專利名稱：眼底攝像方法和眼底攝像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及眼底攝像方法和眼底攝像設(shè)備。
背景技術(shù)：
近來，作為眼科攝像設(shè)備，開發(fā)了如下這樣ー種SLO (掃描激光檢眼鏡)，該SLO利用激光束ニ維地照射眼底，接收反射光并對該光進行成像。另外，作為眼科攝像設(shè)備，開發(fā)了使用低相干光干涉的攝像設(shè)備。將使用低相干光干渉的攝像設(shè)備稱為OCT(光學相干斷層成像設(shè)備)，其中特別地，該OCT的目的是用來獲得眼底或其鄰近區(qū)域的斷層圖像。開發(fā)了各種類型的OCT，包括有TD-OCT (時域OCT)和SD-OCT (譜域OCT)。近年來，眼科攝像設(shè)備的分辨率隨著照射激光的NA的增大而増大。然而，當對眼底進行攝像吋，需要通過諸如角膜和晶狀體等的眼睛的光學組織進行攝像。由于該原因，隨著分辨率的増大，角膜和晶狀體的像差變得極大影響了所拍攝圖像的圖像質(zhì)量。在該情況下，對A0(自適應光學)-SLO和A0-0CT進行了研究，其中在A0-SL0和 A0-0CT中，光學系統(tǒng)包含用于測量眼睛的像差并對其進行校正的AO功能。例如，非專利文獻 1 (Y. Zhang et al, Optics Express, Vol. 14，No. 10，15 May 2006)公開了 A0-0CT 的例子。這種A0-SL0和A0-0CT通過夏克-哈特曼(Shack-Hartmann)波前傳感器系統(tǒng)來測量眼睛的波前。夏克-哈特曼波前傳感器系統(tǒng)被設(shè)計為通過將測量光施加至眼睛并使得CCD 照相機通過微透鏡陣列接收反射光，來測量眼睛的波前。A0-SL0或A0-0CT可以通過驅(qū)動可變形鏡和空間相位調(diào)制器從而校正測量出的波前、并通過可變形鏡和空間相位調(diào)制器對眼底進行攝像，來進行高分辨率攝像。眼睛的像差的大部分是諸如近視、遠視和散光等的低階像差。然而，像差還包括由于眼睛的光學系統(tǒng)上的細微的凹凸以及淚膜的干擾而引起的高階像差。在由澤尼克 (Zernike)函數(shù)系統(tǒng)表示眼睛的像差的情況下，表示像差的澤尼克函數(shù)中的大部分是表示近視、遠視和散光的澤尼克ニ階函數(shù)。這些函數(shù)所包括的澤尼克三階函數(shù)和澤尼克四階函數(shù)較少，并且所包括的諸如澤尼克五階函數(shù)和澤尼克六階函數(shù)等的高階函數(shù)更少。通常，眼科設(shè)備中所使用的自適應光學系統(tǒng)(AO)利用諸如澤尼克函數(shù)的函數(shù)來對波前傳感器所測量出的像差進行模型化，并通過使用該函數(shù)來計算波前校正単元的校正量。將通過利用該函數(shù)對像差進行模型化而定量獲得的量稱為像差量。另外，將波前校正単元通過使用該函數(shù)對像差進行校正所利用的波前校正值稱為校正量。為了校正復雜的形狀，需要利用具有許多階的函數(shù)來對像差進行模型化、計算校正量并控制波前校正単元。然而，如果通過利用具有許多階的函數(shù)對像差進行模型化來計算校正量，計算負荷變得非常重，并且計算時間増加，由此帶來了嚴重的問題。特別地，針對眼睛的像差，由于眼淚的狀態(tài)和屈光度調(diào)節(jié)的狀態(tài)總是改變，并且針對斷層圖像的獲取需要快速重復像差校正，因而增大處理速度非常重要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮到以上問題而作出的，并且提供了一種能夠高速進行像差校正用的運算處理的眼底攝像技木。