像攝影循環(huán)之間的時間間隔短的切換時間。因此，在不具有能夠足以跟上幀速率的切換時間的切換濾光片的情況下，可以優(yōu)選地應(yīng)用上述情況[2]。[4]如果圖像攝影順序包括高速運(yùn)動圖像攝影模式和用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式，則切換濾光片在運(yùn)動圖像攝影模式中保持透明狀態(tài)，并且在靜止圖像攝影模式中保持反射鏡狀態(tài)，并且還在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)，或者切換濾光片在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。按照這種方式，通過在圖像攝影方法(即，靜止圖像攝影模式和運(yùn)動圖像攝影模式)之間發(fā)生切換時對切換濾光片的狀態(tài)進(jìn)行切換，能夠可靠地獲取與圖像攝影方法相對應(yīng)的最優(yōu)化的放射線圖像。[5]如果圖像攝影順序包括幀速率比幀速率閾值高的運(yùn)動圖像攝影模式以及用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式，則切換濾光片在靜止圖像攝影模式期間保持反射鏡狀態(tài)，并且還在運(yùn)動圖像攝影模式期間的每一幀中向被攝體施加放射線期間保持反射鏡狀態(tài)，并且在不向被攝體施加放射線時保持透明狀態(tài)，藉此依次執(zhí)行反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換，并且切換濾光片在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時從切換濾光片在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)，或者在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到切換濾光片在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)。即使用這種類型的圖像攝影順序，由于能夠在切換圖像攝影方法時對切換濾光片的狀態(tài)進(jìn)行可靠的切換，也能夠可靠地獲取與圖像攝影方法相對應(yīng)的最優(yōu)化的放射線圖像。幀速率閾值是指用于確定是否需要光復(fù)位處理的閾值。如果圖像攝影順序中包括的運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比幀速率閾值高，則確定需要光復(fù)位處理。另一方面，如果圖像攝影順序中包括的運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比幀速率閾值低，則確定不需要光復(fù)位處理。因此，如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比幀速率閾值高，因而需要光復(fù)位處理，并且如果切換濾光片能夠以跟上幀速率的方式在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換，則切換濾光片在一幀中在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換，由此使得能夠在被攝體不被放射線的同時在圖像攝影循環(huán)之間可靠地執(zhí)行光復(fù)位處理。[6]如果圖像攝影順序包括幀速率比幀速率閾值低的第一運(yùn)動圖像攝影模式以及幀速率比幀速率閾值高的第二運(yùn)動圖像攝影模式，則切換濾光片在第一運(yùn)動圖像攝影模式期間保持反射鏡狀態(tài)，并且在第二圖像攝影模式期間保持透明狀態(tài)，并且切換濾光片在第一運(yùn)動圖像攝影模式切換到第二運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)，或者在第二運(yùn)動圖像攝影模式切換到第一運(yùn)動圖像攝影模式時從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。因此，即使圖像攝影順序的幀速率在放射線圖像攝影處理中改變，假定切換濾光片的狀態(tài)在幀速率改變時被切換，也能夠可靠地獲取與幀速率相對應(yīng)的最優(yōu)化的放射線圖像。[7]如果圖像攝影順序包括上述第一運(yùn)動圖像攝影模式和上述第二運(yùn)動圖像攝影模式，則切換濾光片在第一運(yùn)動圖像攝影模式中保持反射鏡狀態(tài)，并且在每一幀中，切換濾光片在被攝體被放射線照射時保持反射鏡狀態(tài)，并且在被攝體不被放射線照射時保持透明狀態(tài)，切換濾光片藉此在第二運(yùn)動圖像攝影模式中在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換，并且切換濾光片在第一運(yùn)動圖像攝影模式切換到第二運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)，或者在第二運(yùn)動圖像攝影模式切換到第一運(yùn)動圖像攝影模式時從在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。即使在情況[7]的圖像攝影順序(與情況[6]相似)在放射線圖像攝影處理期間改變幀速率，通過在改變幀速率時對切換濾光片進(jìn)行切換，能夠可靠地獲得與幀速率相對應(yīng)的最優(yōu)化的放射線圖像。[8]如果圖像攝影順序包括上述第一運(yùn)動圖像攝影模式和上述第二運(yùn)動圖像攝影模式，如果圖像攝影順序包括按照第一運(yùn)動圖像攝影模式和第二運(yùn)動圖像攝影模式的順序的圖像攝影序列，則切換濾光片在保持反射鏡狀態(tài)直至第一運(yùn)動圖像攝影模式中的預(yù)定幀之后切換到透明狀態(tài)，并且接著在切換之后的任何剩余幀以及在第二運(yùn)動圖像攝影模式中保持透明狀態(tài)，并且如果所述圖像攝影順序包括按照第二運(yùn)動圖像攝影模式和第一運(yùn)動圖像攝影模式的順序的圖像攝影序列，則切換濾光片在第二運(yùn)動圖像攝影模式中保持透明狀態(tài)直至第一圖像攝影模式中的預(yù)定幀為止，之后切換到反射鏡狀態(tài)，并且接著在切換之后的任何剩余幀保持反射鏡狀態(tài)。鑒于反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換需要時間這個事實(shí)，可能在第一運(yùn)動圖像攝影模式和第二運(yùn)動圖像攝影模式改變時發(fā)生不能順利執(zhí)行反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換的情況。由此，按照上述方式，通過在幀速率低的第一圖像攝影模式的幀之間和在第二圖像攝影模式期間在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間進(jìn)行切換，能夠可靠地避免由于被雜質(zhì)能級束縛并接著被再次釋放的電荷造成的放射線圖像中的噪聲的添加。[9]如果以上情況[6]到[8]中指示的圖像攝影順序還包括用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式，則切換濾光片在靜止圖像攝影模式中保持反射鏡狀態(tài)，并且在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時從切換濾光片對應(yīng)于運(yùn)動圖像攝影狀態(tài)的狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)，或者在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到切換濾光片對應(yīng)于運(yùn)動圖像攝影狀態(tài)的狀態(tài)。因此，即使圖像攝影順序包括靜止圖像攝影模式，通過如上所述地切換切換濾光片，在每一種圖像攝影模式中都能夠容易地獲取最優(yōu)化的放射線圖像。在上述放射線圖像攝影裝置中，光檢測基板包括用于將熒光轉(zhuǎn)換為電信號的多個光檢測器件，并且切換濾光片在其一部分中限定了一直用于使復(fù)位光透過的窗口。如果復(fù)位光源通過該窗口向光檢測器件中的朝向該窗口的一個光檢測器件施加復(fù)位光，則被復(fù)位光照射的光檢測器件檢測由復(fù)位光產(chǎn)生的暗電流信號，并且切換濾光片基于與暗電流信號對應(yīng)的光檢測器件的溫度和圖像攝影順序而切換到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)。被雜質(zhì)能級束縛并被再次釋放的電荷造成的噪聲級可以隨著由非晶硅等制成的光電二極管形式的光檢測器件的溫度而改變。因此，如上所述，通過基于與暗電流信號對應(yīng)的溫度和圖像攝影順序?qū)⑶袚Q濾光片切換到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)，可以有效地減少與光檢測器件的溫度的變化對應(yīng)的噪聲。優(yōu)選地，所述切換濾光片包括調(diào)光鏡膜層，該調(diào)光鏡膜層被以電的方式控制為使所述復(fù)位光可透過或不可透過。所述切換濾光片包括所述復(fù)位光可透過的透明基材，并且所述調(diào)光鏡膜層被布置在所述透明基材上。所述閃爍體被布置在所述調(diào)光鏡膜層側(cè)，并且所述復(fù)位光源被布置在所述透明基材側(cè)。因此，所述切換濾光片可以容易且有效地切換到可透過狀態(tài)或不可透過狀態(tài)(反射鏡狀態(tài))。此外，所述復(fù)位光源可以包括以朝向所述光檢測基板布置的發(fā)光元件的陣列、背光或者電致發(fā)光光源，所述切換濾光片和所述閃爍體被夾在所述復(fù)位光源和所述光檢測基板之間。所述背光包括導(dǎo)光板，其被布置在所述切換濾光片的相對于所述閃爍體的相反側(cè)；光源，其被布置在所述導(dǎo)光板側(cè)部；反射片，其圍繞所述導(dǎo)光板和所述光源布置；以及擴(kuò)散片，其布置在所述導(dǎo)光板的朝向所述切換濾光片的表面上。所述光源向所述導(dǎo)光板施加光，并且施加到所述導(dǎo)光板的所述光在所述反射片和所述擴(kuò)散片的表面之間在所述導(dǎo)光板中反復(fù)反射，之后所述光作為所述復(fù)位光從所述漫射片向所述切換濾光片發(fā)射。按照這種方式，所述背光使得能夠?qū)⑺龉庠床贾迷诓槐环派渚€照射的區(qū)域中。 因此，防止所述光源由于放射線而退化。所述光源可以包括發(fā)光二極管或者冷陰極射線管。此外，如果所述復(fù)位光源是有機(jī)電致發(fā)光光源的形式，則可以將復(fù)位光源制造得小。在上述放射線圖像攝影裝置中，所述閃爍體和所述光檢測基板可以被接合層彼此接合，所述閃爍體和所述光檢測基板可以被粘接層彼此粘接，或者所述閃爍體可以直接在所述光檢測基板上沉積為膜。在此情況下，在氣相沉積基板上將閃爍體沉積為膜之后，閃爍體的遠(yuǎn)端部分和光檢測基板可以被接合層彼此接合或者被粘接層彼此粘接。如果氣相沉積基板對于復(fù)位光而言不透明，則在在氣相沉積基板上通過剝離層將閃爍體沉積為膜之后，閃爍體的遠(yuǎn)端部分和光檢測基板可以被接合層彼此接合或者被粘接層彼此粘接，之后，剝離層和氣相沉積基板可以從閃爍體剝離，并且復(fù)位光源可以布置在閃爍體的剝離表面上。另一方面，如果氣相沉積基板對于復(fù)位光而言透明，則復(fù)位光源可以布置在基板上，氣相沉積基板保持在其間。所述光檢測基板可以包括光檢測器件，用于將熒光轉(zhuǎn)換為電信號；以及開關(guān)元件，用于從所述光檢測器件讀取電信號。所述光檢測器件可以由有機(jī)光電轉(zhuǎn)換材料或者非晶氧化物半導(dǎo)體制成，并且所述開關(guān)元件可以由有機(jī)半導(dǎo)體材料、非晶氧化物半導(dǎo)體或碳納米管制成。由此，所述光檢測器件和所述開關(guān)器件可以在低溫沉積為膜。所述放射線圖像攝影裝置還可以包括傾斜光阻擋層，所述傾斜光阻擋層用于阻擋相對于施加所述放射線的方向傾斜地行進(jìn)的所述熒光或所述復(fù)位光，所述傾斜光阻擋層被夾在所述光檢測基板和所述閃爍體之間。因此，能夠提高光檢測基板對熒光的靈敏度并且防止放射線圖像變得模糊。所述光檢測器基板、所述閃爍體、所述切換濾光片和所述復(fù)位光源按照此順序沿著施加所述放射線的方向依次布置，或者所述復(fù)位光源、所述切換濾光片、所述閃爍體和所述光檢測基板按照此順序依次布置。如果所述復(fù)位光源、所述切換濾光片、所述閃爍體和所述光檢測基板按照此順序沿著施加所述放射線的方向依次布置，則所述切換濾光片可以至少在施加所述放射線時可以保持反射鏡狀態(tài)，以在向所述光檢測基板反射所述熒光的同時向所述復(fù)位光源反射所述復(fù)位光。當(dāng)結(jié)合其中通過說明示例示出本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的附圖進(jìn)行以下描述時，本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將將變得更明顯。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的包含電子盒(放射線圖像攝影裝置)的放射線圖像攝影系統(tǒng)的部分框圖形式的示意圖；圖2是圖1所示的電子盒的立體圖；圖3中的(a)和圖3中的(b)是沿著圖2的直線III-III截取的圖2所示的電子盒的截面圖；圖4中的(a)和圖4中的(b)是圖3中的(a)所示的在放射線檢測部附近的電子盒(根據(jù)第一示例和第二示例的電子盒)的放大片段截面圖；圖5中的(a)和圖5中的(b)是圖3中的(b)所示的在放射線檢測部附近的電子盒(根據(jù)第三示例和第四示例的電子盒)的放大片段截面圖；圖6中的(a)是放射線檢測部附近的電子盒的放大片段截面圖；圖6中的(b)是光檢測基板附近的電子盒的放大片段截面圖；圖7中的(a)和圖7中的(b)是光檢測基板附近的電子盒的放大片段截面圖；圖8是光檢測基板附近的電子盒的放大片段截面圖；圖9是切換濾光片的截面圖；圖10中的(a)和圖10中的(b)是示出了使切換濾光片成為透明狀態(tài)的方式的截面圖；圖11中的(a)和圖11中的(b)是示出使切換濾光片成為反射鏡狀態(tài)的方式的截面圖；圖12中的(a)和圖12中的(b)是都示出了切換濾光片和復(fù)位光源的截面圖；圖13中的(a)是復(fù)位光源的片段平面圖；圖13中的(b)是示出切換濾光片和復(fù)位光源的截面圖；圖14是示出切換濾光片和復(fù)位光源的截面圖；圖15是圖1所示的電子盒的電氣結(jié)構(gòu)的部分框圖形式的示意圖；圖16是圖1所示的放射線圖像攝影系統(tǒng)的基本操作序列的流程圖；圖17是圖1所示的放射線圖像攝影系統(tǒng)的基本操作序列的流程圖；圖18是切換濾光片的切換序列和復(fù)位序列的流程圖；圖19是切換濾光片的切換序列和復(fù)位序列的流程圖；圖20是示出幀速率閾值如何根據(jù)光電二極管的溫度而變化的圖；圖21中的(a)是示出從靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的時序圖；圖21中的(b)是示出從運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式的時序圖；圖21中的(C)是示出在靜止圖像攝影模式、低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速圖像攝影模式之間切換的時序圖；圖22是確定圖像攝影順序的操作序列的流程圖；圖23是切換濾光片的切換序列和復(fù)位序列的流程圖M是切換濾光片的切換序列和復(fù)位序列的流程圖；圖25是切換濾光片的切換序列和復(fù)位序列的流程圖；圖沈是切換濾光片的切換序列和復(fù)位序列的流程圖；圖27中的(a)是在切換濾光片上設(shè)置的窗口的平面圖；圖27中的(b)是示出具有窗口的切換濾光片操作的方式的片段圖；圖觀中的(a)是示出通過在氣相沉積基板上通過薄膜沉積形成閃爍體的方式的截面圖；圖觀中的(b)是示出形成防潮保護(hù)膜的方式的截面圖；圖觀中的(c)是示出將閃爍體接合或者粘接到光檢測基板上的方式的截面圖；圖四中的(a)是示出從閃爍體剝離氣相沉積基板和剝離層的狀態(tài)的截面圖；圖四中的(b)是示出去除閃爍體的基端部分的狀態(tài)的截面圖；圖30中的(a)和圖30中的(b)是示出根據(jù)本發(fā)明的第二示例的、在放射線檢測部附近的電子盒的片段截面圖；圖31是示出根據(jù)第二示例的、在放射線檢測部附近的電子盒的片段截面圖；圖32中的(a)是示出根據(jù)第三示例的、在放射線檢測部附近的電子盒的片段截面圖；以及圖32中的(b)是示出根據(jù)第四示例的、在放射線檢測部附近的電子盒的片段截面圖。
具體實(shí)施例方式下面將參照圖1到圖32(b)詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的放射線圖像攝
影裝置。第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的包含電子盒(放射線圖像攝影裝置)20的放射線圖像攝影系統(tǒng)10的部分框圖形式的示意圖。如圖1所示，放射線圖像攝影系統(tǒng)10包括放射線輸出裝置18，其用于向被攝體 14(諸如躺在如床等的圖像攝影臺12上的患者)施加放射線16 ；電子盒20，其用于檢測透過被攝體14的放射線16并將檢測到的放射線轉(zhuǎn)換為放射線圖像；控制臺22，其用于整體上控制放射線圖像攝影系統(tǒng)10并接收來自醫(yī)生或者放射技師(在下文中稱為“醫(yī)生”)的輸入動作；以及顯示裝置對，其用于顯示所拍攝的放射線圖像等。放射線輸出裝置18、電子盒20、控制臺22和顯示裝置M利用根據(jù)諸如UWB (超寬帶)、IEEE802. 11. a/b/g/n等標(biāo)準(zhǔn)的無線LAN方式或者使用毫米波的無線通信來相互發(fā)送和接收信號。放射線輸出裝置18、電子盒20、控制臺22和顯示裝置M還可以通過電纜以有線通信方式相互發(fā)送和接收信號?？刂婆_22連接到放射線信息系統(tǒng)(RIS) 26，該放射線信息系統(tǒng)總體上管理由醫(yī)院的放射科負(fù)責(zé)的放射線圖像信息和其它信息。RIS沈連接到醫(yī)院信息系統(tǒng)(HIS) 28，該醫(yī)院信息系統(tǒng)總體上管理醫(yī)院中的醫(yī)療信息。放射線輸出裝置18具有用于發(fā)射放射線16的放射源30、用于控制放射源30的放射線源控制部32以及放射線開關(guān)34。從放射源30發(fā)射的放射線16可以是X射線、阿爾法射線、貝塔射線、伽馬射線或電子束等。放射線開關(guān)34可以按兩種行程按下，S卩，可以半行程地和全行程地按下放射線開關(guān)34。如果醫(yī)生半行程地按下放射線開關(guān)34，則放射線開關(guān) 34向放射源控制裝置32發(fā)送信號以使放射源30準(zhǔn)備發(fā)射放射線16。如果醫(yī)生全行程地按下放射線開關(guān)34，則放射線開關(guān)34向放射源控制裝置32發(fā)送信號以使放射源30能夠開始發(fā)射放射線16。由于放射線輸出裝置18、電子盒20、控制臺22和顯示裝置M可以相互發(fā)送和接收信號，所以如果醫(yī)生半行程地按下放射線開關(guān)；34，則放射線輸出裝置18可以向控制臺22 發(fā)送信號以指出放射源30正在準(zhǔn)備發(fā)射放射線16，并且如果醫(yī)生全行程地按下放射線開關(guān)34，則放射線輸出裝置18可以向控制臺22發(fā)送信號以指出放射源30能夠發(fā)射放射線 16。圖2是圖1所示的電子盒20的立體圖，并且圖3(a)和圖3(b)是沿著圖2中的直線III-III截取的圖2所示的電子盒20的截面圖。電子盒20具有面板40和布置在面板40上的控制部42。面板40比控制部42薄。面板40包括大致矩形的殼體44，殼體44由可透過放射線16的材料制成(參見圖 1)。面板40具有上照射面46，該上照射面46被放射線16照射。照射面46具有大致在其中心布置的引導(dǎo)線48，引導(dǎo)線48用作圖像攝影區(qū)域和被攝體14的圖像攝影位置的基準(zhǔn)。 引導(dǎo)線48包括表示圖像攝影區(qū)域50的外框，指示了照射面46上要被放射線16照射的照射場。