根據(jù)本發(fā)明的ー個方面，提供ー種眼底攝像設(shè)備的眼底攝像方法，所述眼底攝像設(shè)備包括像差測量單元，用于測量通過利用測量光照射被檢體所獲得的反射光的像差； 像差校正単元，用于根據(jù)所測量出的像差來校正光的像差；以及控制単元，用于對所述像差測量單元和所述像差校正単元所進行的處理進行重復控制，所述眼底攝像方法包括如下步驟改變步驟，用于根據(jù)所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果和所述控制単元所獲得的控制結(jié)果的至少之一，將表示所述像差的預定階次的第一函數(shù)改變?yōu)榘ū人鲱A定階次高的階次的第二函數(shù)；以及像差校正步驟，用于校正所述第二函數(shù)所表示的像差。根據(jù)本發(fā)明的另ー個方面，提供ー種眼底攝像設(shè)備，包括像差測量單元，用于測量通過利用測量光照射被檢體所獲得的反射光的像差；像差校正単元，用于根據(jù)所測量出的像差來校正光的像差；控制單元，用于對所述像差測量單元和所述像差校正単元所進行的處理進行重復控制；以及改變單元，用于根據(jù)所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果和所述控制単元所獲得的控制結(jié)果的至少之一，將表示所述像差的預定階次的第一函數(shù)改變?yōu)榘ū人鲱A定階次高的階次的第二函數(shù)，其中，所述像差校正単元校正由所述第二函數(shù)所表示的像差。根據(jù)本發(fā)明，可以高速進行像差校正用的運算處理。通過以下(參考附圖)對典型實施例的說明，本發(fā)明的其它特征將變得明顯。


圖1是示出根據(jù)第一實施例的基于包括自適應光學系統(tǒng)的SLO的眼底攝像設(shè)備的配置的例子的圖；圖2是示出第一實施例的波前校正裝置的例子的示意圖；圖3是示出波前校正裝置的配置的另一例子的圖；圖4A和4B是示出夏克-哈特曼波前傳感器的配置的示意圖；圖5是示出將用于測量波前的光束會聚在CCD傳感器上的狀態(tài)的示意圖；圖6是示出測量具有球面像差的波前的情況的示意圖；圖7是示出根據(jù)第一實施例的眼底攝像設(shè)備中的控制步驟的流程圖；圖8是示出根據(jù)第二實施例的眼底攝像設(shè)備中的控制步驟的流程圖；圖9是示出根據(jù)第三實施例的眼底攝像設(shè)備中的控制步驟的流程圖；圖10是示出根據(jù)第四實施例的基于包括自適應光學系統(tǒng)的SLO的眼底攝像設(shè)備的配置的例子的圖；以及圖11是示出根據(jù)第四實施例的眼底攝像設(shè)備中的控制步驟的流程圖。
具體實施例方式以下將參考附圖示例性地詳細說明本發(fā)明的各實施例。這些實施例所述的構(gòu)成元件僅是示例，并且本發(fā)明的技術(shù)范圍由所附權(quán)利要求書來限定，而并不局限于以下所述的各實施例。
第一實施例將參考圖1說明根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的眼底攝像設(shè)備的配置。注意，本實施例將舉例說明以下情況作為測量對象的被檢體是眼睛，通過自適應光學系統(tǒng)來校正眼睛中發(fā)生的像差，并對眼底進行攝像。參考圖1，該設(shè)備使用波長為840nm的SLD (超發(fā)光二極管)光源作為光源101。盡管沒有具體限制光源101的波長，但使用大約SOOnm 1，500nm的波長進行眼底攝像以減輕被檢體處的光的炫目并維持分辨率。盡管本實施例使用SLD光源，但還可以使用激光等。 盡管本實施例針對眼底攝像和波前測量使用相同的光源，但還可以使用不同的光源以構(gòu)成用于在光路的途中對光進行多路復用的配置。從光源101出射的光穿過單模光纖102，并通過準直器103被施加為平行光束(測量光105)。所施加的測量光105透過由分束器構(gòu)成的光分割単元104，并被引導至自適應光學系統(tǒng)。自適應光學系統(tǒng)包括光分割単元106、波前傳感器115、波前校正裝置108和用于將光引導至上述裝置的反射鏡107-1 107-4。本實施例使用分束器作為光分割単元106。 反射鏡107-1 107-4被配置為至少使得眼睛111的瞳孔、波前傳感器115和波前校正裝置108具有光學共軛關(guān)系。透過光分割単元106的測量光105被反射鏡107_1和107_2反射并入射至波前校正裝置108。由波前校正裝置108所反射的測量光105出射至反射鏡107-3。本實施例使用利用液晶裝置的空間相位調(diào)制器(反射型液晶光學調(diào)制器)作為波前校正裝置108。圖2 是反射型液晶光學調(diào)制器的示意圖。反射型液晶光學調(diào)制器具有使液晶分子密封在由基底部122和蓋123所限定的空間中的結(jié)構(gòu)。基底部122具有多個像素電極124，并且蓋123具有透明的對向電極(未示出)。在電極之間不存在電壓的情況下，液晶分子呈現(xiàn)如“ 125-1” 所示那樣的取向狀態(tài)。當在電極之間施加電壓吋，液晶分子轉(zhuǎn)變?yōu)槿纭?125-2”所示那樣的取向狀態(tài)，并改變相對于入射光的折射率?？梢酝ㄟ^控制各像素電極124的電壓以改變各像素的折射率，來進行空間相位調(diào)制。例如，當入射光1 入射到反射型液晶光學調(diào)制器吋， 穿過液晶分子125-2的光示出了相對于穿過液晶分子125-1的光的相位滯后。結(jié)果，形成了由圖2的虛線127所示那樣的波前。通常，反射型液晶光學調(diào)制器由幾萬 幾十萬個像素構(gòu)成。另外，反射型液晶光學調(diào)制器可以包括偏光単元，該偏光単元用于調(diào)整入射光的偏光以具有偏光特性?？梢允褂每勺冃午R作為波前校正裝置108的另一例子?？勺冃午R可以局部地改變光的反射方向?？梢允褂酶鞣N類型的可變形鏡。將可變形鏡形成為例如具有圖3所示的截面的裝置，其中該裝置包括對入射光進行反射的可變形膜狀的鏡面129、基底部128、夾持在鏡面1 和基底部1 之間的致動器130、以及從鏡面1 的周圍支撐鏡面1 的支撐部 (未示出)。致動器130的操作的原理包括使用靜電力、磁力或壓電效應。致動器130根據(jù)操作的原理在配置上有所不同。在x_y平面內(nèi)，在基底部1 上將致動器130 ニ維地配置成多個陣列。選擇性地驅(qū)動致動器130，使得可以在圖3的ζ方向上自由地使鏡面1 變形。通常，可變形鏡由幾十 幾百個致動器構(gòu)成。參考圖1，掃描光學系統(tǒng)109 —維或ニ維地掃描由反射鏡107-3和107_4所反射的光。在本實施例中，掃描光學系統(tǒng)109包括分別用于主掃描操作(眼底的水平方向)和副掃描操作(眼底的垂直方向)的兩個檢流計掃描器。針對較快的攝像操作，共振掃描器可以用于掃描光學系統(tǒng)109的主掃描操作。為了將掃描光學系統(tǒng)109中的各掃描器設(shè)置為光學共軛的狀態(tài)，掃描光學系統(tǒng)109可以具有使用諸如各掃描器之間的鏡和透鏡等的光學元件的配置。由掃描光學系統(tǒng)109進行掃描的測量光105穿過目鏡110-1和110-2，并入射至眼睛111。入射至眼睛111的測量光105由眼底進行反射或散射。調(diào)整目鏡110-1和110-2 的位置，從而可以根據(jù)眼睛111的屈光度，利用光來最佳地照射眼睛111。在該情況下，針對目鏡部使用目鏡透鏡，但也可以使用球面鏡等。由眼睛111的視網(wǎng)膜所反射或散射的光沿著入射光的路徑反向傳播。然后，光分割単元106將光的一部分反射至波前傳感器115，由此使用該光來測量光束的波前。本實施例使用夏克-哈特曼波前傳感器作為波前傳感器115。圖4A和4B是示出夏克-哈特曼波前傳感器的示意圖。附圖標記131表示穿過微透鏡陣列132并會聚在CCD 傳感器133上的焦平面134上的要測量波前的光束。