引導(dǎo)線48具有處于圖像攝影區(qū)域50的中心區(qū)中的中心位置，引導(dǎo)線48在該中心位置處按十字形圖案彼此交叉。電子盒20還在位于其靠近控制部42側(cè)面上具有供醫(yī)生抓握的把手52。醫(yī)生可以抓住把手52并將電子盒20攜帶到需要的位置處(例如，圖像攝影臺12)。因此，電子盒20 用作便攜式放射線圖像攝影裝置。控制部42包括大致矩形的殼體M，該殼體M由放射線16不可透過的材料制成。 殼體M沿著照射面46的端部延伸，并且控制部42布置在圖像攝影區(qū)域50之外的照射面 46上。殼體M的上表面上具有觸摸板形式的顯示控制面板56以供醫(yī)生輸入各種項(xiàng)目的信息，并且殼體M具有用于向醫(yī)生輸出代表各種通知的聲音的揚(yáng)聲器58。殼體M還在其側(cè)面上具有交流電適配器輸入端子60，從外部電源向該輸入端子60提供充電電力，并且殼體 54還具有用作向和從諸如控制臺22的外部裝置發(fā)送和接收信息的接口的USB端子62。如圖3(a)和圖3(b)所示，殼體44把用于將放射線16轉(zhuǎn)換為放射線圖像的放射線檢測部70容納在其內(nèi)。放射線檢測部70包括間接轉(zhuǎn)換型放射線檢測部，該檢測部包括光檢測基板72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源78，它們按照此順序布置。閃爍體74將透過被攝體14的放射線16轉(zhuǎn)換為熒光，例如，轉(zhuǎn)換成可見光范圍或者紫外光范圍內(nèi)的熒光。在稍后描述的圖11(a)和圖11(b)中，閃爍體74將放射線16轉(zhuǎn)換為可見光130。在以下的描述中，除另行表明的以外，假定閃爍體74將放射線16轉(zhuǎn)換為可見光130。光檢測基板72將諸如熒光的可見光130轉(zhuǎn)換為電信號。復(fù)位光源78向光檢測基板72施加復(fù)位光132(參見圖10(a)到圖12(b)，圖13(b)和圖14)以復(fù)位光檢測基板72 的光檢測器件94 (參見圖6 (a)到圖8)。切換濾光片76能夠在透射狀態(tài)和阻擋狀態(tài)之間選擇性地切換，在透射狀態(tài)中使復(fù)位光132透過，在阻擋狀態(tài)中阻擋復(fù)位光132透射。取決于光檢測基板72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源78沿著施加放射線 16的方向布置的順序，根據(jù)本實(shí)施方式的電子盒20可以作為根據(jù)四個示例的不同電子盒 (即，根據(jù)第一示例到第四示例的電子盒20A到20D)而得到。圖3(a)示出了根據(jù)第一示例和第二示例的電子盒20A、20B。電子盒20A、20B中的每一個都是間接轉(zhuǎn)換型放射線圖像攝影裝置，其中放射線檢測部70是ISS (照射側(cè)采樣 (Irradiation Side Sampling))型(即，表面讀取型)，該種放射線檢測部包括光檢測基板 72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源78，光檢測基板72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源78按照此順序沿著施加放射線16的方向布置(參見圖1、圖4(a)到圖5(b))。圖3(b)示出了根據(jù)第三示例和第四示例的電子盒20C、20D。電子盒20C、20D中的每一個都是間接轉(zhuǎn)換型放射線圖像攝影裝置，其中放射線檢測部70是PSS (穿透側(cè)采樣 (Penetration Side Sampling))型(即，背面讀取型)，該種放射線檢測部包括復(fù)位光源 78、切換濾光片76、閃爍體74和光檢測基板72，復(fù)位光源78、切換濾光片76、閃爍體74和光檢測基板72按照此順序沿著施加放射線16的方向布置。下面將參照圖4(a)到圖5(b)描述根據(jù)第一示例到第四示例的電子盒20A到20D 的基本結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。圖4(a)到圖5(b)是殼體44中的放射線檢測部70附近的電子盒20A到 20D的片段截面圖。在根據(jù)第一示例到第四示例的電子盒20A到20D中的每一個中，放射線檢測部70 布置在作為頂板的照射表面46與作為底板80的遠(yuǎn)離照射面的底面之間。電子盒20A到 20D按照以下方式彼此不同。在根據(jù)第一示例的電子盒20A中，如圖4 (a)所示，閃爍體74被沉積在光檢測基板 72的底板80上。更具體地，通過沉積(例如，真空氣相沉積)CsI Tl (加鉈的碘化銫)，在光檢測基板72的底板80上將閃爍體74形成為具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的條。閃爍體74包括位于光檢測基板72附近的近端部分，該近端部分用作非柱狀晶體部分82。柱狀晶體結(jié)構(gòu)84包括在與光檢測基板72大致垂直的方向(S卩，在圖4(a)中的施加放射線16的豎直方向)上延伸的多個柱，相鄰的柱之間存在特定間隙。由于柱狀晶體結(jié)構(gòu)84，特別是非柱狀晶體部分82易受潮氣影響，因此使用由聚封二甲苯樹脂(Parylene 注冊商標(biāo))制成的可透光的防潮保護(hù)層86來密封具有CsI (CsI Tl)的閃爍體74。在圖4(a) 和隨后的某些附圖中，為了能夠更容易地理解本發(fā)明，夸大地示出了柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的柱之間的間隙。此外，閃爍體74發(fā)射的可見光130(參見圖11 (a)和圖11 (b))應(yīng)當(dāng)優(yōu)選地在360nm 至IJ 830nm之間的波長范圍中，更優(yōu)選地應(yīng)當(dāng)包括綠色的波長范圍以使得放射線檢測部70能夠拍攝單色放射線圖像。具體地，CsIiTl在被放射線16照射時具有從420nm到700nm波長范圍的發(fā)射光譜，并且具有可見光范圍內(nèi)的565nm的發(fā)射峰值波長。如圖4(b)所示，根據(jù)第二示例的電子盒20B與根據(jù)第一示例的電子盒20A的不同之處在于，閃爍體74和光檢測基板72通過對可見光130和復(fù)位光132而言透明的接合層 88a或者粘接層88b保持彼此緊密接觸(參見圖10(a)到圖12(b))。在此情況下，將閃爍體74氣相沉積在稍后描述的氣相沉積基板240上(參照圖 28(a))，之后，將閃爍體74密封在防潮保護(hù)層86中。接著，將閃爍體74從氣相沉積基板240分離開來，并且使柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的遠(yuǎn)端部分和光檢測基板72通過接合層88a或者粘接層88b緊密接觸，由此通過取消非柱狀晶體部分82而構(gòu)建了圖4(b)所示的閃爍體。此夕卜，當(dāng)形成閃爍體74時，在確定沉積條件以使得不形成非柱狀晶體部分82之后，可以根據(jù)這種沉積條件在氣相沉積基板240上氣相沉積閃爍體74。此外，在上述的第一示例中，為了增強(qiáng)光檢測基板72和閃爍體74之間的緊密接觸，積極地形成了非柱狀晶體部分82，然而對于第二示例而言，為了避免由于非柱狀晶體部分82產(chǎn)生散射光，形成了不具有非柱狀晶體部分82的閃爍體74。下面，將詳細(xì)描述根據(jù)第二示例的電子盒20B的制造方法。為了保持柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的遠(yuǎn)端部分與光檢測基板72彼此之間更加緊密接觸， 以由此防止在使用第二示例的電子盒20B時閃爍體74和光檢測基板72彼此分開，應(yīng)當(dāng)通過接合層88a將柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的遠(yuǎn)端部分與光檢測基板72彼此牢固地接合起來。此外， 如果考慮到可能發(fā)生故障而將閃爍體74和光檢測基板72中的至少一方配置為可更換的， 則可以利用粘接層88b將柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的遠(yuǎn)端部分和光檢測基板72彼此粘接起來，不要求與接合層88a相同的接合強(qiáng)度。如圖5(a)所示，根據(jù)第三示例的電子盒20C與根據(jù)第一示例的電子盒20A(參見圖4(a))的不同之處在于，放射線檢測部70被豎直地翻轉(zhuǎn)或者上下倒置。如圖5(b)所示， 根據(jù)第四示例的電子盒20D與根據(jù)第二示例的電子盒20B (參見圖4 (b))不同之處在于，放射線檢測部70被豎直地翻轉(zhuǎn)或者上下倒置。在根據(jù)第一示例到第四示例的電子盒20A到20D中的每一個中，可以通過任何已知的固定手段(諸如用接合劑接合、粘接劑粘接或者用固定裝置固定)將光檢測基板72、切換濾光片76和復(fù)位光源78固定在殼體44中的適當(dāng)位置。在圖4(a)到圖5(b)中，閃爍體74由CsI Tl制成。然而，閃爍體74可以由GOS (硫氧化釓)制成，例如，通過以GOS涂敷光檢測基板72或切換濾光片76。此外，除了由CsI:Tl或GOS制成的閃爍體74以外，例如，閃爍體74可以由 BaFCl Eu、BaFBr:Eu、YTa04、BaSO4:Eu或者HfP2O7制成，該閃爍體發(fā)射具有從紫(光)范圍到紫外光范圍的波長范圍內(nèi)的發(fā)射峰值波長的熒光(例如，紫外線)。在此情況下，光檢測基板72可以將從閃爍體74發(fā)射的具有這種發(fā)射峰值波長的熒光轉(zhuǎn)換為電信號。接著，將參照圖6 (a)到圖14描述光檢測基板72、切換濾光片76和復(fù)位光源78的具體結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。作為代表示例，下面將參照圖6(a)到圖14描述根據(jù)第一示例的電子盒20A的光檢測基板72、切換濾光片76和復(fù)位光源78的具體結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。在圖6(a)到圖14中，以簡化或者夸大方式例示了電子盒20A的特定部件以便于更容易地理解本發(fā)明?？梢詫D6(a) 到圖14所示的具體結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)進(jìn)行修改和/或?qū)⑵鋺?yīng)用于根據(jù)第二示例到第四示例的電子盒 20B 到 20D。圖6(a)到圖8示出了光檢測基板72的不同結(jié)構(gòu)。圖9到圖11 (b)示出了制造切換濾光片76的過程。圖12(a)到圖14示出了復(fù)位光源78的不同結(jié)構(gòu)。在圖6(a)所示出的結(jié)構(gòu)中，光檢測基板72包括基材90、作為開關(guān)元件布置在基材 90的面向底板80的表面上的TFT(薄膜晶體管)92的陣列以及布置在TFT陣列92上的諸如由非晶硅等制成的光電二極管的多個光檢測器件94。包含非晶硅的光檢測器件94具有寬吸收光譜，因此能夠有效地吸收來自閃爍體74的可見光130。由于在基材90的面向底板80的表面上布置的TFT陣列92上提供的光檢測器件 94使得光檢測基板72的表面不規(guī)則，因此需要通過使用聚四氟乙烯的平坦化膜96來覆蓋光檢測器件94以執(zhí)行平坦化處理。CsI:Tl的閃爍體74隔著平坦化膜96氣相沉積在光檢測基板72上，之后，向閃爍體74施加防潮保護(hù)層86。因此，在圖6(a)的結(jié)構(gòu)中，沿施加放射線16的方向(即，在圖6(a)中示出的向下方向上)依次地布置或者層疊了基材90、TFT 92和閃爍體74?；?0可以是薄基板，其具有針對氣相沉積閃爍體74時施加的熱的耐熱性?；?0通常是玻璃基板，但也可以由各種其它材料制成。更具體地，為了能夠低溫地將TFT 92和光檢測器件94沉積為薄膜，光檢測器件 94可以由有機(jī)光電導(dǎo)體(OPC)制成以將從閃爍體74發(fā)射的可見光范圍內(nèi)的熒光(可見光 130)轉(zhuǎn)換為電信號，或者可以由非晶氧化物半導(dǎo)體(例如，IGZOanfeSiOx))等制成以將從閃爍體74發(fā)射的具有在紫光范圍到紫外光范圍(例如，紫外線)的波長范圍內(nèi)的發(fā)射峰值波長的熒光轉(zhuǎn)換為電信號。TFT 92可以由有機(jī)半導(dǎo)體(例如，酞菁化合物、并五苯或者酞菁氧釩)、非晶氧化物半導(dǎo)體(例如，a-IGZ0(InGaZn04))或者碳納米管制成。憑借這些材料，可以使用柔性且至少可透射復(fù)位光132的塑料膜(諸如聚酰亞胺膜、聚芳酯膜、雙軸向聚苯乙烯膜、芳綸膜、或者生物納米纖維)作為基材90。下面，將更詳細(xì)地描述可以用作基材90的塑料膜?？梢杂米骰?0的塑料膜應(yīng)當(dāng)優(yōu)選地是聚酯的柔性基板，諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚鄰苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等，聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚苯醚砜、聚芳酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片烯、聚 (三氟氯乙烯)等。塑料的柔性基板使得電子盒2(K20A)重量輕且容易攜帶。基材90可以包括用于使基材90電絕緣的絕緣層、用于使基材90不透水或不透氧氣的氣障層以及用于使基材90平坦或與電極更好地緊密接觸的下涂層。用作基材90的芳綸膜的優(yōu)點(diǎn)在于，由于可以被施加200攝氏度的高溫處理，芳綸膜允許高溫固化的透明電極材料以呈現(xiàn)更低的電阻，并且還允許通過包括回流焊工序在內(nèi)的工序自動地安裝驅(qū)動器IC。此外，由于芳綸膜具有與ITO(氧化銦錫)和玻璃接近的熱膨脹系數(shù)，所以由芳綸膜制成的基材在制造之后不太可能翹曲或破裂。另外，由芳綸膜制成的基材可以制造得比玻璃基板等薄。基材90還可以具有包括超薄玻璃基板和芳族聚酰胺膜的層疊組件的形式。生物納米纖維是通過合成由細(xì)菌(醋酸菌、木醋桿菌)生產(chǎn)的纖維素微纖維(細(xì)菌纖維素)束和透明樹脂而制造的。纖維素微纖維束具有50nm的寬度，該寬度是可見光 130的波長的1/10，非常堅固并且非常有彈性，并且承受低的熱膨脹。生物納米纖維包含 60%到70%的纖維并且在500nm的波長呈現(xiàn)約90%的透光率，可以通過使用諸如丙烯酸樹月旨、環(huán)氧樹脂等的透明樹脂灌注細(xì)菌纖維素并使透明樹脂固化來生產(chǎn)。生物納米纖維是柔性的，并且具有可與硅晶體相比的從3ppm到7ppm的低的熱膨脹系數(shù)、與鋼的強(qiáng)度相匹配的 460MPa的高強(qiáng)度以及30GPa的彈性。因此，如果基材90由生物納米纖維制成，則基材90可以比玻璃基板等薄。包括有機(jī)光電導(dǎo)體的光檢測器件94在可見光130的范圍中呈現(xiàn)了銳吸收光譜但是不吸收可見光130以外的電磁波，因此有效地使在放射線16被光檢測器件94吸收的情況下將會產(chǎn)生的任何噪聲減到最小。為了使有機(jī)光電導(dǎo)體最有效地吸收可見光130，有機(jī)光電導(dǎo)體的吸收峰值波長優(yōu)選地應(yīng)盡可能地接近閃爍體74的發(fā)光峰值波長。盡管有機(jī)光電導(dǎo)體的吸收峰值波長和閃爍體74的發(fā)光峰值波長應(yīng)理想地彼此一致，但如果吸收峰值波長和發(fā)光峰值波長之間的差足夠小，也能夠充分地吸收可見光130。更具體地，有機(jī)光電導(dǎo)體的吸收峰值波長和發(fā)光峰值波長之間的差應(yīng)當(dāng)優(yōu)選地是IOnm或更小，更優(yōu)選地是5nm或更小。滿足上述要求的有機(jī)光電導(dǎo)體包括喹吖啶酮(quinacridone)基有機(jī)化合物和酞菁基有機(jī)化合物。由于喹吖啶酮在可見光范圍中具有560nm的吸收峰值波長，所以如果將喹吖啶酮用作有機(jī)光電導(dǎo)體并且將CsI:Tl用作閃爍體74的材料，則可以將上述的峰值波長之間的差減小到5nm或更小，由此使得能夠大致最大化由光檢測器件94產(chǎn)生的電荷的
Mo此外，如果TFT 92由有機(jī)半導(dǎo)體、非晶氧化物半導(dǎo)體或者碳納米管制成，則TFT92 能夠有效地防止產(chǎn)生噪聲，這是因?yàn)門FT 92不吸收放射線16或者僅吸收小劑量的放射線 16。具體地，如果TFT 92由碳納米管制成，則TFT 92能夠具有高切換速度并且呈現(xiàn)對可見光130和復(fù)位光132的低吸收率。如果TFT 92由碳納米管制成，則由于TFT 92的性能可能由于其中混合的跡線金屬雜質(zhì)而明顯退化，必須利用離心分離器等分離并提取高純度的碳納米管。根據(jù)圖6(a)所示的電子盒，透過被攝體14的放射線16通過殼體44的照射面 46 (頂板)和光檢測基板72透射到閃爍體74。這種放射線16接著被閃爍體74的柱狀晶體結(jié)構(gòu)84轉(zhuǎn)換為可見光范圍內(nèi)的熒光(可見光130)，該熒光通過柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的柱行進(jìn)，接著經(jīng)由非柱狀晶體部分82和平坦化膜96透射到光檢測器件94(參見圖11(a)和圖 11(b))?？梢姽?30的朝向切換濾光片76行進(jìn)的部分被稍后描述的切換濾光片76的調(diào)光鏡膜層122向光檢測基板72反射。因此，該部分可見光130(即，反射光)經(jīng)由閃爍體74 和平坦化膜96到達(dá)光檢測器件94。因此，光檢測器件94將可見光130轉(zhuǎn)換為模擬電信號并且將電信號存儲為電荷。 TFT 92讀取光檢測器件94中存儲的電荷作為圖像信號。圖6(b)所示出的結(jié)構(gòu)與圖6(a)中示出的結(jié)構(gòu)的不同之處在于，TFT 92和光檢測器件94交替布置。彼此相鄰布置的TFT 92和光檢測器件94構(gòu)成了與一個像素相對應(yīng)的區(qū)域。根據(jù)圖6(b)的結(jié)構(gòu)，由于光檢測基板72的TFT 92和光檢測器件94具有表面不規(guī)則性，因此優(yōu)選地用平坦化膜96來覆蓋TFT 92和光檢測器件94，以便于保持被氣相沉積在光檢測基板72上的閃爍體74與光檢測基板72緊密接觸。圖7(a)所示出的結(jié)構(gòu)與圖6(a)和圖6(b)所示出的結(jié)構(gòu)的不同之處在于，由非晶硅制成的TFT 92的陣列、由諸如鋁等金屬制成的反射層98以及多個光檢測器件94按照這個順序?qū)盈B在基材90的面向閃爍體74的表面上，并且平坦化膜96形成在光檢測基板72 的包括有光檢測器件94的一側(cè)。在此情況下，各光檢測器件94是通過將光檢測部9 分別夾在設(shè)置在其上、下兩側(cè)的兩個電極94b、Mc之間而構(gòu)成的。另外，根據(jù)圖7(a)的結(jié)構(gòu)，通過在TFT 92的陣列上設(shè)置反射層98，在來自閃爍體74的可見光130或來自復(fù)位光源78的復(fù)位光132入射在光檢測基板72的情況下，所有這些光都被反射層98反射向光檢測器件94側(cè)。因此，可以避免由于可見光130或者復(fù)位光 132入射在光檢測器件94上而由TFT 92產(chǎn)生切換噪聲。此外，由于反射層98反射可見光 130和復(fù)位光132，這種反射光入射在光檢測器件94的光檢測部9 上，因此入射在光檢測部9 上的可見光130或復(fù)位光132的強(qiáng)度增大。結(jié)果，可以提高光檢測部9 對可見光 130的靈敏度，并且可以利用復(fù)位光132更有效地執(zhí)行光檢測器件94的復(fù)位。在圖7(a)中，示出了將反射層94層疊在TFT 92的陣列上的情況，然而，將該結(jié)構(gòu)取而代之，可以將反射層98形成在各個光檢測器件94和TFT 92的陣列之間以使得光檢測器件94與其交疊。在此情況下，由于反射層98形成有與光檢測器件94大致相同的面積， 因此一個光檢測器件94對應(yīng)于構(gòu)成一個像素的像素單元，可以避免由于反射層98反射可見光130或復(fù)位光132而造成的各個像素之間的串?dāng)_。圖7(b)的結(jié)構(gòu)與圖6(a)到圖7(a)的結(jié)構(gòu)的不同之處在于，在基材90的面向閃爍體74的表面上交替地形成了由非晶硅制成的TFT 92和采用由非晶硅制成的光電二極管的光檢測器件94，遮光層100形成在各個TFT 92的底板80側(cè)上，并且平坦化層96形成在光檢測基板72的遮光層100和光檢測器件94側(cè)上。在此情況下，通過在TFT 92上形成遮光層100，即使來自閃爍體74的可見光130 和來自復(fù)位光源78的復(fù)位光78施加到光檢測基板72，朝向光檢測器件94行進(jìn)的光也施加到光檢測器件94，并且朝向TFT 92行進(jìn)的光被遮光層100完全吸收。因此，根據(jù)圖7(b) 的結(jié)構(gòu)，可見光130或者復(fù)位光132可有效地施加到光檢測器件94，并且能夠可靠地防止切換噪聲，在TFT 92暴露于可見光130或者復(fù)位光132的情況下，則將會產(chǎn)生切換噪聲。圖8所示的結(jié)構(gòu)與圖6(a)到圖7(b)所示的結(jié)構(gòu)的不同之處在于，在平坦化膜96 和閃爍體74之間插入傾斜光阻擋層102，用于阻擋相對于施加放射線16的方向傾斜行進(jìn)的可見光130或者復(fù)位光132。傾斜光阻擋層102包括由可透射可見光130或復(fù)位光132 的材料(例如，硅樹脂、烯烴樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、纖維素樹脂、聚酯樹脂、或者聚碳酸酯樹酯)制成的光透射部104以及由對可見光130或復(fù)位光132具有高吸收率的材料 (例如，黑金屬氧化物、顏料或染料)制成的光阻擋部106。光透射部104和光阻擋部106 沿著平坦化膜96的表面(即，水平方向)交替布置。在此情況下，在相對于施加放射線16的方向的預(yù)定角度內(nèi)施加的可見光130或復(fù)位光132透過光透射部104并且施加到光檢測基板72。另一方面，按照超出預(yù)定角度的角度施加的可見光130或復(fù)位光132被光阻擋部106完全吸收并且被阻止施加到光檢測基板 72。結(jié)果，使光檢測器件94對可見光130更靈敏，可以更有效地利用復(fù)位光132進(jìn)行光檢測器件94的復(fù)位，并且可以防止所產(chǎn)生的放射線圖像由于傾斜施加的光而變得模糊。圖6(a)到圖8所示的結(jié)構(gòu)僅是示例，并且這些結(jié)構(gòu)可以適當(dāng)組合以構(gòu)成光檢測基板72。例如，在圖6(b)到圖7(b)中示出的每個結(jié)構(gòu)中，傾斜光阻擋層102可以插入平坦化膜96的表面和閃爍體74之間。如圖9所示，通過沿著從復(fù)位光72向光檢測基板72的方向按照如下順序?qū)盈B透明基材110、透明導(dǎo)電膜112、離子儲存層114、固態(tài)電解質(zhì)層116、緩沖層118、催化劑層120 和調(diào)光鏡膜層122來構(gòu)建切換濾光片76。在此情況下，電源IM和開關(guān)126電連接到透明導(dǎo)電膜112和調(diào)光鏡膜層122。
透明基材110用作切換濾光片76的蒸發(fā)基板，位于復(fù)位光源78附近。透明基材 110可以是玻璃基板或者塑料基板，其可以透過從復(fù)位光源78發(fā)射的復(fù)位光132(參見圖 10(a)和圖10(b))。透明導(dǎo)電膜112是由ITO制成的透明電極，其可以透過復(fù)位光132。離子儲存層114是由WO3(氧化鎢)制成的薄膜，能夠儲存氫離子(H+)。固態(tài)電解質(zhì)層116是由Ta2O5(氧化鉭)制成的薄膜。緩沖層118是由Al(鋁)制成的金屬膜。催化劑層120是由Pd(鈀)制成的金屬膜。調(diào)光鏡膜層122包括從Mg · Ni (錳 鎳)合金制造的薄膜。在此情況下，如果開關(guān)126導(dǎo)通，則電源124在透明導(dǎo)電膜112和調(diào)光鏡膜層122 之間施加電壓，調(diào)光鏡膜層122藉此改變?yōu)榉瓷溏R狀態(tài)(非透射狀態(tài))或透明狀態(tài)(透射狀態(tài))。反射鏡狀態(tài)(非透射狀態(tài))是調(diào)光鏡膜層122向著復(fù)位光源78反射復(fù)位光132并且還向著光檢測基板72反射從閃爍體74發(fā)射的可見光130(參見圖11 (a)和圖11 (b))的狀態(tài)。透明狀態(tài)(透射狀態(tài))是調(diào)光鏡膜層122使復(fù)位光132透過閃爍體74到達(dá)光檢測基板72的光檢測器件94。下面，將更詳細(xì)描述調(diào)光鏡膜層122在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換。調(diào)光鏡膜層122具有通常處于反射鏡狀態(tài)并由于Mg · Ni合金薄膜的金屬光澤而能夠反射可見光130和復(fù)位光132的表面。如果調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)，則開關(guān)1 導(dǎo)通以從電源124向切換濾光片76施加電壓(即，幾伏特的直流電壓)，調(diào)光鏡膜層122因此被設(shè)置在負(fù)極性并且透明導(dǎo)電膜112被設(shè)置在正極性，如圖10(a)所示。此時，調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。更具體地，離子儲存層114中儲存的氫離子(H+)穿過固態(tài)電解質(zhì)層116、緩沖層 118和催化劑層120移動到調(diào)光鏡膜層122，Mg · Ni合金藉此從金屬狀態(tài)氫化為非金屬狀態(tài)并且變?yōu)橥该鳌．?dāng)調(diào)光鏡膜層122變?yōu)橥该鲿r，即使如圖10(b)所示那樣斷開開關(guān)126并且停止從電源124向切換濾光片76施加電壓(即，停止驅(qū)動切換濾光片76)，調(diào)光鏡膜層122仍保持透明。在調(diào)光鏡膜層122處于透明狀態(tài)并且未向被攝體14施加放射線16 ( S卩，不拍攝被攝體14的放射線圖像)時，如果復(fù)位光源78向切換濾光片76發(fā)射復(fù)位光132，則復(fù)位光 132透過透明導(dǎo)導(dǎo)電膜112和調(diào)光鏡膜層122并且入射在閃爍體74上，并且還從閃爍體74 透過平坦化膜96入射到光檢測器件94上。如果復(fù)位光132施加到光檢測器件94 (每一個都是非晶硅光電二極管等的形式)，則光檢測器件94復(fù)位以將電荷嵌入光電二極管的雜質(zhì)能級，使得在向光檢測器件94施加放射線16期間(即，在拍攝被攝體14的放射線圖像時) 由光檢測器件94從可見光130轉(zhuǎn)換來的電荷將不被雜質(zhì)能級束縛。另一方面，如果調(diào)光鏡膜層122處于透明狀態(tài)，則開關(guān)126導(dǎo)通以向切換濾光片76 施加電壓(即，極性與圖10(a)所示的電壓極性相反的幾伏特的直流電壓)，使得調(diào)光鏡膜層122被設(shè)置在正極性并且透明導(dǎo)電膜112被設(shè)置在負(fù)極性，如圖11(a)所示。此時，調(diào)光鏡膜層122從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。更具體地，在所施加的極性相反的電壓的影響下，移動到調(diào)光鏡膜層122的氫離子通過催化劑層120、緩沖層118和固態(tài)電解質(zhì)層116流回到離子儲存層114，調(diào)光鏡膜層122藉此改變回其原始金屬狀態(tài)。在調(diào)光鏡膜層122返回至反射鏡狀態(tài)的情況下，即使如圖11 (b)所示那樣斷開開關(guān)1 并且停止從電源IM向切換濾光片76施加電壓，調(diào)光鏡膜層122仍保持反射鏡狀態(tài)。
當(dāng)調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)并且向被攝體14施加放射線16( S卩，如果拍攝被攝體14的放射線圖像)時，在由閃爍體74從放射線16轉(zhuǎn)換來的可見光130中，向著調(diào)光鏡膜層122行進(jìn)的光被調(diào)光鏡膜層122反射向光檢測基板72。光檢測器件94接著檢測被閃爍體74轉(zhuǎn)換并透過平坦化膜96直接施加的熒光(即，可見光130)作為電信號，并且還檢測被調(diào)光鏡膜層122反射并且透過閃爍體74和平坦化膜96反射的反射光(即，可見光130)。結(jié)果，容易提高光檢測器件94對可見光130的靈敏度。當(dāng)拍攝被攝體14的放射線圖像時(即，當(dāng)放射線16施加到被攝體14時)，復(fù)位光源78可以被放射線16照射并且發(fā)射復(fù)位光132，或者可以被錯誤地驅(qū)動并由此發(fā)射復(fù)位光 132。在圖像攝影期間，盡管由于大部分放射線16在閃爍體74中被轉(zhuǎn)換為可見光130， 透過閃爍體74并且到達(dá)切換濾光片76的放射線16極少。此外，在圖像攝影期間，由于調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)(金屬狀態(tài))，到達(dá)切換濾光片16的放射線16被處于金屬狀態(tài)的調(diào)光鏡膜層122吸收，因此阻止放射線16到達(dá)復(fù)位光源78。即使放射線16到達(dá)復(fù)位光源78，并由此造成復(fù)位光源78發(fā)射復(fù)位光132，復(fù)位光132也可以被處于反射鏡狀態(tài)的調(diào)光鏡膜層122向著復(fù)位光源78反射。因此，防止復(fù)位光132向著閃爍體74和光檢測基板72行進(jìn)。在ISS型的電子盒20A和20B的情況下，由于光檢測基板72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源78沿著施加放射線16的方向在殼體44中按照此順序依次布置，在未減少到達(dá)閃爍體74的放射線16的量的情況下實(shí)現(xiàn)了上述操作和優(yōu)點(diǎn)。如上所述，在ISS型電子盒20A和20B的情況下，由于大部分放射線16被閃爍體 74轉(zhuǎn)換為可見光130，僅小部分放射線16透過閃爍體74并到達(dá)切換濾光片76。因此，能夠在施加放射線16的同時將切換濾光片76保持在透明狀態(tài)。同樣在此情況下，不會出現(xiàn)上述問題，或者即使出現(xiàn)上述問題，也可以預(yù)料到將不會對放射線圖像造成明顯的負(fù)面影響。圖12(a)到圖14示出了不同的復(fù)位光源78。每個復(fù)位光源78都包括朝向光檢測基板72布置的發(fā)光元件142的陣列、背光(參見圖12(b)到圖13(b))或者電致發(fā)光光源 (參見圖14)，切換濾光片76和閃爍體74夾在復(fù)位光源78和光檢測基板72之間。圖12(a)中示出的復(fù)位光源78包括發(fā)光二極管(LED)等形式的發(fā)光元件142的陣列，這些發(fā)光元件142布置在基板140上，基板140布置在殼體44的底板80上。在調(diào)光鏡膜層122處于透明狀態(tài)時，如果發(fā)光元件142同時發(fā)射復(fù)位光132，則復(fù)位光源78起到面發(fā)光源的作用。復(fù)位光132透過切換濾光片76、閃爍體74和平坦化膜96均勻施加到光檢測器件94以使光檢測器件94復(fù)位。圖12(a)中示出的復(fù)位光源78還能夠精確定位各個光檢測器件94，以通過僅驅(qū)動朝向被精確定位的光檢測器件94的發(fā)光元件142而使特定器件復(fù)位。圖12(b)所示的復(fù)位光源78是邊緣照亮型背光，其包括布置在殼體44的底板80 和切換濾光片76之間的導(dǎo)光板150以及布置在導(dǎo)光板150側(cè)的冷陰極射線管(光源)152。 設(shè)置有冷陰極射線管152的區(qū)域不被放射線16照射。漫射片IM插入在導(dǎo)光板150和切換濾光片76之間，并且反射片156以包圍導(dǎo)光板150和冷陰極射線管152的方式設(shè)置。如果從冷陰極射線管152向?qū)Ч獍?50施加光，則所施加的光在導(dǎo)光板150內(nèi)被反射片156 和漫射片154的表面反復(fù)反射，接著該光作為復(fù)位光132通過漫射片154向著切換濾光片76發(fā)射。在圖12(b)中，僅例示了一束復(fù)位光132。然而實(shí)際上，從冷陰極射線管152向?qū)Ч獍?50施加的光被表面反復(fù)反射，并且在導(dǎo)光板150內(nèi)完全擴(kuò)散，因此這種光作為面發(fā)射復(fù)位光132從漫射片154向切換濾光片76發(fā)射。因此，背光形式的復(fù)位光源78也起到透過切換濾光片76、閃爍體74和平坦化膜96向光檢測器件94均勻施加復(fù)位光132以由此使光檢測器件94復(fù)位的面發(fā)射光源的作用。圖13(a)和圖13(b)中示出了同樣是邊緣照亮型背光的復(fù)位光源78，它們與圖 12 (b)中示出的復(fù)位光源78的不同之處在于，該復(fù)位光源78包括支承諸如LED等的發(fā)光元件(光源)162的線性陣列的基板160以代替冷陰極射線管152。設(shè)置有發(fā)光元件162和基板160的區(qū)域不被放射線16照射。如果從發(fā)光元件162向?qū)Ч獍?50施加光，則所施加的光被反射片156和漫射片IM的表面反復(fù)反射，并且在導(dǎo)光板150內(nèi)完全擴(kuò)散，因此這種光作為面發(fā)射復(fù)位光132從漫射片154向切換濾光片76發(fā)射。因此，復(fù)位光源78能夠透過切換濾光片76、閃爍體74和平坦化膜96向各個光檢測器件94均勻地施加復(fù)位光132以由此使光檢測器件94復(fù)位。在圖13(b)中，僅例示了一束復(fù)位光132。圖14中示出的復(fù)位光源78是有機(jī)電致發(fā)光(EL)光源或者無機(jī)電致發(fā)光(EL)光源。該復(fù)位光源78包括由有機(jī)EL材料或無機(jī)EL材料制成的發(fā)光層170、由ITO制成的可透過復(fù)位光132的透明電極172和不能透過復(fù)位光132的金屬電極174。透明電極172和金屬電極174電連接到開關(guān)176和電源178。如果調(diào)光鏡膜層122處于透明狀態(tài)，則開關(guān) 176導(dǎo)通以從電源178在透明電極172和金屬電極174之間施加電壓，使得透明電極被設(shè)置在正極性并且金屬電極174被設(shè)置在負(fù)極性。此時，發(fā)光層170通過透明電極172向切換濾光片76發(fā)射面發(fā)射復(fù)位光132。因此，無論復(fù)位光源132由有機(jī)EL光源或者無機(jī)EL光源制成，復(fù)位光源132都能夠透過切換濾光片76、閃爍體74和平坦化膜96向光檢測器件94均勻地施加復(fù)位光132以由此使光檢測器件94復(fù)位。例如，優(yōu)選地使用具有0. 8eV到2. OeV(對應(yīng)于從620nm到1550nm的波長)的暗紅光或者紅外射線作為上述從復(fù)位光源78發(fā)射的復(fù)位光132，以使光檢測器件94復(fù)位。圖15是圖1所示的電子盒2(K20A到20D)的電氣結(jié)構(gòu)的部分框圖形式的示意圖。如圖15所示，電子盒20 (20A到20D)的光檢測基板72具有包括位于基材90上的光檢測器件94和TFT 92的陣列或矩陣的結(jié)構(gòu)(參見圖6(a)到圖8)。光檢測器件94還將被稱為像素190。按照具有行和列的矩陣布置的像素190在驅(qū)動電路180的偏壓電源192向其施加偏壓時被驅(qū)動。像素190對在閃爍體74從放射線16轉(zhuǎn)換的可見光130被光電轉(zhuǎn)換的情況下產(chǎn)生的電荷進(jìn)行存儲。如果逐列地依次導(dǎo)通TFT 92，則通過信號線196讀出存儲在像素 190中的電荷作為模擬信號的像素值(電荷信號、電信號)。在圖15中，像素190和TFT 92 布置成具有四個豎直列和四個水平行的矩陣。然而，可以將像素190和TFT 92布置成具有任意需要的數(shù)量的豎直列和任意需要的數(shù)量的水平行的矩陣。電連接到各個像素190的TFT 92與沿著各個行延伸的選通線194和沿著各個列延伸的信號線196相連接。選通線194連接到驅(qū)動電路180的選通驅(qū)動部198，信號線196 通過各個電荷放大部200連接到驅(qū)動電路180的復(fù)用部202。復(fù)用部202連接到A/D轉(zhuǎn)換部204，A/D轉(zhuǎn)換部204將模擬電信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號。A/D轉(zhuǎn)換部204向盒控制部182 輸出數(shù)字電信號，即，數(shù)字信號像素值(在下文中也稱為數(shù)字值)。驅(qū)動電路180被包括在面板40中或者被包括在控制部42中(參見圖2~)。盒控制部182被包括在控制部42中。盒控制部182整體上控制電子盒20 (20A到20D)。如果如計算機(jī)等的信息處理裝置讀取并且執(zhí)行在功能上對應(yīng)于盒控制部182的程序，則信息處理裝置可以用作盒控制部 182。存儲器184和通信部186連接到盒控制部182。存儲器184存儲數(shù)字信號像素值， 并且通信單元186將信號發(fā)送到控制臺22并從控制臺22接收信號。通信部186向控制臺 22發(fā)送由像素值矩陣構(gòu)成的單個圖像的包(即，一幀圖像)。電源188向盒控制部182、存儲器184和通信部186等供電，還向偏壓電源192供電。存儲器184、通信部186和電源188 被包括在控制部42中。盒控制部182包括圖像攝影順序確定部210、溫度檢測部212、光復(fù)位操作確定部 214、濾光片控制部216和光源控制部218。如果圖像攝影順序確定部210接收表示關(guān)于向被攝體14施加放射線16 (即，拍攝被攝體14的放射線圖像)的圖像攝影順序的順序信息，則圖像攝影順序確定部210識別 (即，確定)該順序信息中包括的圖像攝影方法。順序信息由醫(yī)生在RIS沈或者HIS觀中生成，并且包括諸如被攝體14的名稱、年齡、性別等用于識別被攝體14的被攝體信息、涉及用于拍攝被攝體14的放射線圖像的放射線輸出裝置18和電子盒20、被攝體14的要成像的區(qū)域、用于拍攝被攝體14的放射線圖像的技術(shù)以及指示拍攝靜止圖像或拍攝運(yùn)動圖像的圖像攝影方法的信息。此外，如果從復(fù)位光源78發(fā)射的復(fù)位光132施加到光檢測器件94 (即，像素190) 以由此使光檢測器件94復(fù)位，則光檢測器件94根據(jù)復(fù)位光132檢測電信號(即，暗電流信號)，并且將檢測到的暗電流信號存儲為電荷。暗電流信號的電平根據(jù)用作光檢測器件94 的光電二極管的溫度而變化。如果TFT 92依次導(dǎo)通，溫度檢測部212基于從光檢測器件94 經(jīng)由信號線196讀取的暗電流信號(即，像素值)來檢測光檢測器件94的溫度。光復(fù)位操作確定部214基于由圖像攝影順序確定部210識別的圖像攝影方法和由溫度檢測部212檢測的光檢測器件94的溫度，確定是否對光檢測器件94執(zhí)行光復(fù)位處理， 艮口，是否利用復(fù)位光132來復(fù)位光檢測器件94。濾光片控制部216執(zhí)行電源124和開關(guān)126的功能(參見圖9到圖11 (b))，向切換濾光片76施加電壓并且控制調(diào)光鏡膜層122在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換。光源控制部218執(zhí)行開關(guān)176和電源178的功能(參見圖14)，以控制從復(fù)位光源78發(fā)射復(fù)位光132。由圖像攝影順序確定部210識別的圖像攝影方法、由溫度檢測部212檢測的溫度、 由光復(fù)位操作確定部214確定的光源復(fù)位處理、由濾光片控制部216控制的切換濾光片76 的切換以及由光源控制部218控制的復(fù)位光132從復(fù)位光源78的發(fā)射分別在顯示控制面板56上顯示，或者可以作為聲音從揚(yáng)聲器58輸出，并且可以從通信部186經(jīng)由無線通信鏈路發(fā)送或者指示到控制臺22。本實(shí)施方式的操作包含根據(jù)本實(shí)施方式的電子盒2(K20A到20D)的放射線圖像攝影系統(tǒng)10基本上按照以上描述構(gòu)建。下面將參照圖16到圖沈來描述放射線圖像攝影系統(tǒng)10的操作，如果需要的話還將參照圖1到圖15。