圖4B是沿著圖4A中的線A-A’所截取的截面圖。微透鏡陣列132由多個微透鏡135構(gòu)成。光束131經(jīng)由各個微透鏡135而會聚在CCD傳感器133上。結(jié)果，將光束131分割成與微透鏡135的數(shù)量相對應的光斑，并進行會聚。圖5示出光如何會聚在CCD傳感器133上。將穿過各個微透鏡的光束會聚成光斑136。然后，波前傳感器根據(jù)光斑136的位置計算所施加的光束的波前。例如，圖6是示出測量具有球面像差的波前的情況的示意圖。通過由虛線137所示那樣的波前來形成光束131。微透鏡陣列132使光束131會聚在與波前局部垂直的方向上的位置處。圖6示出該情況下的CCD傳感器133的聚光狀態(tài)。由于光束131具有球面像差，因而在相對于中間部偏離的狀態(tài)下會聚成光斑136。計算該位置使得可以獲得光束131的波前。本實施例針對波前傳感器115使用夏克-哈特曼波前傳感器。然而，本發(fā)明的主旨并不局限于此。例如，可以使用諸如曲率傳感器等的其它類型的波前測量單元或者用于通過逆計算根據(jù)所形成的點圖像獲得波前的方法。返回參考圖1，透過圖1的光分割単元106的反射光由光分割単元104進行部分反射并通過準直器112和光纖113被引導至光強度傳感器114。然后，光強度傳感器114將光轉(zhuǎn)換成電信號?？刂茊卧?17將信號形成為眼底圖像并將該眼底圖像顯示在顯示單元118 上。波前傳感器115連接至自適應光學控制單元116以將所接收到的波前傳送至自適應光學控制單元116。波前校正裝置108也連接至自適應光學控制單元116以進行從自適應光學控制單元116所指示的調(diào)制。自適應光學控制單元116基于從通過波前傳感器115 獲得的測量結(jié)果所獲取到的波前，計算用于向著沒有像差的波前進行校正用的調(diào)制量(校正量)。自適應光學控制單元116基于自適應光學控制單元116所計算出的調(diào)制量(校正量)來指示波前校正裝置108進行調(diào)制。自適應光學控制單元116基于波前傳感器115對波前的測量和根據(jù)測量結(jié)果所計算出的調(diào)制量(校正量)，重復指示波前校正裝置108，由此始終進行反饋控制以獲得最佳波前。在本實施例中，自適應光學控制單元116將測量出的波前模型化為澤尼克函數(shù)，并計算應用于函數(shù)的各階的系數(shù)。然后，自適應光學控制單元116基于這些系數(shù)來計算波前校正裝置108的調(diào)制量。當計算調(diào)制量吋，自適應光學控制単元116將所有澤尼克階次的系數(shù)與允許波前校正裝置108形成各澤尼克階次的形狀的基準調(diào)制量相乗，并將所有的積相加，從而獲得最終的調(diào)制量。本實施例使用具有像素數(shù)為600X600的反射型液晶光學調(diào)制器作為波前校正裝置108，因此根據(jù)以上計算方法來計算針對360，000個像素中的各像素的調(diào)制量。當例如使用澤尼克函數(shù)的一階 四階的系數(shù)進行計算時，本實施例針對360，000個像素中的各像素，將Zl-I、Zl+1、Z2_2、Z2_0、Z2+2、 Z3-3.Z3-1、Z3+1、Z3+3.Z4-4, Z4_2、Z4_0、Z4+2 和 Z4+4 總計 14 個系數(shù)與基準調(diào)制量相乘。 當使用澤尼克函數(shù)的一階 六階的系數(shù)進行計算時，本實施例針對360，000個像素中的各像素，將 zi-l、Zl+1、Z2-2、Z2-0、Z2+2、Z3-3, Z3-1, Z3+1、Z3+3, Z4-4、Z4-2、Z4-0、Z4+2、 Z4+4、Z5-5、Z5-3、Z5-1、Z5+1、Z5+3、Z5+5、Z6-6、Z6-4、Z6-2、Z6-0、Z6+2、Z6+4 和 Z6+6 總計 27個系數(shù)與基準調(diào)制量相乗。