更具體地，下面將參照圖16到圖沈描述包括根據(jù)第一示例的電子盒20A的放射線圖像攝影系統(tǒng)10的操作。然而，對放射線圖像攝影系統(tǒng)10的操作的描述也適用于根據(jù)第二示例到第四示例的電子盒20B到20D，只要根據(jù)電子盒20B到20D的構(gòu)造修改這些操作即可。下面，將描述根據(jù)不同圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理[1]到[7]。[1]下面將描述根據(jù)圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理，該圖像攝影順序包括拍攝被攝體14的至少一個靜止圖像(即，拍攝被攝體14的至少一個放射線圖像的放射線圖像攝影模式)或者以比幀速率閾值Fth低的幀速率拍攝運(yùn)動圖像(即，低速運(yùn)動圖像攝影模式或第一運(yùn)動圖像攝影模式)(參見圖16和圖17)。該放射線圖像攝影處理是不對光檢測器件94進(jìn)行光復(fù)位處理的圖像攝影處理。如果在被雜質(zhì)能級束縛的電荷被再次釋放的情況下產(chǎn)生的暗電流信號造成的噪聲足夠低，則不對光檢測器件94進(jìn)行光復(fù)位處理，以不阻止醫(yī)生解析所拍攝的放射線圖像。幀速率閾值Fth是用于確定是否應(yīng)執(zhí)行光復(fù)位處理的閾值(參見圖20)。如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比幀速率閾值Fth高，則判斷應(yīng)進(jìn)行光復(fù)位處理。此外，如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比幀速率閾值Fth低，則判斷應(yīng)不進(jìn)行光復(fù)位處理。此外，低速運(yùn)動圖像攝影模式是指幀速率比幀速率閾值Fth低的運(yùn)動圖像攝影模式(通常，F(xiàn)th = FthO)。此后，將把幀速率比幀速率閾值Fth高的運(yùn)動圖像攝影模式稱為高速運(yùn)動圖像攝影模式或第二運(yùn)動圖像攝影模式。首先，在圖16所示的步驟Sl中，控制臺22 (參見圖1)獲取表示由醫(yī)生在RIS26 或HIS觀中產(chǎn)生的圖像攝影順序的順序信息。在步驟S2中，醫(yī)生基于控制臺22獲取的順序信息建立針對被攝體14的圖像攝影條件。圖像攝影條件是指向被攝體14的成像區(qū)域施加放射線16所要求的各種條件，例如，放射源30的管電壓和管電流、放射線曝光時間等。在步驟S3中，醫(yī)生抓住已放置在給定的存儲位置的電子盒20A的把手52 (參見圖 2和圖3 (a))，攜帶電子盒20A，并且將電子盒20A放置在攝影臺12上。在步驟S4，醫(yī)生使被攝體14躺在攝影臺12和電子盒20A上，使得被攝體14的攝影部位位于攝影區(qū)域50中， 由此相對于圖像攝影區(qū)域50來定位被攝體14的攝影部位。此時，電源188(參見圖15)已向盒控制部182、通信部186和顯示控制面板56供電。在將被攝體14定位之后，醫(yī)生操作顯示控制面板56以指示激活電子盒20A。接著，盒控制部182開始從電源188向驅(qū)動電路180和揚(yáng)聲器58供電。偏壓電源192開始向準(zhǔn)備好存儲電荷的像素190(即，光檢測器件94)施加偏壓。揚(yáng)聲器58也準(zhǔn)備好從盒控制部182 輸出表示音頻信號的聲音。結(jié)果，電子盒20A從睡眠模式切換到激活模式。盒控制部182從通信部186經(jīng)由無線通信鏈路向控制臺22發(fā)送用于請求發(fā)送圖像攝影順序和圖像攝影條件的發(fā)送請求信號。響應(yīng)于該發(fā)送請求信號，控制臺22經(jīng)由無線通信鏈路向電子盒20A發(fā)送圖像攝影順序和圖像攝影條件，并且還經(jīng)由無線通信鏈路向放射線輸出裝置18發(fā)送圖像攝影條件。在放射線輸出裝置18中，將所接收的圖像攝影條件記錄在放射源控制裝置32中。在電子盒20A中，將已接收的圖像攝影順序和圖像攝影條件記錄在盒控制部182中。盒控制部182還可以在顯示控制面板56上顯示已接收的圖像攝影順序和圖像攝影條件。在步驟S5，盒控制部182的圖像攝影順序確定部210確定該順序信息中包括的圖像攝影方法。此時，所確定的圖像攝影方法表示拍攝被攝體14的至少一個靜止圖像，或者以比幀速率閾值Fth(FthO)低的幀速率拍攝運(yùn)動圖像(參見圖20)，S卩，低速運(yùn)動圖像攝影模式。圖像攝影順序確定部210向光復(fù)位操作確定部214指示所確定的圖像攝影方法，并且在顯示控制面板56上顯示所確定的圖像攝影方法?；趫D像攝影順序確定部210指示的圖像攝影方法，光復(fù)位操作確定部214確定是否對像素190(即，光檢測器件94)進(jìn)行光復(fù)位處理。由于圖像攝影方法表示拍攝至少一個靜止圖像或者表示低速運(yùn)動圖像攝影模式，因此在步驟S6，光復(fù)位操作確定部214確定不需要使像素190復(fù)位。光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218指示該決定，并且在顯示控制面板56上顯示該決定。光復(fù)位操作確定部214也可以從揚(yáng)聲器 58輸出指示該決定的聲音?；诠鈴?fù)位操作確定部214指示的決定，濾光片控制部216禁止向?yàn)V光片控制部 76施加電壓，并且光源控制部218禁止驅(qū)動復(fù)位光源78。因此，在步驟S7，切換濾光片76 的調(diào)光鏡膜層122保持反射鏡狀態(tài)，并且復(fù)位光源78不發(fā)射復(fù)位光132。由于在顯示控制面板56上顯示了在步驟S5和S6中做出的決定，通過觀看顯示控制面板56上顯示的決定，醫(yī)生可以得知不進(jìn)行光復(fù)位處理。如果從揚(yáng)聲器58輸出代表在步驟S5和S6所做出的決定的聲音，則通過收聽從揚(yáng)聲器58輸出的聲音，醫(yī)生可以得知不進(jìn)行光復(fù)位處理。此外，決定可以從通信部186經(jīng)由無線通信鏈路發(fā)送到控制臺22。在此情況下，控制臺22可以經(jīng)由無線通信鏈路將所接收的決定發(fā)送到顯示裝置M，使得顯示裝置M可以顯示判斷結(jié)果。因此，醫(yī)生可以確實(shí)得知別像素190未被復(fù)位。在圖17所示的步驟S8中，當(dāng)在放射線圖像攝影系統(tǒng)10上執(zhí)行了步驟Sl到S7中的準(zhǔn)備處理之后，醫(yī)生按下放射線開關(guān)34 (參見圖1)。放射源控制裝置32自身準(zhǔn)備好施加放射線16并且經(jīng)由無線通信鏈路向控制臺22發(fā)送表示已做好施加放射線16的準(zhǔn)備的通知信號。控制臺22經(jīng)由無線通信鏈路向電子盒20A發(fā)送同步控制信號以與從放射線源30 施加放射線16實(shí)現(xiàn)同步。當(dāng)電子盒20A的盒控制部182接收到該同步控制信號時，盒控制部182在顯示控制面板56上顯示指示已做好施加放射線16的準(zhǔn)備的信息(參見圖2和圖 15)。盒控制部182也可以從揚(yáng)聲器58輸出指示這種信息的聲音。之后，在步驟S9，通過醫(yī)生隨后按下放射線開關(guān)34，放射源控制裝置32根據(jù)圖像攝影條件從放射源30向被攝體14的攝影部位施加預(yù)定時段的放射線16。放射源控制裝置32可以在開始施加放射線16的同時經(jīng)由無線通信鏈路向控制臺22發(fā)送指示開始施加放射線16的通知信號?？刂婆_22可以將所接收的通知信號傳遞到電子盒20A。響應(yīng)于接收到的通知信號，電子盒20A的盒控制部182可以在顯示控制面板56上顯示指示施加放射線16的信息，并且也可以從揚(yáng)聲器58輸出指示該信息的聲音。在步驟S10，在放射線16透過被攝體14的攝影部位并施加到電子盒20A的放射線檢測部70時，因?yàn)榉派渚€檢測部70是如圖3(a)和圖4(a)所示的ISS型，放射線16透過光檢測基板72，到達(dá)閃爍體74的柱狀晶體結(jié)構(gòu)84。
該柱狀晶體結(jié)構(gòu)84發(fā)射可見光130(參見圖11 (a)和圖11 (b))，可見光130的強(qiáng)度與放射線16的強(qiáng)度相對應(yīng)?？梢姽?30從柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的柱狀部分向非柱狀晶體部分82行進(jìn)并且入射在光檢測基板72上。盡管部分可見光130從柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的柱狀部分行進(jìn)到其遠(yuǎn)端部分，但因?yàn)榍袚Q濾光片76的調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)(參見圖 11 (a)和圖11 (b))，該部分可見光130被反射向光檢測基板72，并且反射的光(部分可見光 130)透過柱狀晶體結(jié)構(gòu)84和非柱狀晶體部分82施加到光檢測基板72。因此，在光檢測基板72，由于除了被柱狀晶體結(jié)構(gòu)84轉(zhuǎn)換后直接施加的可見光130以外還施加了被處于反射鏡狀態(tài)的調(diào)光鏡膜層122反射的反射光(可見光130)，因此很容易提高光檢測基板72的各個像素190(各個光檢測器件94)對可見光130的靈敏度。各個像素190將上述通過平坦化膜96施加的可見光130轉(zhuǎn)換為電信號并且將電信號存儲為電荷。根據(jù)從盒控制部182(參見圖1 提供給選通驅(qū)動部198的驅(qū)動信號，像素190中存儲的表示被攝體14的攝影部位的放射線圖像的電荷信息被讀取。更具體地，選通驅(qū)動部198從像素190的矩陣的第0行依次地選擇選通線194，并且向所選擇的選通線194提供選通信號以導(dǎo)通與所選擇的選通線194相連接的TFT92，由此從像素190的矩陣的第0行每次一行地依次讀取像素190中存儲的電荷。每次一行地從像素190中讀取的電荷沿著信號線196傳遞到像素190的矩陣的相應(yīng)列中的電荷放大部200。 接著，在步驟Sll中，電荷被復(fù)用部202和A/D轉(zhuǎn)換部204處理，并且在存儲器184中存儲為數(shù)字電信號。更具體地，存儲器184依次存儲由從像素190的矩陣的行中獲得的數(shù)字電信號表示的放射線圖像信息。存儲器184中存儲的放射線圖像信息與用于標(biāo)識電子盒20A的盒ID信息一起從通信部186經(jīng)由無線通信鏈路發(fā)送到控制臺22 (參見圖1)。在步驟S12，控制臺22在顯示裝置M上顯示放射線圖像信息表示的放射線圖像和盒ID信息。盒控制部182還可以在顯示控制面板56上顯示該放射線圖像和盒ID信息。醫(yī)生通過觀察在顯示裝置M或顯示控制面板56上顯示的內(nèi)容來確認(rèn)放射線圖像。之后，在步驟S13，如果完成了攝影順序中所記錄的全部放射線圖像的拍攝(步驟S13: 是)，則醫(yī)生在步驟S14將被攝體14從攝影臺12放開。接著，醫(yī)生操作顯示控制面板56以停止驅(qū)動電子盒20A。盒控制部182停止從電源188向驅(qū)動電路180和揚(yáng)聲器58供電。從偏壓電源192向像素190提供偏壓也被停止。 結(jié)果，電子盒20A從激活模式切換到睡眠模式。在步驟S15，在確認(rèn)在顯示控制面板56上沒有顯示任何內(nèi)容并且確認(rèn)電子盒20A 切換到睡眠模式之后，醫(yī)生抓住電子盒20A的把手52 (參見圖2和圖3(a))并且將電子盒 20A攜帶到給定的儲存位置。在步驟S13，如果圖像攝影順序包括低速運(yùn)動圖像攝影模式并且尚未完成對全部運(yùn)動圖像的拍攝(步驟S13 否)，則放射源控制裝置32執(zhí)行下一個運(yùn)動圖像攝影模式(第二個放射線圖像以及后續(xù)的放射線圖像)，在步驟S9，控制放射源30以根據(jù)攝影條件向被攝體14的攝影部位施加放射線16。在步驟S13，如果圖像攝影順序包括拍攝多個靜止圖像并且對全部靜止圖像的拍攝尚未完成(步驟S13 否)，則醫(yī)生再次執(zhí)行步驟S8以執(zhí)行下一個靜止圖像攝影模式(第二個放射線圖像以及后續(xù)的放射線圖像)。
如上所述，為了拍攝被攝體14的至少一個靜止圖像或者為了執(zhí)行低速運(yùn)動圖像攝影模式，在不對各個光檢測器件94 ( S卩，各個像素190)進(jìn)行光復(fù)位處理的情況下，在切換濾光片76的調(diào)光鏡膜層122保持反射鏡狀態(tài)的同時，對被攝體14進(jìn)行放射線圖像攝影處理。以上描述了針對不執(zhí)行光復(fù)位處理的情況的放射線圖像攝影處理[1]。接著，將參照圖18到圖沈描述用于對光檢測器件94(像素190)執(zhí)行光復(fù)位處理的情況的放射線圖像攝影處理[2]到[7]。在描述放射線圖像攝影處理[2]到[7]之前，將描述利用復(fù)位光132使光檢測器件94或者像素190復(fù)位的需要。如果光檢測器件94的光電二極管(參見圖6 (a)到圖8、圖10(a)到圖12(b)以及圖13(b)到圖15)由非晶硅(a-Si)等制成，則從可見光130轉(zhuǎn)換來的一些電荷被非晶硅的雜質(zhì)能級暫時束縛。如果被束縛的電子隨后由于可能在高速拍攝運(yùn)動圖像時造成的光電二極管的溫度升高而被釋放，則生成了如暗電流的不必要的電流，有可能在得到的被攝體14 的放射線圖像中產(chǎn)生噪聲。如在“背景技術(shù)”中所說明的那樣，以前慣常通過在不向被攝體 14施加放射線時(S卩，當(dāng)不拍攝被攝體14的放射線圖像時)向光電二極管施加復(fù)位光132 來去除噪聲，以由此在雜質(zhì)能級中嵌入電荷，使得在向被攝體14施加放射線16時從可見光 130轉(zhuǎn)換來的電荷將不被雜質(zhì)能級束縛。然而，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的上述處理，由于電荷嵌入在相對淺的位置，因此如果光電二極管的溫度上升，則幾乎全部電荷被從雜質(zhì)能級釋放，使得不能減少噪聲。在高速運(yùn)動圖像攝影模式中，由于長時間地反復(fù)拍攝運(yùn)動圖像而引起發(fā)光二極管的溫度上升，如果攝影間隔(即，幀速率)與電荷被從雜質(zhì)能級中釋放出來的時間相互匹配，則這種電荷趨向于從雜質(zhì)能級中更顯著地且在幀之間以不同的速率釋放。根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施方式，期望將電荷足夠深地嵌入到雜質(zhì)能級中以消除幀之間的變化速度(在此期間，電荷由于光電二極管的溫度增加而被釋放)，并且還利用圖像處理順序從放射線圖像去除或者校正由按照特定速率釋放的電荷造成的噪聲。另一方面，暗電流的電平還與發(fā)光二極管的溫度相對應(yīng)地變化。具體地，暗電流的電平隨著發(fā)光二極管的溫度升高而變得較高。不僅在運(yùn)動圖像攝影模式期間，而且在長時間地執(zhí)行放射線圖像攝影處理的情況下(如在靜止圖像攝影模式中以減小的間隔拍攝靜止圖像期間)，在從運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時，并且在從靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時，光電二極管的溫度也有可能升高，并且由于暗電流信號引起的噪聲并不是可以忽略的。如果由于光電二極管的溫度上升而引起的噪聲增大到這種不能被忽略的噪聲的程度，則如果發(fā)光二極管的溫度高于閾值溫度Tc，如圖20所示，則需要從初始值FthO減小幀速率閾值Fth，并且無論圖像攝影順序是指示低速運(yùn)動圖像攝影模式還是高速運(yùn)動圖像攝影模式，鑒于光電二極管的溫度，都應(yīng)當(dāng)復(fù)位光檢測器件94。在放射線圖像攝影處理中，根據(jù)圖18到圖沈所示地執(zhí)行的光復(fù)位處理，確定鑒于包括由非晶硅制成的光電二極管的光檢測器件94的溫度是否應(yīng)進(jìn)行光復(fù)位處理。下面，將參照圖18到圖沈單獨(dú)描述進(jìn)行光復(fù)位處理的放射線圖像攝影處理[2] 到[7]。
[2]下面，將描述根據(jù)包括靜止圖像攝影模式或低速運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理，其中在圖像攝影模式之前執(zhí)行至少一次光復(fù)位處理(參見圖⑶。由于要求高質(zhì)量的放射線圖像，假定在圖像攝影模式之前至少執(zhí)行一次光復(fù)位處理以獲得僅具有輕微噪聲的放射線圖像。更具體地，即使給出了上述關(guān)于放射線圖像攝影處理[1]的圖像攝影順序，但假定在圖像攝影模式之前執(zhí)行至少一次光復(fù)位處理，以獲得更高質(zhì)量的放射線圖像。在圖18所示的步驟S21中，在步驟S5(參見圖16)之后，光復(fù)位操作確定部 214(參見圖1 確定需要在圖像攝影模式之前至少執(zhí)行一次光復(fù)位處理，這是因?yàn)閳D像攝影順序確定部210所識別的圖像攝影方法表示用于拍攝至少一個放射線圖像的放射線圖像攝影模式或者低速運(yùn)動圖像攝影模式。接著，光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216 和光源控制部218輸出需要在圖像攝影模式之前至少執(zhí)行一次光復(fù)位處理的決定，并且還在顯示控制面板56上顯示該決定。揚(yáng)聲器58也可以輸出表示該決定的聲音?；趤碜怨鈴?fù)位操作確定部214的決定，在步驟S21，濾光片控制部216向切換濾光片76施加電壓(參見圖3(a)、圖4(a)、圖6(a)、圖9到圖12(b)、圖13(b)和圖14)，以將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)?；谕粵Q定，光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以開始發(fā)射復(fù)位光132。復(fù)位光132透過調(diào)光鏡膜層122并且透過閃爍體74施加到光檢測基板72，由此在步驟S22中利用復(fù)位光132開始使光檢測器件94(即，像素190)復(fù)位的光復(fù)位處理。之后，光源控制部218停止驅(qū)動復(fù)位光源72以停止發(fā)射復(fù)位光132，由此完成光復(fù)位處理?；诓襟ES23中來自光復(fù)位操作確定部214的決定，如果濾光片控制部216確定需要使調(diào)光鏡膜層122返回反射鏡狀態(tài)(步驟S23 否)，則濾光片控制部216在步驟S24 向切換濾光片76施加與在步驟S21施加的電壓極性相反的電壓，以將調(diào)光鏡膜層122從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。此外，基于確定結(jié)果，如果濾光片控制部216確定需要將調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)(步驟S23 是)，則不向切換濾光片76提供電壓，并且保持透明狀態(tài)。這樣，在完成光復(fù)位處理之后，放射線圖像攝影系統(tǒng)10執(zhí)行圖17所示的步驟S8。在圖18所示的步驟S23中，濾光片控制部216確定是否應(yīng)將切換濾光片76保持在透明狀態(tài)。例如，根據(jù)以下判據(jù)⑴和⑵做出這種決定。(1)在用于拍攝單個靜止圖像的放射線圖像攝影模式中，如果在圖像攝影模式之前至少執(zhí)行一次復(fù)位，則可以獲取僅具有輕微噪聲的放射線圖像。此外，在圖像攝影期間， 如果切換濾光片76處于反射鏡狀態(tài)，則由于向著切換濾光片76行進(jìn)的可見光130被反射向光檢測基板72，可以很容易地提高光檢測器件94的靈敏度。在用于拍攝多個放射線圖像的放射線圖像攝影模式或低速運(yùn)動圖像攝影模式中，由于預(yù)期在相對長的間隔拍攝圖像的情況下光電二極管的溫度不會明顯升高，因此即使在拍攝第二個放射線圖像和后續(xù)放射線圖像之前不使光檢測器件94復(fù)位也仍然可以拍攝高質(zhì)量的放射線圖像。因此，考慮到這種圖像攝影模式，為了獲得高靈敏度并且獲取高質(zhì)量的放射線圖像的目的，濾光片控制部216 可以確定是否應(yīng)使調(diào)光鏡膜層122返回到反射鏡狀態(tài)。(2)即使在用于拍攝多個放射線圖像的放射線圖像攝影模式或低速運(yùn)動圖像攝影模式中，如果在相對短的間隔內(nèi)拍攝圖像，則隨著所拍攝的圖像的數(shù)量的增加，發(fā)光二極管的溫度升高。因此，在拍攝第二個放射線圖像和后續(xù)放射線圖像時，如果在拍攝圖像之前不立即執(zhí)行光復(fù)位處理，則預(yù)期由暗電流引起的噪聲將不利地影響放射線圖像。此外，如果調(diào)光鏡膜層122在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間進(jìn)行切換所需要的時間比攝影間隔長，則對切換濾光片76的切換可能不能跟上運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率。在這種情況下，為了可靠地進(jìn)行光復(fù)位處理的目的以及獲取僅具有輕微噪聲的放射線圖像，濾光片控制部216可以不使調(diào)光鏡膜層122返回到反射鏡狀態(tài)，但可以確定調(diào)光鏡膜層122應(yīng)保持在透明狀態(tài)。如上所述，在ISS型的電子盒20A (或者電子盒20B)的情況下，由于光檢測基板 72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源78按照此順序在施加放射線16的方向上依次布置，幾乎全部放射線16都被柱狀晶體結(jié)構(gòu)84轉(zhuǎn)換為可見光130，并且放射線16將到達(dá)切換濾光片16和復(fù)位光源78的可能性極小。因此，在ISS型的電子盒的情況下，防止了切換濾光片76和復(fù)位光源78由于放射線16而退化，并且即使在施加放射線16的同時將調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)，也可以防止復(fù)位光源78由于被放射線16照射而錯誤地發(fā)射復(fù)位光132。此外，在放射線圖像攝影處理[2]中，在圖像攝影模式之前至少執(zhí)行一次光復(fù)位處理。在執(zhí)行了光復(fù)位處理之后，在用于拍攝靜止圖像的圖像攝影順序的情況下，調(diào)光鏡膜層122保持反射鏡狀態(tài)，并且進(jìn)行靜止圖像的拍攝。另一方面，在低速運(yùn)動圖像攝影模式的情況下，調(diào)光鏡膜層122被置于反射鏡狀態(tài)并且進(jìn)行運(yùn)動圖像的拍攝，或者另選地，調(diào)光鏡膜層122被置于透明狀態(tài)并且進(jìn)行運(yùn)動圖像的拍攝。[3]下面，將描述根據(jù)包括拍攝多個圖像(靜止圖像攝影模式或者運(yùn)動圖像攝影模式)的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理，其中在圖像攝影循環(huán)之間進(jìn)行光復(fù)位處理 (參見圖19)。假定在用于拍攝多個靜止圖像的圖像攝影模式、低速運(yùn)動圖像攝影模式或高速運(yùn)動圖像攝影模式中依次地拍攝圖像的同時執(zhí)行光復(fù)位處理。在步驟S13(參見圖17)，如果尚未完成全部運(yùn)動圖像的拍攝(步驟S13:否)，則在圖19的步驟S25中，光復(fù)位操作確定部214(參見圖15)確定需要在攝影循環(huán)之間進(jìn)行光復(fù)位處理(步驟S25 是)，這是因?yàn)閳D像攝影順序確定部210做出的決定表示拍攝多個圖像(用于拍攝多個靜止圖像的圖像攝影模式或者運(yùn)動圖像攝影模式)。光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218輸出該決定，并且還在顯示控制面板56上顯示該決定。光復(fù)位操作確定部214也可以從揚(yáng)聲器58輸出指示該決定的聲音?；趤碜怨鈴?fù)位操作確定部214的決定，在步驟S26，濾光片控制部216確定調(diào)光鏡膜層122(參見圖6(a)、圖9到圖12(b)、圖13(b)和圖14)是否處于反射鏡狀態(tài)。在步驟S26，如果調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)(步驟S26 是)，則在步驟S27，類似于步驟 S21 (參見圖18)，濾光片控制部216向切換濾光片76施加電壓以將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。基于同一決定，按照與步驟S22相同的方式，光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以開始發(fā)射復(fù)位光132。更具體地，在步驟S28，復(fù)位光132透過調(diào)光鏡膜層122并且透過閃爍體74施加到光檢測基板72，由此使光檢測器件94(即，像素190)復(fù)位。之后，光源控制部218停止驅(qū)動復(fù)位光源78以停止發(fā)射復(fù)位光132。在步驟S29，濾光片控制部216向切換濾光片76施加與在步驟S27施加的電壓極性相反的電壓，以由此將調(diào)光鏡膜層122從透明狀態(tài)切換為反射鏡狀態(tài)。之后，控制返回至圖17所示的步驟S9， 在步驟S9，放射線圖像攝影系統(tǒng)10進(jìn)行下一個放射線圖像攝影處理。因此，在放射線圖像攝影處理[3]中，針對包括用于拍攝多個靜止圖像的圖像攝影模式、低速運(yùn)動圖像攝影模式或者高速運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影順序而在圖像攝影循環(huán)之間執(zhí)行步驟S25到S29。因此，調(diào)光鏡膜層122在一幀期間交替地在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換，并且在透明狀態(tài)期間進(jìn)行光復(fù)位處理。如果調(diào)光鏡膜層122處于透明狀態(tài)(步驟S26 否)，即，如果利用保持透明狀態(tài)的調(diào)光鏡膜層122執(zhí)行運(yùn)動圖像攝影模式，則濾光片控制部216不向切換濾光片76提供任何電壓，以將調(diào)光鏡膜層122持續(xù)地保持在透明狀態(tài)，并且在步驟S30，按照與步驟S22和S28 相同的方式，光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以對像素190進(jìn)行光復(fù)位處理。之后，光源控制部218停止驅(qū)動復(fù)位光源78以停止發(fā)射復(fù)位光132。接著，控制返回至步驟S9，并且放射線圖像攝影系統(tǒng)10進(jìn)行下一個放射線圖像攝影處理。這樣，根據(jù)放射線圖像攝影處理[3]，如果調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)，則可以在圖像攝影循環(huán)之間進(jìn)行光復(fù)位處理，之后，調(diào)光鏡膜層122可以保持在透明狀態(tài)而不切換回反射鏡狀態(tài)。具體地，如果圖像攝影順序包括高速運(yùn)動圖像攝影模式，則由于調(diào)光鏡膜層122的切換時間可能不能跟上高速運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率，因此通過將調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)中，可以在圖像攝影循環(huán)之間可靠地執(zhí)行光復(fù)位處理。在步驟S25，如果光復(fù)位操作確定部214決定不需要在圖像攝影循環(huán)之間執(zhí)行光復(fù)位處理(步驟S25 否)，即使這樣，圖像攝影順序確定部210做出的決定也表示拍攝多個圖像，光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218輸出該決定，并且還在顯示控制面板56上顯示該決定。光復(fù)位操作確定部214也可以從揚(yáng)聲器58輸出指示該決定的聲音。之后，控制返回至圖19所示的步驟S9，在步驟S9，放射線圖像攝影系統(tǒng)10進(jìn)行下一個放射線圖像攝影處理。在步驟S25，光復(fù)位操作確定部214可以確定，除了上述攝影方法(用于拍攝多個靜止圖像的圖像攝影模式或者運(yùn)動圖像攝影模式)以外，鑒于光檢測器件94的溫度，是否需要在攝影循環(huán)之間進(jìn)行光復(fù)位處理。例如，在前一攝影循環(huán)中從像素190讀取的電信號的多個像素值中，假定從位于不被放射線16照射的區(qū)域中的像素190讀取的電信號的像素值為基于暗電流的像素值。 基于從這些像素190中讀取的電信號(基于暗電流)的像素值，溫度檢測部212檢測像素 190(即，光電二極管)的溫度，并且向光復(fù)位操作確定部214輸出所檢測到的溫度。在此情況下，在步驟S25中，光復(fù)位操作確定部214識別與圖20中的由溫度檢測部212檢測到的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth，并且將幀速率閾值Fth與圖像攝影順序確定部210識別的圖像攝影方法的幀速率相比較。如果所識別的圖像攝影方法的幀速率比與所檢測到的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth高，則在步驟S25，光復(fù)位操作確定部214確定需要將像素190復(fù)位(步驟S25 是)。如果所識別的攝影方法的幀速率比與所檢測到的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth低，則在步驟S25，光復(fù)位操作確定部214確定像素190不需要復(fù)位 (步驟S25 否)。如果溫度檢測部212檢測到的溫度比閾值溫度Tc低，并且?guī)俾书撝礔th處于初始值FthO，則光復(fù)位操作確定部214不鑒于光檢測器件94的溫度確定是否需要進(jìn)行光復(fù)位處理，但是可以簡單地通過比較攝影方法的幀速率和幀速率閾值FthO來確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理。在放射線圖像攝影處理[2]和[3]中，根據(jù)圖像攝影順序以放射線16對被攝體14 進(jìn)行攝影，該圖像攝影順序包括用于拍攝至少一個靜止圖像的圖像攝影模式、低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式中的至少一種。然而，如圖21(a)到圖21(c)所示，例如，某些圖像攝影順序包括兩個或者更多個圖像攝影模式，而不是僅包括一個圖像攝影模式。例如，圖21 (a)示出了從靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影順序。圖21(b)示出了從運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式的圖像攝影順序。圖21 (c)示出了從靜止圖像攝影模式切換到低速運(yùn)動圖像攝影模式并接著切換到高速運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影順序。根據(jù)包括兩個或更多個圖像攝影模式的攝影順序，調(diào)光鏡膜層122在切換圖像攝影模式(參見圖21(a)和圖21(b))時(時段T)在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換，或者另選地，由于在改變攝影模式的時刻切換調(diào)光鏡膜層122耗費(fèi)時間(S卩，由于切換時間不能跟上運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率)，因此在圖像攝影間隔相對長的時段中，調(diào)光鏡膜層122 的狀態(tài)可以預(yù)先切換(參見圖21(c))。下面，將參照圖22到圖沈描述針對包括兩個或者更多個圖像攝影模式的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理[4]到[7]和光復(fù)位處理。[4]下面，將描述根據(jù)包括用于拍攝至少一個靜止圖像的圖像攝影模式和運(yùn)動圖像攝影模式的順序(按此順序)的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理，其中切換濾光片 76在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的時刻在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換(參見圖21(a))。在靜止圖像攝影模式中，調(diào)光鏡膜層122 (參見圖6 (a)、圖9到圖12 (b)、圖13 (b) 和圖14)處于反射鏡狀態(tài)。在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的時段T之后， 根據(jù)運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率，調(diào)光鏡膜層122保持反射鏡狀態(tài)，保持透明狀態(tài)，或者在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間交替地切換。在時段T期間，調(diào)光鏡膜層122在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換。放射線圖像攝影處理[4]中的運(yùn)動圖像攝影模式是指低速運(yùn)動圖像攝影模式或者高速運(yùn)動圖像攝影模式。如果圖像攝影順序中包括的圖像攝影方法表示靜止圖像攝影模式和運(yùn)動圖像攝影模式的序列(按照此順序)(步驟S31 是)(參見圖2 ，則在圖16所示的步驟S5之后， 控制進(jìn)行到步驟S7(參見圖16)，在步驟S7中，調(diào)光鏡膜層122設(shè)定為反射鏡狀態(tài)并執(zhí)行圖像攝影模式。之后，在步驟S13，在確定尚未完成全部放射線圖像的拍攝(步驟S13 否)(參見圖17)之后，如果從圖像攝影順序確定部210(參見圖1 發(fā)送的決定指示按照靜止圖像攝影模式和運(yùn)動圖像攝影模式的順序的序列(步驟S41 是)(參見圖23)，則在步驟S42中， 光復(fù)位操作確定部214確定當(dāng)前時間是否表示靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的時刻。在步驟S42，如果光復(fù)位操作確定部214決定當(dāng)前時間不表示靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的時刻(即，下一個模式還是靜止圖像攝影模式)(步驟S42 CN 102525498 A否)，則光復(fù)位操作確定部214在顯示控制面板56上顯示該決定。醫(yī)生確認(rèn)在顯示控制面板56上顯示的決定，并且控制返回至圖17中的步驟S8，以便于再次執(zhí)行下一個靜止圖像攝影模式。另一方面，如果光復(fù)位操作確定部214決定當(dāng)前時間是靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式的時段T期間的時刻(步驟S42 是)，則在步驟S43中，光復(fù)位操作確定部214確定是否應(yīng)執(zhí)行光復(fù)位處理。如果前一個圖像攝影模式是具有相對高的放射線劑量的靜止圖像攝影模式，而下一個圖像攝影模式是具有相對低的放射線劑量的運(yùn)動圖像攝影模式，則光復(fù)位操作確定部 214確定需要執(zhí)行光復(fù)位處理(步驟S43 是)。光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216 和光源控制部218輸出指示需要執(zhí)行光復(fù)位處理的決定，并且在顯示控制面板56上顯示該決定。光復(fù)位操作確定部214也可以從揚(yáng)聲器58輸出指示該決定的聲音。在步驟S44，濾光片控制部216向切換濾光片76施加電壓(參見圖3 (a)、圖4 (a)、 圖6 (a)、圖9到圖12 (b)、圖13 (b)和圖14)，以將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以開始發(fā)射復(fù)位光132。結(jié)果，在步驟S45，復(fù)位光 132透過調(diào)光鏡膜層122并且透過閃爍體74施加到光檢測基板72，由此對像素190進(jìn)行光復(fù)位。之后，光源控制部218停止從復(fù)位光源78發(fā)射復(fù)位光132，由此完成復(fù)位處理。另一方面，在步驟S46中，濾光片控制部216確定接下來執(zhí)行的運(yùn)動圖像攝影模式是低速運(yùn)動圖像攝影模式。由于低速運(yùn)動圖像攝影模式是相對低幀速率的運(yùn)動圖像攝影模式，攝影間隔相對長并且發(fā)光二極管的溫度升高不明顯，因此，可以不需要光復(fù)位處理。此外，由于攝影間隔相對長，所以如果執(zhí)行光復(fù)位處理，則能夠提供可以用于切換濾光片76在圖像攝影循環(huán)之間進(jìn)行切換的時段。如果下一個圖像攝影模式是低速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S46 是)，則在步驟 S47，濾光片控制部216向?yàn)V光片76施加與在步驟S44中施加電壓極性相反的電壓，以將調(diào)光鏡膜層122從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。在步驟S47，執(zhí)行圖17中的步驟S9以開始該低速運(yùn)動圖像攝影模式。在步驟S43，在由于圖21(a)中的時段T相對長而使得光電二極管的溫度不特別高的情況下，或者在即使不進(jìn)行復(fù)位操作由暗電流導(dǎo)致的噪聲的影響也很小的情況下，或者如果前一個圖像攝影模式是放射線劑量相對低的靜止圖像攝影模式，則光復(fù)位操作確定部214確定復(fù)位是不必要的(步驟S43 否)，并且將該決定輸出到濾光片控制部216和光源控制部218，并且還在顯示控制面板56上顯示。之后，濾光片控制部216執(zhí)行步驟S46的確定處理。此外，如果下一個運(yùn)動圖像攝影模式是高速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S46 否)，則在步驟S48，濾光片控制部216確定調(diào)光鏡膜層122應(yīng)保持在透明狀態(tài)。之后，執(zhí)行圖17的步驟S9以開始該高速運(yùn)動圖像攝影模式。如果步驟S43中的決定是否定的(步驟S43 否)，則調(diào)光鏡膜層122有可能當(dāng)前處于反射鏡狀態(tài)。因此，在步驟S46中，如果濾光片控制部216確定下一個運(yùn)動圖像攝影模式是高速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S46 否)，則在步驟S48中，濾光片控制部216可以向切換濾光片76施加電壓以將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。