由于被檢眼包括在光學系統(tǒng)的一部分中，因而光學系統(tǒng)的狀態(tài)不確定。由于該原因，通常難以通過一次像差測量和校正來達到具有低像差的波前。因此，重復像差測量和校正以將像差校正為允許進行攝像操作的程度。如上所述，眼睛的像差的大多數(shù)是低階像差。由于該原因，本實施例通過在開始校正時使用澤尼克函數(shù)的一階 四階的低階系數(shù)來高速進行像差校正反饋(第一像差校正反饋)。在像差校正的中途，本實施例通過使用澤尼克函數(shù)的一階 六階的高階系數(shù)來進行更精確的像差校正反饋(第二像差校正反饋)。進行這種控制使得可以以相對高的速度進行直到達到低的像差狀態(tài)為止的像差校正。這可以縮短開始攝像操作的時間。將參考圖7的流程圖來說明根據(jù)本實施例的眼底攝像設(shè)備中的處理。在步驟SlOl 中，眼底攝像設(shè)備開始控制操作。在步驟S102中，該設(shè)備設(shè)置直到N階(N是自然數(shù)(以下類同))的系數(shù)以通過作為多項式函數(shù)的澤尼克函數(shù)來表示像差。在本實施例中，該設(shè)備將要用于像差校正的澤尼克函數(shù)的系數(shù)設(shè)置為ー階 四階的低階系數(shù)。然后，該設(shè)備執(zhí)行 (以下要進行說明的)步驟S103 步驟S109的自適應光學系統(tǒng)的基本過程。以下是自適應光學系統(tǒng)的基本過程的概述。在步驟S103中，波前傳感器115測量像差。在步驟S108 中，自適應光學控制單元116基于測量結(jié)果來計算校正量。在步驟S109中，該設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下重復驅(qū)動波前校正裝置108。接著將說明自適應光學系統(tǒng)的各步驟的內(nèi)容。在步驟S103中，波前傳感器115測量像差并獲得像差量。在本實施例中，像差量表示從所獲得的像差中獲得的波前擾動的總量。然而，該量還可以表示例如相對于基準波前(平坦波前)的總偏移量。在步驟S104(第一判斷步驟)中，自適應光學控制單元116判斷步驟S103中獲得的像差量是否小于預定的第一基準值(基準1)。第一基準值(基準1)可以是眼底攝像設(shè)備固有的值，或者可以由操作者設(shè)置。如果像差量小于第一基準值(基準1)(步驟S104中為“是”)，則處理進入步驟 S110。如果像差量等于或大于第一基準值(基準1)(步驟S104中為“否”)，則處理進入步驟S105以執(zhí)行步驟S105和隨后步驟中的處理。在步驟S105(第二判斷步驟)中，自適應光學控制單元116從已測量出的像差量 (例如，之前測量出的像差量)和通過當前測量獲得的像差量之間的差來獲得像差量的變化。然后，自適應光學控制單元116判斷像差量的變化是否小于第二基準值(基準幻?？梢岳缡褂帽硎厩耙幌癫盍亢彤斍跋癫盍恐g的差的變化率的值或操作者預先確定出的值作為第二基準值(基準2)。如果像差量的變化小于第二基準值(基準2)(步驟S105中為“是”)，則自適應光學控制單元116判斷為利用當前所使用的階次的系數(shù)很可能無法進行充分的校正。因此，處理進入步驟S107。在步驟S107中，自適應光學控制單元116根據(jù)測量出的像差量和校正后測量出的像差量之間的變化，將N階多項式函數(shù)改變?yōu)榘ū萅階高的階次的M階(M是滿足關(guān)系M>N的自然數(shù)(以下類同))函數(shù)。自適應光學控制單元116將要用于像差校正的澤尼克函數(shù)的系數(shù)設(shè)置為包括一階 六階的高階次的函數(shù)的系數(shù)。然后，處理返回至步驟S103。本實施例舉例說明了將ー階 六階的系數(shù)設(shè)置為高階系數(shù)。