如果調(diào)光鏡膜層122即使在靜止圖像攝影模式之后運(yùn)動圖像攝影模式(低速運(yùn)動圖像攝影模式)期間也保持在反射鏡狀態(tài)，或者如上面在[3]中描述的那樣，如果在一幀中，調(diào)光鏡膜層122在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間交替地切換并且在運(yùn)動圖像攝影模式 (例如，高速運(yùn)動圖像攝影模式)中執(zhí)行復(fù)位，則如圖23中的虛線所指示的，可以跳過步驟 S46的處理，并且可以執(zhí)行步驟S47以將調(diào)光鏡膜層122切換到反射鏡狀態(tài)。在運(yùn)動圖像攝影模式(例如，高速運(yùn)動圖像攝影模式)中，調(diào)光鏡膜層122可以保持在透明狀態(tài)，或者如果調(diào)光鏡膜層122的切換時間比幀速率長，則可以跳過步驟S46和 S47。[5]下面，將描述根據(jù)包括按照運(yùn)動圖像攝影模式和用于拍攝至少一個靜止圖像的圖像攝影模式的序列(按此順序)的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理，切換濾光片76在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換 (參見圖21(b))。將描述這樣一種情況，在運(yùn)動圖像攝影模式中，調(diào)光鏡膜層122 (參見圖6 (a)、圖9 到圖12(b)、圖13(b)和圖14)在一幀中保持反射鏡狀態(tài)、保持透明狀態(tài)，或者另選地在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間切換，并且在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式的時段T 之后，調(diào)光鏡膜層122在靜止圖像攝影模式中保持反射鏡狀態(tài)。因此，在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式的時段T期間，調(diào)光鏡膜層122的狀態(tài)也改變。放射線圖像攝影處理[5]中的運(yùn)動圖像攝影模式也指低速運(yùn)動圖像攝影模式或者高速運(yùn)動圖像攝影模式。首先，在圖16中的步驟S5之后，如果圖像攝影順序中所包括的圖像攝影方法在步驟S31和在步驟S32表示按照運(yùn)動圖像攝影模式和靜止圖像攝影模式的順序的序列(步驟 S32 否；步驟S32 是)(參見圖22)，并且如果運(yùn)動圖像攝影模式是低速運(yùn)動圖像攝影模式 (步驟S33 是)，則在步驟S7和隨后的步驟中，在調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)的情況下執(zhí)行低速運(yùn)動圖像攝影模式。另一方面，如果運(yùn)動圖像攝影模式是高速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S33 否)，則控制進(jìn)行到圖18中的步驟S21到S24。當(dāng)在拍攝圖像前將光檢測器件94復(fù)位之后，執(zhí)行圖 19中的步驟S8和后續(xù)步驟。之后，在步驟S13，在確定尚未完成對全部放射線圖像的拍攝(步驟S13 否)(參見圖17)之后，由于從圖像攝影順序確定部210發(fā)送的決定在步驟S41 (參見圖23)和步驟 S51(參見圖24)中指示按照運(yùn)動圖像攝影模式和靜止圖像攝影模式的順序的序列(步驟 S41 否；步驟S51 是)，則在步驟S52中，光復(fù)位操作確定部214確定當(dāng)前時間是否表示將運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式的時刻。在步驟S52，如果光復(fù)位操作確定部214確定當(dāng)前時間表示將運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式的時刻(即，時段T中的下一個模式是靜止圖像攝影模式(步驟 S52 是)，則光復(fù)位操作確定部214在步驟S53確定是否執(zhí)行光復(fù)位處理。如果將在靜止圖像攝影模式中獲取僅具有輕微噪聲的放射線圖像，或者如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率被與光電二極管的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth高(參見圖20)，則光復(fù)位操作確定部214在步驟S53中確定需要執(zhí)行光復(fù)位處理(步驟S53 是)。光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218輸出指示要執(zhí)行光復(fù)位處理的決定， 并且還在顯示控制面板56上顯示該決定。光復(fù)位操作確定部214也可以從揚(yáng)聲器58輸出指示該決定的聲音。在步驟S54，濾光片控制部216向切換濾光片76施加電壓，以由此將調(diào)光鏡膜層 122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以開始發(fā)射復(fù)位光 132。在步驟S55中，復(fù)位光132通過調(diào)光鏡膜層122并且通過閃爍體74施加到光檢測基板72，由此開始用于復(fù)位光檢測器件94( S卩，像素190)的光復(fù)位處理。之后，控制進(jìn)行到圖 16中的步驟S7,以將調(diào)光鏡膜層122切換到反射鏡狀態(tài)。接著，執(zhí)行圖17中的步驟S8及后續(xù)步驟，以由此進(jìn)行靜止圖像攝影模式。另外，在步驟S52，如果光復(fù)位操作確定部214確定當(dāng)前時間不是運(yùn)動圖像攝影模式應(yīng)切換到靜止圖像攝影模式的時刻(即，下一個模式還是運(yùn)動圖像攝影模式)(步驟S52 否)，則光復(fù)位操作確定部214在步驟S56中確定下一個運(yùn)動圖像攝影模式是否是低速運(yùn)動圖像攝影模式。如果下一個運(yùn)動圖像攝影模式是低速運(yùn)動圖形攝影模式(步驟S56 是)，則執(zhí)行圖17中的步驟S9。如果下一個運(yùn)動圖像攝影模式是高速運(yùn)動圖形攝影模式(步驟S56 否)，則執(zhí)行圖19中的步驟S25。如果時段T長且預(yù)期即使不進(jìn)行光復(fù)位處理、或者如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比與光電二極管的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth低也可以在靜止圖像攝影模式中獲取僅具有輕微噪聲的高質(zhì)量的放射線圖像，則光復(fù)位操作確定部214在步驟S53中確定不需要進(jìn)行光復(fù)位處理(步驟S53 是)。光復(fù)位操作確定部214在顯示控制面板56上顯示該決定。之后，在圖17的步驟S8及后續(xù)步驟中，執(zhí)行靜止圖像攝影模式。此外，在運(yùn)動圖像攝影模式中，如果調(diào)光鏡膜層122保持透明狀態(tài)，則如圖M的虛線所示，可以跳過步驟S54，并且可以直接執(zhí)行步驟S55的光復(fù)位操作。在步驟S53，如果光復(fù)位操作確定部214基于光電二極管的溫度確定是否應(yīng)執(zhí)行光復(fù)位處理，則如以上針對放射線圖像攝影處理[3]所描述的那樣，光復(fù)位操作確定部214 可以根據(jù)從不被放射線16照射的像素190讀取的像素值來檢測光電二極管的溫度，以基于與所檢測到的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth(或者FthO)以及運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率來確定是否應(yīng)執(zhí)行光復(fù)位處理。[6]下面，將描述根據(jù)包括具有不同幀速率的兩個運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理(參見圖21 (c)的一部分)。在此情況下，按照順序執(zhí)行低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式的序列，或者按照順序執(zhí)行高速運(yùn)動圖像攝影模式和低速運(yùn)動圖像攝影模式的序列，以執(zhí)行放射線圖像攝影處理。根據(jù)放射線圖像攝影處理[6]，不同于放射線圖像攝影處理[4]和[5]，即使在放射線圖像攝影處理期間根據(jù)光電二極管的溫度或者圖像攝影間隔而改變幀速率(由于從低速運(yùn)動圖像攝影模式切換到高速運(yùn)動圖像攝影模式，或者由于從高速運(yùn)動圖像攝影模式切換到低速運(yùn)動圖像攝影模式)，調(diào)光鏡膜層122 (參見圖6 (a)、圖9到圖12 (b)、圖13 (b) 和圖14)可以繼續(xù)保持透明狀態(tài)，或者另選地，調(diào)光鏡膜層122可以在一幀中在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間交替地切換。在圖16中的步驟S5之后，在步驟S31 (參見圖2 和步驟S32中依次執(zhí)行圖像攝影順序中包括的兩個運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S31 否；步驟S32 否)，并且如果圖像攝影順序指示初始執(zhí)行低速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S34 是)，則在圖16中的步驟S7及后續(xù)步驟中，在將調(diào)光鏡膜層122設(shè)定為反射鏡狀態(tài)的情況下執(zhí)行低速運(yùn)動圖像攝影模式。另一方面，如果圖像攝影順序指示初始地執(zhí)行高速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟S34 否)，則在拍攝圖像之前，執(zhí)行圖18中的步驟S21到S24的序列，并且在光復(fù)位處理之后執(zhí)行圖17中的步驟S8及后續(xù)步驟的序列。在確定尚未完成全部運(yùn)動圖像的拍攝(步驟S13 否)之后，如果來自圖像攝影順序確定部210的決定指示在圖23中的步驟S41(步驟S41 否)和圖M中的步驟S51(步驟S51 否)中依次執(zhí)行兩個圖像攝影模式，并且在圖25中的步驟S61中，如果該確定指示低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式按順序依次進(jìn)行(步驟S61 是)，則光復(fù)位操作確定部214(參見圖1 在步驟S62確定是否應(yīng)將調(diào)光鏡膜層122應(yīng)切換到透明狀態(tài)。更具體地，由于高速運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影間隔比低速運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影間隔短，所以即使調(diào)光鏡膜層122在一幀中交替地切換到反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)，如果切換時間比圖像攝影時間長，也難以執(zhí)行光復(fù)位處理。因此，如果調(diào)光鏡膜層122到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)的切換不能跟上高速運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率，則如圖21(c)所示，需要在圖像攝影間隔相對長的低速運(yùn)動圖像攝影模式期間將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。在圖25的步驟S62中，如果光復(fù)位操作確定部214確定調(diào)光鏡膜層122要從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)(步驟S62 是)，則光復(fù)位操作確定部214向?yàn)V光片控制部216輸出該決定并且還在顯示控制面板56上顯示該決定。在步驟S63，濾光片控制部216向切換濾光片76施加電壓(參見圖3(b)、圖4(a)、圖6(a)、圖9到圖12(b)、圖13(b)和圖14)以由此將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。接著，在步驟S64，光復(fù)位操作確定部214確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理。如果低速運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比與光電二極管的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth高(參見圖20)，則光復(fù)位操作確定器214在步驟S64中確定光復(fù)位處理是必要的 (步驟S64 是)，并且向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218輸出有必要執(zhí)行光復(fù)位處理的決定，并且在顯示控制面板56上顯示該決定。揚(yáng)聲器58也可以輸出表示該決定的聲音。濾光片控制部216將調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)，并且光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以開始發(fā)射復(fù)位光132。在步驟S65，復(fù)位光132透過調(diào)光鏡膜層122并且通過閃爍體74施加到光檢測基板72，由此使光檢測器件94(即，像素190)復(fù)位。在光復(fù)位處理完成之后，調(diào)光鏡膜層122保持透明狀態(tài)。接著，執(zhí)行圖17中示出的步驟S9及后續(xù)步驟，即，執(zhí)行低速運(yùn)動圖像攝影模式。另一方面，在步驟S62，光復(fù)位操作確定部214決定調(diào)光鏡膜層122應(yīng)保持反射鏡狀態(tài)(步驟S62 否)，也就是說，如果調(diào)光鏡膜層122到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)的切換能夠足以跟上高速運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率，或者如果調(diào)光鏡膜層122因?yàn)樵趶牡退龠\(yùn)動圖像攝影模式切換到高速運(yùn)動圖像攝影模式之前剩余特定時段而應(yīng)保持反射鏡狀態(tài)，則跳過步驟S63到S65，并且執(zhí)行步驟S9及后續(xù)步驟，同時調(diào)光鏡膜層122保持反射鏡狀態(tài)。此外，在步驟S64，如果光復(fù)位操作確定部214確定光復(fù)位處理不是必要的(步驟 S64 否)，即使調(diào)光鏡膜層122切換到透明狀態(tài)，執(zhí)行步驟S9及后續(xù)步驟，同時調(diào)光鏡膜層122保持透明狀態(tài)。如果調(diào)光鏡膜層122在之前的運(yùn)動圖像攝影模式中已經(jīng)處于透明狀態(tài)，則在步驟 S61中進(jìn)行肯定確定之后，可以跳過步驟S62和S63，并且可以執(zhí)行步驟S64。如果按照順序依次執(zhí)行高速運(yùn)動圖像攝影模式和低速運(yùn)動圖像攝影模式(步驟 S61 否)，則在圖沈中的步驟S71，光復(fù)位操作確定部214確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理。如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比與光電二極管的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth 高，則光復(fù)位操作確定部214在步驟S71中確定光復(fù)位處理是必要的(步驟S71 是)，并且向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218輸出該決定，同時在顯示控制面板56上顯示該決定。揚(yáng)聲器58也可以輸出表示該決定的聲音。濾光片控制部216向切換濾光片76施加電壓，以將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。光源控制部218驅(qū)動復(fù)位光源78以開始發(fā)射復(fù)位光132。在步驟S72， 復(fù)位光132透過調(diào)光鏡膜層122并且通過閃爍體74施加到光檢測基板72，由此對光檢測器件94(8卩，像素190)執(zhí)行光復(fù)位處理。之后，光源控制部218停止驅(qū)動復(fù)位光源78以完成光復(fù)位處理。在步驟S73，濾光片控制部216確定調(diào)光鏡膜層122是否應(yīng)切換到反射鏡狀態(tài)。如果調(diào)光鏡膜層122到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)的切換能夠足以跟得上高速運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率(步驟S73 是)，則濾光片控制部216向切換濾光片76施加與在步驟S72施加的電壓極性相反的電壓，以在步驟S74將調(diào)光鏡膜層122從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。之后，執(zhí)行圖17所示的步驟S9及后續(xù)步驟。如果調(diào)光鏡膜層122到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)的切換不能跟上高速運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率(步驟S73 否)，則濾光片控制部216將調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)，之后執(zhí)行圖17所示的步驟S9即后續(xù)步驟。此外，在步驟S71中，如果運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率比與光電二極管的溫度相對應(yīng)的幀速率閾值Fth低，則光復(fù)位操作確定部214確定光復(fù)位處理不是必要的(步驟 S71 否)，并且向?yàn)V光片控制部216和光源控制部218輸出該確定結(jié)果，同時在顯示控制面板56上顯示該確定結(jié)果。[7]下面，將描述根據(jù)包括具有不同幀速率的兩個運(yùn)動圖像攝影模式以及用于拍攝至少一個靜止圖像的圖像攝影模式的圖像攝影順序的放射線圖像攝影處理(參見圖 21(c))。在此情況下，例如，如圖21(c)所示，由于按照順序執(zhí)行靜止圖像攝影模式、低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式，直接應(yīng)用放射線圖像攝影處理[4]并且沒有修改從靜止圖像攝影模式到低速運(yùn)動圖像攝影模式的切換。此外，可以將放射線圖像攝影處理[6]直接應(yīng)用于從低速運(yùn)動圖像攝影模式到高速運(yùn)動圖像攝影模式的切換。更具體地，如果調(diào)光鏡膜層122(參見圖6(a)、圖9到圖 12(b)、圖13(b)和圖14(b))在低速運(yùn)動圖像攝影模式切換到高速運(yùn)動圖像攝影模式之后在一幀中切換到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)，則存在切換時間不能跟上幀速率的可能性。因此，如圖21 (c)所示，調(diào)光鏡膜層122在低速運(yùn)動圖像攝影模式的圖像攝影循環(huán)之間預(yù)先從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)，并且在高速運(yùn)動圖像攝影模式期間保持透明狀態(tài)，因此能夠可靠地執(zhí)行光復(fù)位處理。具體地，在對被攝體14的關(guān)注區(qū)域(ROI)執(zhí)行的高速運(yùn)動圖像攝影模式中(參見圖1)，通過執(zhí)行光復(fù)位處理并同時將調(diào)光鏡膜層122保持在透明狀態(tài)，能夠可靠地減少放射線圖像中的噪聲。根據(jù)處理[7]，除了圖21(c)中示出的情況，還可以實(shí)現(xiàn)其它情況，例如，按照從高速運(yùn)動圖像攝影模式到低速運(yùn)動圖像攝影模式接著到靜止圖像攝影模式的順序執(zhí)行圖像攝影的情況，或者在低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式之間執(zhí)行靜止圖像攝影模式的情況。當(dāng)然，還可以針對這些圖像攝影模式適當(dāng)?shù)貞?yīng)用處理[4]到W]。根據(jù)本實(shí)施方式，基于幀速率和光電二極管的溫度來確定是否需要光復(fù)位處理。 如果對光檢測器件94執(zhí)行光復(fù)位處理，則光檢測器件94被復(fù)位，以將電荷充分地嵌入光電二極管的雜質(zhì)能級，以由此消除幀之間由于光電二極管的溫度升高而引起的從雜質(zhì)能級釋放的電荷量的變化。因此，如果在運(yùn)動圖像攝影模式等中拍攝了多個圖像，則使從雜質(zhì)能級釋放的電荷的量在每一幀中恒定。因此，在拍攝了多個圖像并且對圖像執(zhí)行了光復(fù)位處理的放射線圖像攝影處理[2]到[7]中，在步驟S12中，盒控制部182或控制臺22可以執(zhí)行用于去除由從放射線圖像釋放的特定電荷量導(dǎo)致的噪聲(即，校正發(fā)射線圖像)的圖像處理序列。因而，可以在顯示控制面板56和顯示裝置M上顯示免除噪聲的高質(zhì)量放射線圖像。包含根據(jù)本實(shí)施方式的電子盒20的放射線圖像攝影系統(tǒng)10如上所述地操作。本實(shí)施方式的變型例下面，將詳細(xì)描述電子盒20 (電子盒20A到20D)的變型例和根據(jù)第二到第四實(shí)施方式的電子盒20B到20D。圖27(a)和圖27(b)示出用于更準(zhǔn)確和更有效地檢測光電二極管的溫度的切換濾光片76。更具體地，在調(diào)光鏡膜層122的一部分中限定了用于一直允許復(fù)位光132透過的窗口 230。窗口 230應(yīng)優(yōu)選地布置在朝向光檢測器件94的位置，該位置位于預(yù)期溫度會升高的區(qū)域中。更優(yōu)選地，窗口 230應(yīng)布置在朝向光檢測器件94的位置，該位置位于放射線 16不照射的區(qū)域中。如果調(diào)光鏡膜層122處于反射鏡狀態(tài)，則在復(fù)位光源78發(fā)射復(fù)位光132的情況下，大部分復(fù)位光132被處于反射鏡狀態(tài)的調(diào)光鏡膜層122反射向復(fù)位光源78。然而，復(fù)位光的一部分向窗口 230行進(jìn)，除了透過平坦化膜96而施加到朝向窗口 230的光檢測器件 94 ( S卩，不被放射線16照射的光電二極管)以外，該部分復(fù)位光透過窗口 230并施加到閃爍體74。如果朝向窗口 230的光檢測器件94被復(fù)位光132照射，則光檢測器件94檢測并且存儲復(fù)位光132作為電荷。如前所述，由于光檢測器件94是被布置在不被放射線16照射的位置的光電二極管的形式，如果所存儲的電荷被讀出作為電信號，則所述電信號表示取決于暗電流信號的像素值。因此，溫度檢測部212(參見圖15)檢測與暗電流信號相對應(yīng)的光電二極管的溫度。接著，光復(fù)位操作確定部214識別取決于所檢測到的溫度的幀速率閾值Fth (參見圖20)，并且基于所識別的幀速率閾值Fth和運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率之間的比較結(jié)果來確定是否應(yīng)執(zhí)行光復(fù)位處理。如果光復(fù)位操作確定部214確定需要光復(fù)位處理，則濾光片控制部216可以將調(diào)光鏡膜層122從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。圖^(a)到圖^(b)示出了根據(jù)第二示例的電子盒20B的具體結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。
首先，如圖^(a)所示，在氣相沉積基板240上形成薄膜形式的閃爍體74，剝離層 242夾在氣相沉積基板240與閃爍體74之間。接著，如圖觀(b)所示，通過CVD (化學(xué)氣相沉積)，閃爍體74被防潮保護(hù)層86密封以使用聚封二甲苯覆蓋柱狀晶體結(jié)構(gòu)84的柱。接著，如圖^(c)所示，在光檢測基板72作為轉(zhuǎn)印體的情況下，閃爍體74的遠(yuǎn)端部分和光檢測器基板72被結(jié)合層88a接合到一起，或者被粘接層88b彼此粘接。根據(jù)已知的轉(zhuǎn)印技術(shù)， 閃爍體74可以與用作轉(zhuǎn)印體的光檢測基板72接合或者粘接(轉(zhuǎn)印)。接著，如圖^(a)所示，利用未示出的激光束照射剝離層M2，以從閃爍體74剝離氣相沉積基板240和剝離層對2。之后，如圖^(b)所示，閃爍體的非柱狀晶體部分82被去除，并且按照圖4 (b)所示的順序?qū)⒐鈾z測基板72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源 78組裝在殼體44內(nèi)，由此將放射線檢測部70容納在殼體44內(nèi)，如圖30 (a)所示。如果氣相沉積基板MO由復(fù)位光132不能透過的材料制成，則如圖28(a)到圖 29(a)所示，必須經(jīng)由剝離層242形成膜形式的閃爍體74。與此相反，如果氣相沉積基板M4由復(fù)位光132可透過的材料制成，則如圖30 (b) 所示，可以省去剝離層對2，并且可以在氣相沉積基板244上直接形成閃爍體74。在此情況下，因?yàn)榉侵鶢罹w部分82包括造成可見光130散射或反射的特征，在復(fù)位光源78的方向上行進(jìn)的可見光130連同與被處于反射鏡狀態(tài)的調(diào)光鏡膜層122反射的可見光130還可以被更有效率地反射向光檢測基板72。除了玻璃基板以外，諸如聚酰亞胺膜、聚芳酯膜、雙軸延長聚苯乙烯膜、芳綸膜或生物納米纖維膜的可透光且柔性的塑料膜可以用作氣相沉積基板對4，其對復(fù)位光132透明。此外，如圖31所示，可以省去氣相沉積基板對4，并且可以使非柱狀晶體部分82和切換濾光片76彼此接觸。按照此方式，可以更有效地執(zhí)行上述的可見光130的反射。如圖4(b)和圖30(a)到圖31所示，除了被接合層88a彼此接合或者通過粘接層 88b彼此粘接在一起的光檢測基板72和閃爍體74，根據(jù)第二示例的電子盒20B與根據(jù)第一示例的電子盒20A(參見圖6(a))大致相同，因此可以不加修改地應(yīng)用上述情況[1]到[7]。此外，在圖^(a)到圖31的描述中，說明了形成具有非柱狀晶體部分82的閃爍體 74的情況。然而，在第二示例中，在確定氣相沉積條件從而不形成非柱狀晶體部分82之后， 可以根據(jù)這種條件在氣相沉積基板240上氣相沉積閃爍體74。由此，可以避免非柱狀晶體部分82使光散射。圖32(a)和圖32(b)是示出根據(jù)第三示例和第四示例的在放射線檢測部70附近的電子盒20C和20D的片段截面圖。根據(jù)第三示例和第四示例的電子盒20C和20D不同于根據(jù)第一示例和第二示例的電子盒20A和2( (參見圖6(3)和圖30 (a))之處在于，放射線檢測部70被豎直翻轉(zhuǎn)或者上下倒置。在根據(jù)第三示例和第四示例的電子盒20C和20D的情況下，透過被攝體14的(參見圖1)放射線16經(jīng)過復(fù)位光源78和切換濾光片76到達(dá)閃爍體74，閃爍體74將放射線轉(zhuǎn)換為可見光130(參見圖11(a)和圖11(b))，并且光檢測基板72將可見光130轉(zhuǎn)換為電信號。在此情況下，由于復(fù)位光源78在殼體44中布置在照射面46側(cè)，因此存在著由于復(fù)位光源78被放射線16照射而能夠錯誤地產(chǎn)生復(fù)位光132的問題。由此，在根據(jù)第三示例和第四示例的電子盒20C和20D的情況下，如果調(diào)光鏡膜層122至少在被施加放射線16期間處于反射鏡狀態(tài)，則由于錯誤地產(chǎn)生的復(fù)位光132被調(diào)光鏡膜層122反射向復(fù)位光源78，向光檢測基板72施加的復(fù)位光132被阻擋，因而可以防止放射線圖像的模糊。另外，通過將調(diào)光鏡膜層122設(shè)定在反射鏡狀態(tài)，在復(fù)位光源78的方向上行進(jìn)的可見光130能夠被反射向光檢測基板72，結(jié)果，可以提高光檢測基板72的光檢測器件94對可見光130的靈敏度。在根據(jù)第三示例和第四示例的電子盒20C和20D中，由于需要至少在施加放射線 16時將調(diào)光鏡膜層122設(shè)定在反射鏡狀態(tài)，因此只能對在施加放射線16期間調(diào)光鏡膜層 122可保持在反射鏡狀態(tài)的操作應(yīng)用情況[1]到[7]。本實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)如上所述，在根據(jù)本實(shí)施方式的電子盒20 (20A到20D)的情況下，如果切換濾光片 76切換到對于復(fù)位光132而言的透明狀態(tài)，則復(fù)位光源78可以通過切換濾光片76和閃爍體74向光檢測基板72施加復(fù)位光132，以便由此對光檢測基板72充分地執(zhí)行光復(fù)位處理。另一方面，如果切換濾光片76切換到對復(fù)位光132而言的反射鏡狀態(tài)，在由閃爍體74從放射線16轉(zhuǎn)換而來的熒光(即，可見光130)中，熒光中的被引導(dǎo)向復(fù)位光源78的部分被切換濾光片76反射向光檢測基板72，并且反射光(可見光130)透過閃爍體74行進(jìn)而不透過復(fù)位光源78，并且施加到光檢測基板72。因此，可以獲得不模糊的高質(zhì)量放射線圖像，并且增加了施加到光檢測基板72的可見光130的量，由此提高了光檢測器板72對可見光130的靈敏度。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，由于光檢測基板72、閃爍體74、切換濾光片76和復(fù)位光源 78按此順序依次布置，并且切換濾光片76對復(fù)位光132選擇性地可透過和不可透過，可以對光檢測基板72充分執(zhí)行光復(fù)位處理，并且可以提高光檢測基板72對可見光130的靈敏度，并且可抑制放射線圖像的模糊。此外，基于圖像攝影順序，切換濾光片76可以切換到透明狀態(tài)(可透過狀態(tài))以使復(fù)位光132透過，或者切換到反射鏡狀態(tài)(不可透過狀態(tài))以向光檢測基板72反射可見光130并向復(fù)位光源78反射復(fù)位光132。因此，根據(jù)針對被攝體14的圖像攝影方法(靜止圖像攝影模式或運(yùn)動圖像攝影模式)，切換濾光片76可以保持透明狀態(tài)或者反射鏡狀態(tài)， 或者切換到透明狀態(tài)或者反射鏡狀態(tài)，由此可靠并有效地對光檢測基板72執(zhí)行光復(fù)位處理，并且高靈敏度地獲取被防止變得模糊的高質(zhì)量放射線圖像。如果處于反射鏡狀態(tài)的切換濾光片76向光檢測基板72反射可見光130，則增加了施加到光檢測基板72的可見光130 的量。因此，可以減少施加到被攝體14的放射線16的量，由此減小施加到被攝體14的放射線16的曝光量。更具體地，如果所述圖像攝影順序包括用于拍攝至少一個放射線圖像的放射線圖像攝影模式或具有幀速率比幀速率閾值Fth(或FthO)低的運(yùn)動圖像攝影模式(即，低速運(yùn)動圖像攝影模式)，則切換濾光片76可以保持反射鏡狀態(tài)。上述圖像攝影模式特別要求高靈敏度地獲取高質(zhì)量放射線圖像。由于這些圖像攝影模式中的圖像攝影間隔相對長，光電二極管的溫度不顯著升高，并且預(yù)期在被雜質(zhì)能級束縛的電荷被再次釋放的情況下造成的噪聲不會極大地影響所拍攝的放射線圖像。因此，如果接收到上述圖像攝影順序，則切換濾光片76保持反射鏡狀態(tài)以使得不執(zhí)行光復(fù)位處理，并且還使得被閃爍體74從放射線16轉(zhuǎn)換而來的可見光130被反射向光檢測基板72，由此增加施加到光檢測基板72的可見光130的量。結(jié)果，可以很容易以高靈敏度獲取被防止變得模糊的低噪聲、高質(zhì)量的放射線圖像。此外，如果圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式特別是高速運(yùn)動圖像攝影模式， 則切換濾光片76可以保持透明狀態(tài)。在運(yùn)動圖像攝影模式的情況下，由于長時間執(zhí)行圖像攝影，因此光電二極管的溫度趨于上升，并且可以預(yù)期由于被雜質(zhì)能級束縛的電荷的再次釋放而造成的噪聲可能對放射線圖像造成顯著的負(fù)面影響。因此，通過將切換濾光片76保持在透明狀態(tài)，可以在各圖像攝影事件之間不施加放射線16的時間這些復(fù)位，結(jié)果，可以減少放射線圖像中存在的噪聲。此外，如果圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式特別是高速運(yùn)動圖像使用模式， 則切換濾光片76在被攝體14被放射線16照射的每一幀中保持反射鏡狀態(tài)，并且在被攝體 14不被放射線16照射的每一幀中保持透明狀態(tài)。因此，切換濾光片76在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換。在此情況下，由于切換濾光片76在被攝體14被放射線16照射時在一幀內(nèi)在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換，切換濾光片76保持反射鏡狀態(tài)以可靠地向光檢測基板 72反射可見光130，由此增加了施加到光檢測基板72的可見光130的量。在被攝體不被放射線16照射時，切換濾光片76保持透明狀態(tài)以由此對光檢測基板72充分執(zhí)行光復(fù)位處理。因此，在運(yùn)動圖像攝影模式中，切換濾光片76在一幀中在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間交替地切換，以便于高靈敏度地獲取高質(zhì)量的放射線圖像，并且還減少所獲取的放射線圖像中的噪聲。為了實(shí)現(xiàn)反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的這種依次切換狀態(tài)，必須提供能夠?qū)崿F(xiàn)足以跟上運(yùn)動圖像攝影模式的幀速率的切換時間的切換濾光片76(即，具有比圖像攝影循環(huán)之間的時間間隔短的切換時間的切換濾光片76)。因此，在靈敏度不能夠跟上幀速率的切換濾光片76的情況下，應(yīng)當(dāng)保持透明狀態(tài)。此外，在圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式(高速運(yùn)動圖像攝影模式、低速運(yùn)動圖像攝影模式)和用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式的情況下，切換濾光片76可以在運(yùn)動圖像攝影模式期間保持透明狀態(tài)，可以在靜止圖像攝影模式期間保持反射鏡狀態(tài)，并且可以在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)，或者另選地，可以在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)。這樣，通過在改變圖像攝影方法時對切換濾光片76的狀態(tài)進(jìn)行切換，可獲取與圖像攝影方法相對應(yīng)的最優(yōu)化放射線圖像。另外，在圖像攝影順序包括高速運(yùn)動圖像攝影模式和用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式的情況下，切換濾光片76在靜止圖像攝影模式期間保持反射鏡狀態(tài)， 而在高速運(yùn)動圖像攝影模式中的每一幀中，切換濾光片76在對被攝體16施加放射線16時保持反射鏡狀態(tài)，并且在不對被攝體14施加放射線16時保持透明狀態(tài)。由此，切換濾光片 76在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換，并且可以在高速運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時從在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)，或者另選地，可以在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到在反射
40鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)。同樣在這種類型的切換順序的情況下，由于在改變圖像攝影方法時可靠地切換切換濾光片76的狀態(tài)，因此可以獲取與圖像攝影方法相對應(yīng)的最優(yōu)化的放射線圖像。此外，在圖像攝影順序包括低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式的情況下，切換濾光片76在低速運(yùn)動圖像攝影模式期間保持反射鏡狀態(tài)，在高速圖像攝影模式期間保持透明狀態(tài)，并且可以在低速運(yùn)動圖像攝影模式切換到高速運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到透明狀態(tài)，或者另選地，可以在高速運(yùn)動圖像攝影模式切換到低速運(yùn)動圖像攝影模式時從透明狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。這樣，即使在放射線圖像攝影處理期間圖像攝影順序的幀速率改變，通過在幀速率改變時切換切換濾光片76，可以可靠地獲取取決于幀速率的最優(yōu)化的放射線圖像。此外，在圖像攝影順序包括低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式的情況下，切換濾光片76在低速運(yùn)動圖像攝影模式期間保持反射鏡狀態(tài)，并且在不對被攝體14 施加放射線16期間保持反射鏡狀態(tài)，并且在高速運(yùn)動圖像攝影模式中的每一幀中在不對被攝體14施加放射線16期間保持透明狀態(tài)。由此，切換濾光片76在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換，并且可以在低速運(yùn)動圖像攝影模式切換到高速運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)，或者另選地，可以在高速運(yùn)動圖像攝影模式切換到低速運(yùn)動圖像攝影模式時從在反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)。即使使用其中幀速率在圖像攝影期間改變的圖像攝影順序，假定切換濾光片的狀態(tài)在幀速率改變時被切換，可以可靠地獲取與幀速率相對應(yīng)的最優(yōu)化的放射線圖像。此外，在圖像攝影順序包括低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式的情況下，如果切換順序包括按照低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式的順序的圖像攝影序列，則當(dāng)在低速圖像攝影模式中保持反射鏡狀態(tài)達(dá)預(yù)定數(shù)量個幀之后，切換濾光片76可以切換到透明狀態(tài)，并且接著可以在切換之后的任何剩余幀和在高速運(yùn)動圖像攝影模式中保持透明狀態(tài)，或者另選地，如果切換順序包括按照高速運(yùn)動圖像攝影模式和低速運(yùn)動圖像攝影模式的順序的圖像攝影序列，則當(dāng)在高速運(yùn)動圖像攝影模式中和低速圖像攝影模式中的預(yù)定數(shù)量個幀中保持透明狀態(tài)之后，切換濾光片76可以切換到反射鏡狀態(tài)， 并且接著可以在切換之后的任何剩余幀中保持反射鏡狀態(tài)。由于反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換需要時間這個事實(shí)，可能在低速運(yùn)動圖像攝影模式和高速運(yùn)動圖像攝影模式之間切換時發(fā)生不能順利執(zhí)行反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換的情況。因此，按照前述方式，通過在低速運(yùn)動圖像攝影模式期間執(zhí)行反射鏡狀態(tài)和透明狀態(tài)之間的切換，能夠可靠地避免由于被雜質(zhì)能級束縛的電荷接著在在高速運(yùn)動圖像攝影模式中被再次釋放電荷而造成的放射線圖像中的噪聲的添加。在圖像攝影順序包括兩種類型的運(yùn)動圖像攝影模式以及用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式的情況下，切換濾光片76在靜止圖像攝影模式中保持反射鏡狀態(tài)，并且可以在運(yùn)動圖像攝影模式切換到靜止圖像攝影模式時從切換濾光片76與運(yùn)動圖像攝影模式相對應(yīng)的狀態(tài)切換到反射鏡狀態(tài)，或者另選地，可以在靜止圖像攝影模式切換到運(yùn)動圖像攝影模式時從反射鏡狀態(tài)切換到切換濾光片76與運(yùn)動圖像攝影模式相對應(yīng)的狀態(tài)。