然而，如果將ー階 四階的系數(shù)設(shè)置為低階系數(shù)，則高階系數(shù)不限于一階 六階的系數(shù)。例如，可以設(shè)置包括一階 四階的系數(shù)的一階 五階的系數(shù)或者一階 六階的系數(shù)。另外，六階系數(shù)并不被限制為上限系數(shù)，并且要使用的系數(shù)可以包括更高階的系數(shù)。在步驟S103和隨后的步驟中，自適應光學控制單元116通過使用包括之前執(zhí)行的步驟S107中所設(shè)置的高階系數(shù)的函數(shù)來進行相同的像差校正處理。如果自適應光學控制單元116在步驟S105中判斷為像差量的變化等于或大于第 ニ基準值(基準2)(步驟S105中為“否”)，則該單元判斷為與包括當前使用的階次的函數(shù)相對應的像差校正是充分的。因此，自適應光學控制單元116使處理進入步驟S106以在不改變當前所使用的階次的系數(shù)的情況下繼續(xù)進行校正。在步驟S106(第三判斷步驟)中，自適應光學控制單元116判斷從開始像差校正起的校正控制的重復次數(shù)是否超過第三基準值(基準；3)。如果重復次數(shù)超過第三基準值 (基準幻(步驟S106中為“是”)，則自適應光學控制單元116使處理進入步驟S107。在步驟S107中，自適應光學控制單元116根據(jù)波前傳感器115所獲得的測量結(jié)果，將具有預定階次的函數(shù)(第一函數(shù))改變?yōu)榘ū阮A定階次高的階次的函數(shù)(第二函數(shù))。在該情況下，波前傳感器115所獲得的測量結(jié)果包括以下的至少之ー波前傳感器115所測量出的像差量；從已測量出的像差量和波前傳感器115所測量出的像差量之間的差所獲得的像差量的變化。自適應光學控制單元116將要使用的澤尼克函數(shù)的系數(shù)例如改變?yōu)殡A次包括高階即ー階 六階的函數(shù)的系數(shù)，并使處理返回至步驟S103。盡管以上說明舉例說明了步驟 S106中自適應光學控制單元116使用校正控制的重復次數(shù)作為第三基準所獲得的控制結(jié)果，但本發(fā)明的主旨并不局限于此。例如，可以通過使用表示從開始校正控制處理起所經(jīng)過的時間的重復時間作為第三基準來獲得控制結(jié)果。自適應光學控制單元116包括能夠測量從開始處理起所經(jīng)過的時間的計時單元(例如，計時器)，并判斷從開始校正控制處理起是否經(jīng)過了預定重復時間(S106)。在從開始處理起經(jīng)過了預定重復時間之后(步驟S106中為“是”)，處理進入步驟S107。在步驟S107中，自適應光學控制單元116根據(jù)波前傳感器 115所獲得的測量結(jié)果，執(zhí)行用于將具有預定階次的函數(shù)(第一函數(shù))改變?yōu)榘ū阮A定階次高的階次的函數(shù)(第二函數(shù))的處理。如果自適應光學控制單元116在步驟S106中判斷為從開始像差校正起的校正控制的重復次數(shù)等于或小于第三基準值(基準3)(步驟S106中為“否”)，則處理進入步驟 S108。在步驟S108中，自適應光學控制單元116計算用于校正由改變后的函數(shù)所表示的像差的校正量。在步驟S109中，該設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下驅(qū)動波前校正裝置108，并執(zhí)行用于校正由改變后的函數(shù)所表示的像差的校正處理。然后，處理返回至步驟S103。該設(shè)備重復步驟S103 步驟S109的處理，直到自適應光學控制單元116在步驟 S104中判斷為像差量小于第一基準值(基準1)為止。在步驟SllO中，眼底攝像設(shè)備對眼睛的眼底進行攝像，并在步驟Slll中判斷是否終止處理。