這樣，即使圖像攝影順序包括靜止圖像攝影模式，通過如上所述地切換切換濾光片76，也能夠在各個圖像攝影模式中容易地獲取最優(yōu)化的放射線圖像。在電子盒20的情況下，光檢測基板72包括用于將可見光130轉(zhuǎn)換為電信號的光檢測器件94，并且切換濾光片76包括在其一部分中限定的窗口 230，窗口 230用于使復(fù)位光132始終從切換濾光片76中透過。如果復(fù)位光源78通過窗口 230向光檢測器件94中的朝向窗口 230的一個施加復(fù)位光132，則被復(fù)位光132照射的光檢測器件94檢測由復(fù)位光132產(chǎn)生的暗電流信號。根據(jù)暗電流信號和圖像攝影順序，基于光檢測器件94的溫度， 切換濾光片76可以切換到反射鏡狀態(tài)或者切換到透明狀態(tài)。由被雜質(zhì)能級束縛的電荷的釋放而產(chǎn)生的噪聲級可以隨著光電二極管形式的光檢測器件94的溫度而改變。因此，需要根據(jù)光檢測器件94的溫度來改變幀速率閾值Fth。 因此，通過基于溫度并根據(jù)暗電流信號和圖像攝影順序?qū)⑶袚Q濾光片76切換到反射鏡狀態(tài)或者透明狀態(tài)，可以有效地減少取決于光檢測器件94的溫度的變化的噪聲。根據(jù)本實(shí)施方式，不同于常規(guī)處理，基于幀速率和光電二極管的溫度來確定是否需要光復(fù)位處理。如果執(zhí)行光復(fù)位處理，則在雜質(zhì)能級中嵌入足夠量的電荷以由此消除幀之間由于光電二極管的溫度升高引起的從雜質(zhì)能級釋放出的電荷量的變化。結(jié)果，利用圖像處理序列，可以從放射線圖像中去除(校正)由于以特定速率釋放的電荷而引起的噪聲， 由此能夠獲取更高質(zhì)量的放射線圖像。此外，切換濾光片76包括調(diào)光鏡膜層122，該調(diào)光鏡膜層122被以電的方式控制為使復(fù)位光132可透過或者不可透過。閃爍體74被布置在調(diào)光鏡膜層122側(cè)，并且復(fù)位光源78被布置在透明基板110側(cè)。因此，切換濾光片76可容易并且有效地切換到可透過狀態(tài)或者不可透過狀態(tài)(反射鏡狀態(tài))。復(fù)位光源78是發(fā)光元件142的陣列、背光或電致發(fā)光光源的形式，其朝向光檢測基板72地布置，切換濾光片76和閃爍體74夾在復(fù)位光源78和光檢測基板72之間。在此情況下，背光形式的復(fù)位光源78使得能夠?qū)⒗潢帢O射線管152和發(fā)光元件 162布置在不被放射線16照射的區(qū)域中。因此，防止了冷陰極射線管152和發(fā)光元件162 由于放射線16而劣化。如果復(fù)位光源78是有機(jī)電致發(fā)光光源的形式，則可以使復(fù)位光源 78的尺寸小。此外，如果光檢測基板72的光檢測器件94由有機(jī)光電導(dǎo)體或非晶氧化物半導(dǎo)體制成，并且TFT 92由有機(jī)半導(dǎo)體、非晶氧化物半導(dǎo)體或碳納米管制成，則光檢測器件94和 TFT 92可在低溫沉積為膜。傾斜光阻擋層102被夾在光檢測基板72和閃爍體74之間，由此使得能夠提高光檢測基板72對可見光130的靈敏度，并且防止放射線圖像變得模糊。本發(fā)明不限于例示的本實(shí)施方式的細(xì)節(jié)，但是可以如下地做出所例示的處理的各種處理變型。更具體地，根據(jù)放射線圖像攝影處理[1]到[7]，光復(fù)位操作確定部214基于相對于幀速率閾值Fth的幀速率大小來確定是否需要對光檢測器件94執(zhí)行光復(fù)位處理。然而， 光復(fù)位操作確定部214還可以根據(jù)以下處理(1)到(3)中的任一個來確定是否需要執(zhí)行光
復(fù)位處理。(1)如果在運(yùn)動圖像攝影模式期間拍攝的圖像的數(shù)量超過預(yù)定閾值，則光復(fù)位操作確定部214確定需要執(zhí)行光復(fù)位處理。(2)由于放射線圖像中的噪聲級隨著光檢測器件94的溫度升高而增加，如果所獲取的放射線圖像中的噪聲級超出預(yù)定閾值，則光復(fù)位操作確定部214可以確定需要執(zhí)行光復(fù)位處理。(3)在放射線圖像攝影處理[6]中，如果按照順序依次執(zhí)行高速運(yùn)動圖像攝影模式和低速運(yùn)動圖像攝影模式(即，如果在運(yùn)動圖像攝影模式中高的幀速率改變?yōu)榈偷膸俾?，不一定由于低幀速率就可以確定不需要光復(fù)位處理。換句話說，如果在高速運(yùn)動圖像攝影模式期間對光檢測器器件94反復(fù)執(zhí)行光復(fù)位處理，則光檢測器器件94的溫度有可能升高。因此，光復(fù)位操作確定部214可以確定需要執(zhí)行光復(fù)位處理以消除高速運(yùn)動圖像攝影模式的負(fù)面影響。光復(fù)位操作確定部214可以根據(jù)處理(1)到(3)來確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理，而不是基于幀速率來確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理。光復(fù)位操作確定部214還可以基于幀速率與處理(1)到(3)中的任一個和幀速率的組合來確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理。 此外，光復(fù)位操作確定部214還可以基于幀速率與處理(1)到(3)中的全部處理的組合來確定是否需要執(zhí)行光復(fù)位處理。盡管已經(jīng)詳細(xì)示出和描述了本發(fā)明的特定優(yōu)選實(shí)施方式，但應(yīng)理解，可以對實(shí)施方式進(jìn)行各種變化和修改而不背離由所附的權(quán)利要求闡述的本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種放射線圖像攝影裝置，包括閃爍體(74)，其用于將放射線(16)轉(zhuǎn)換成熒光(130)； 光檢測基板(72)，其用于將所述熒光(130)轉(zhuǎn)換成電信號； 復(fù)位光源(78)，其用于向所述光檢測基板m施加復(fù)位光(13 ；以及切換濾光片(76)，其能夠選擇性地使所述復(fù)位光(13 透過和不透過， 其中，所述光檢測基板(72)、所述閃爍體(74)、所述切換濾光片(76)和所述復(fù)位光源 (78)按照此順序布置，并且如果使所述復(fù)位光(132)能夠透過所述切換濾光片(76)，則所述切換濾光片(76)允許所述復(fù)位光(13 通過所述閃爍體(74)施加到所述光檢測基板(72)，如果使所述復(fù)位光 (132)不能透過所述切換濾光片(76)，則所述切換濾光片(76)至少將所述熒光(130)反射向所述光檢測基板(72)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中所述閃爍體(74)將透過被攝體(14)的所述放射線(16)轉(zhuǎn)換成所述熒光(130)； 所述光檢測基板將所述熒光(130)轉(zhuǎn)換成電信號，所述電信號表示所述被攝體 (14)的放射線圖像；并且所述切換濾光片(76)能夠基于關(guān)于拍攝所述被攝體(14)的所述放射線圖像的圖像攝影順序，選擇性地切換到能夠使所述復(fù)位光(13 透過的透明狀態(tài)、和向所述光檢測基板 (72)反射所述熒光(130)并且還向所述復(fù)位光源(78)反射所述復(fù)位光(132)的反射鏡狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式或幀速率低于幀速率閾值的運(yùn)動圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)保持所述反射鏡狀態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)保持所述透明狀態(tài)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置O0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式，則在利用所述放射線(16)照射所述被攝體(14)的同時，所述切換濾光片(76)在每一幀中都保持所述反射鏡狀態(tài)，而如果不利用所述放射線(16)照射所述被攝體(14)，所述切換濾光片(76)保持所述透明狀態(tài)，所述切換濾光片(76)藉此在所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間依次切換。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括運(yùn)動圖像攝影模式和用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)在所述運(yùn)動圖像攝影模式中保持所述透明狀態(tài)，并且在所述靜止圖像攝影模式中保持所述反射鏡狀態(tài)，并且所述切換濾光片(76)還在所述運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述靜止圖像攝影模式時從所述透明狀態(tài)切換到所述反射鏡狀態(tài)，或者在所述靜止圖像攝影模式切換到所述運(yùn)動圖像攝影模式時從所述反射鏡狀態(tài)切換到所述透明狀態(tài)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置O0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括幀速率比幀速率閾值高的運(yùn)動圖像攝影模式和用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)在所述靜止圖像攝影模式中保持所述反射鏡狀態(tài)，并且在所述運(yùn)動圖像攝影模式中的每一幀中向所述被攝體(14)施加放射線(16)期間繼續(xù)保持所述反射鏡狀態(tài)，并且在不對所述被攝體(14)施加放射線時保持所述透明狀態(tài)，藉此依次執(zhí)行所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間的切換，并且所述切換濾光片(76)在所述運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述靜止圖像攝影模式時從所述切換濾光片(76)在所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)切換到所述反射鏡狀態(tài)，或者在所述靜止圖像攝影模式切換到所述運(yùn)動圖像攝影模式時從所述反射鏡狀態(tài)切換到所述切換濾光片(76)在所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括幀速率比幀速率閾值低的第一運(yùn)動圖像攝影模式和幀速率比所述幀速率閾值高的第二運(yùn)動圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)在所述第一運(yùn)動圖像攝影模式期間保持所述反射鏡狀態(tài)，并且在所述第二圖像攝影模式期間保持所述透明狀態(tài)，所述切換濾光片(76)在所述第一運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述第二運(yùn)動圖像攝影模式時從所述反射鏡狀態(tài)切換到所述透明狀態(tài)，或者在所述第二運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述第一運(yùn)動圖像攝影模式時從所述透明狀態(tài)切換到所述反射鏡狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括幀速率比幀速率閾值低的第一運(yùn)動圖像攝影模式和幀速率比所述幀速率閾值高的第二運(yùn)動圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)在所述第一運(yùn)動圖像攝影模式中保持所述反射鏡狀態(tài)，或者在所述第二運(yùn)動圖像攝影模式中的每一幀中在利用所述放射線(16)照射所述被攝體(14) 時保持所述反射鏡狀態(tài)并且在不利用所述放射線(16)照射所述被攝體(14)時保持所述透明狀態(tài)，切換濾光片(76)藉此在所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間依次切換；并且所述切換濾光片(76)在所述第一運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述第二運(yùn)動圖像攝影模式時從所述反射鏡狀態(tài)切換到在所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)，或者在所述第二運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述第一運(yùn)動圖像攝影模式時從在所述反射鏡狀態(tài)和所述透明狀態(tài)之間依次切換的狀態(tài)切換到所述反射鏡狀態(tài)。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序包括幀速率比幀速率閾值低的第一運(yùn)動圖像攝影模式和幀速率比所述幀速率閾值高的第二運(yùn)動圖像攝影模式，如果所述圖像攝影順序包括按照所述第一運(yùn)動圖像攝影模式和所述第二運(yùn)動圖像攝影模式的順序的圖像攝影序列，則所述切換濾光片(76)在保持所述反射鏡狀態(tài)直至所述第一運(yùn)動圖像攝影模式中的預(yù)定幀之后切換到所述透明狀態(tài)，并且接著在切換后的任何剩余幀中以及在所述第二運(yùn)動圖像攝影模式中保持所述透明狀態(tài)，并且如果所述圖像攝影順序包括按照所述第二運(yùn)動圖像攝影模式和所述第一運(yùn)動圖像攝影模式的順序的圖像攝影序列，則所述切換濾光片(76)在所述第二運(yùn)動圖像攝影模式中保持所述透明狀態(tài)直至所述第一運(yùn)動圖像攝影模式中的預(yù)定幀為止，之后所述切換濾光片 (76)切換到所述反射鏡狀態(tài)，并且接著在切換之后的任何剩余幀中保持所述反射鏡狀態(tài)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中如果所述圖像攝影順序還包括用于拍攝至少一個靜止圖像的靜止圖像攝影模式，則所述切換濾光片(76)在所述靜止圖像攝影模式中保持所述反射鏡狀態(tài)，并且在所述運(yùn)動圖像攝影模式切換到所述靜止圖像攝影模式時從與所述運(yùn)動圖像攝影模式相對應(yīng)的狀態(tài)切換到所述反射鏡狀態(tài)，或者在所述靜止圖像攝影模式切換到所述運(yùn)動圖像攝影模式時從所述反射鏡狀態(tài)切換到與所述運(yùn)動圖像攝影模式相對應(yīng)的狀態(tài)。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中所述光檢測基板(7 包括用于將所述熒光(130)轉(zhuǎn)換成所述電信號的多個光檢測器件(94)；所述切換濾光片(76)在其一部分中限定了窗口 030)，所述窗口(230)用于始終使所述復(fù)位光(13 透過；如果所述復(fù)位光源(78)通過所述窗口(230)向所述光檢測器件(94)中的對著所述窗口(230)的一個光檢測器件(94)施加所述復(fù)位光(132)，則被所述復(fù)位光(13 照射的所述光檢測器件(94)檢測由所述復(fù)位光(13 產(chǎn)生的暗電流信號；并且所述切換濾光片(76)基于所述光檢測器件(94)的取決于所述暗電流信號的溫度以及所述圖像攝影順序而切換到所述反射鏡狀態(tài)或所述透明狀態(tài)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中所述切換濾光片(76)包括調(diào)光鏡膜層(122)，所述調(diào)光鏡膜層(12 被以電的方式控制以能夠使所述復(fù)位光(13 透過或不透過。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的放射線圖像攝影裝置O0、20A到20D)，其中所述切換濾光片(76)包括能夠使所述復(fù)位光(13 透過的透明基材(110)，并且所述調(diào)光鏡膜層 (122)被布置在所述透明基材(110)上；并且所述閃爍體(74)被布置在所述調(diào)光鏡膜層(12 側(cè)，并且所述復(fù)位光源(78)被布置在所述透明基材(110)側(cè)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線圖像攝影裝置(20，20A到20D)，其中所述復(fù)位光源 (78)包括對著所述光檢測基板(7 布置的發(fā)光元件(14 的陣列、背光或電致發(fā)光光源， 所述切換濾光片(76)和所述閃爍體(74)夾在所述復(fù)位光源(78)與所述光檢測基板(72) 之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中所述背光包括導(dǎo)光板(15)，其被布置在所述切換濾光片(76)的相對于所述閃爍體 (74)的相反側(cè)；光源(152、162)，其被布置在所述導(dǎo)光板(150)側(cè)部；反射片(156)，其圍繞所述導(dǎo)光板(150)和所述光源(152、16 布置；以及漫射片(IM)，其布置在所述導(dǎo)光板 (150)的朝向所述切換濾光片(76)的表面上；所述光源(152、16 向所述導(dǎo)光板(150)施加光；并且施加到所述導(dǎo)光板(150)的所述光在所述反射片(156)和所述漫射片(154)的表面之間在所述導(dǎo)光板(150)中反復(fù)反射，之后所述光作為所述復(fù)位光(132)從所述漫射片(154) 向所述切換濾光片(76)發(fā)射。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20A到20D)，其中所述光源 (152,162)包括發(fā)光二極管(162)或冷陰極射線管(152)。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中所述電致發(fā)光光源包括有機(jī)電致發(fā)光光源。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線圖像攝影裝置O0、20A到20D)，還包括傾斜光阻擋層(102)，其用于阻擋相對于施加所述放射線(16)的方向傾斜地傳播的所述熒光(130)或所述復(fù)位光(132)，所述傾斜光阻擋層(10 被夾在所述光檢測基板(72) 和所述閃爍體(74)之間。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)，其中沿著施加所述放射線(16)的方向，所述光檢測基板(72)、所述閃爍體(74)、所述切換濾光片(76)和所述復(fù)位光源(78)按照此順序依次布置，或者所述復(fù)位光源(78)、所述切換濾光片(76)、所述閃爍體(74)和所述光檢測基板m按照此順序依次布置。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的放射線圖像攝影裝置Q0、20C、20D)，其中如果所述復(fù)位光源(78)、所述切換濾光片(76)、所述閃爍體(74)和所述光檢測基板(7 沿著施加所述放射線(16)的方向按照此順序依次布置，則所述切換濾光片(76)至少在施加所述放射線 (16)時保持所述反射鏡狀態(tài)，以在向所述光檢測基板反射所述熒光(130)的同時向所述復(fù)位光源(78)反射所述復(fù)位光(132)。
全文摘要
本發(fā)明涉及放射線圖像攝影裝置。一種放射線圖像攝影裝置(20、20A到20D)包括按照順序依次布置的光檢測基板(72)、閃爍體(74)、切換濾光片(76)和復(fù)位光源(78)。如果切換濾光片(76)使得來自復(fù)位光源(78)的復(fù)位光(78)可以透過，則切換濾光片(76)允許復(fù)位光(132)通過閃爍體(74)施加到光檢測基板(72)，而如果切換濾光片(76)使得復(fù)位光(132)不可透過，則切換濾光片(76)至少將閃爍體(74)從放射線(16)轉(zhuǎn)換而來的熒光(130)反射向光檢測基板(72)。
文檔編號A61B6/00GK102525498SQ201110369450
公開日2012年7月4日 申請日期2011年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月18日
發(fā)明者中津川晴康, 大田恭義, 巖切直人, 成行書史, 西納直行, 野田和宏 申請人:富士膠片株式會社