如果沒有輸入終止請求(步驟Slll中為“否”)，則處理返回至步驟S103以進行步驟S103 步驟S109的自適應光學系統(tǒng)中的處理并在步驟SllO中進行攝像。在圖7所示的眼底攝像設(shè)備的控制操作的例子中，該設(shè)備順次進行用于攝像的處理和用于像差校正的處理。然而，還可以并行進行這兩個處理。如果設(shè)備在步驟Slll中確認了終止請求(步驟Slll中為“是”)，則在步驟S112中，設(shè)備終止控制操作。在像差校正處理中，由于調(diào)制量(校正量)的計算時間占據(jù)總處理時間的比率非常高，因而計算量的減少在使處理速度加快方面是非常有效的。通過使用澤尼克函數(shù)的一階 四階的系數(shù)計算調(diào)制量所花費的時間與通過使用澤尼克函數(shù)的ー階 六階的系數(shù)計算調(diào)制量所花費的時間相差了幾乎兩倍。如本實施例那樣在開始校正時通過使用澤尼克函數(shù)的一階 四階的系數(shù)進行校正將極大地使處理的速度加快。如果所測量出的像差的大部分是與澤尼克函數(shù)的一階 四階相對應的像差，則可以通過使用澤尼克函數(shù)的ー階 四階的系數(shù)來充分地校正像差。因此，處理從步驟S104進入步驟SllO以允許快速開始攝像。如果通過使用澤尼克函數(shù)的一階 四階的系數(shù)無法進行充分的校正，則該設(shè)備通過使用包括澤尼克函數(shù)的高階的階次的系數(shù)來僅對未能校正的殘余像差進行處理，因此可以以少的校正次數(shù)實現(xiàn)攝像的就緒狀態(tài)。進行這種處理，從而使得與從開始處理起使用包括高階系數(shù)的系數(shù)的重復控制相比，可以更快速地達到允許進行攝像的像差狀態(tài)。本實施例使用澤尼克函數(shù)來對像差進行模型化。然而，同樣應用于設(shè)備使用其它函數(shù)系統(tǒng)的情況。本實施例允許根據(jù)校正狀態(tài)使用適當?shù)男Ｕ椒?，因此可以使像差校正處理的速度加快并實現(xiàn)高速攝像。第二實施例將參考圖8的流程圖來說明根據(jù)第二實施例的眼底攝像設(shè)備中的處理。基本設(shè)備配置與第一實施例相同。本實施例的特征為通過使用與被檢眼的像差中的較大像差相對應的系數(shù)作為像差校正中的支配系數(shù)來進行像差校正。在步驟S201中，眼底攝像設(shè)備開始控制操作。在步驟S213中，設(shè)備測量校正之前的像差。自適應光學控制單元116通過使用澤尼克函數(shù)的一階 六階來對測量出的像差進行模型化，并檢查模型化后的項(階次)中具有大的系數(shù)的項(階次)。在步驟S202中，設(shè)備將步驟S213中檢查到的具有大的值的項(階次)的系數(shù)設(shè)置為要用于校正控制的系數(shù)。然后，設(shè)備執(zhí)行自適應光學系統(tǒng)中的基本過程。以下是自適應光學系統(tǒng)中的基本過程的概述。在步驟S203中，波前傳感器115測量像差。在步驟S208中，自適應光學控制單元116基于測量結(jié)果來計算校正量。在步驟 S209中，設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下重復驅(qū)動波前校正裝置108。接著將說明自適應光學系統(tǒng)的各步驟的內(nèi)容。在步驟S203中，波前傳感器115測量像差并獲得像差里。在步驟S204中，自適應光學控制單元116判斷步驟S203中獲得的像差量是否小于預定的第一基準值(基準1)。第一基準值(基準1)可以是眼底攝像設(shè)備固有的值，或者可以由操作者設(shè)置。如果像差量小于第一基準值(基準1)(步驟S204中為“是”)，則處理進入步驟S210。如果像差量等于或大于第一基準值(基準1)(步驟S204中為“否”)，則處理進入步驟S205以執(zhí)行步驟S205和隨后步驟中的處理。之后，在步驟S205中，自適應光學控制單元116判斷像差量的變化是否超過第二基準值(基準2)。如果像差量的變化小于第二基準值(基準2)(步驟S205中為“是”)，則自適應光學控制單元116判斷為利用當前使用的階次的系數(shù)很可能無法進行充分的校正。因此，處理進入步驟S207。在步驟S207中，自適應光學控制單元116將要使用的澤尼克函數(shù)的系數(shù)改變?yōu)榫哂幸浑A 六階的高階次的函數(shù)(具有高階校正系數(shù)的函數(shù))的系數(shù)，并使處理返回至步驟S203。在步驟S203和隨后的步驟中，自適應光學控制單元116通過使用步驟S207中改變后的具有高階次的函數(shù)來進行相同的像差校正處理。如果自適應光學控制單元116在步驟S205中判斷為像差量的變化等于或大于第 ニ基準值(基準2)(步驟S205中為“否”)，則該單元判斷為與當前使用的函數(shù)的系數(shù)相對應的像差校正是充分的。因此，自適應光學控制單元116使處理進入步驟S206以在不改變當前使用的階次的系數(shù)的情況下繼續(xù)進行校正。在步驟S206中，自適應光學控制單元116判斷從開始像差校正起的校正控制的重復次數(shù)是否超過第三基準值(基準；3)。在該情況下，第三基準值(基準；3)是預定常數(shù) N (N是等于或大于2的自然數(shù))。如果重復次數(shù)超過第三基準值(基準3)(步驟S206中為 “是”)，則自適應光學控制單元116使處理進入步驟S207。在步驟S207中，自適應光學控制単元116將要使用的澤尼克函數(shù)的系數(shù)改變?yōu)殡A次包括高階即ー階 六階的系數(shù)(高階校正系數(shù))，并使處理返回至步驟S203。如果自適應光學控制單元116在步驟S206中判斷為從開始像差校正起的校正控制的重復次數(shù)等于或小于第三基準值(基準3)(步驟S206中為“否”)，則處理進入步驟 S208。在步驟S208中，自適應光學控制單元116計算校正量。在步驟S209中，該設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下驅(qū)動波前校正裝置108。然后，處理返回至步驟S203。設(shè)備重復步驟S203 步驟S209的處理，直到自適應光學控制單元116在步驟S204中判斷為像差量小于第一基準值(基準1)為止。眼底攝像設(shè)備在步驟S210中對眼睛的眼底進行攝像，并在步驟S211中判斷是否終止處理。如果沒有輸入終止請求(步驟S211中為“否”)，則處理返回至步驟S203以進行步驟S203 步驟S209的自適應光學系統(tǒng)中的處理并在步驟S210中進行攝像。在圖8所示的眼底攝像設(shè)備的控制操作的例子中，該設(shè)備順次進行用于攝像的處理和用于像差校正的處理。然而，還可以并行進行這兩個處理。如果設(shè)備在步驟S211中確認了終止請求(步驟S211中為“是”)，則設(shè)備在步驟S212中終止控制操作。將開始校正時要校正的階次限制為像差較大的部分，這使得可以極大地使處理的速度加快。由于像差較大的階次是校正對象，因而通過校正這些階次來達到允許進行攝像的像差狀態(tài)的可能性極高。這使得可以快速開始攝像。即使無法利用初始設(shè)置來校正像差， 但由于設(shè)備僅校正未能校正的殘余像差，因而與從開始處理起使用包括高階次的階次的系數(shù)的重復控制相比，可以更快速地達到允許進行攝像的像差狀態(tài)。本實施例使用澤尼克函數(shù)來對像差進行模型化。同樣應用于設(shè)備使用其它函數(shù)系統(tǒng)的情況。本實施例允許根據(jù)被檢眼的像差狀態(tài)來使用適當?shù)男Ｕ椒?，因此可以使像差校正處理的速度加快并實現(xiàn)高速攝像。第三實施例將參考圖9的流程圖來說明根據(jù)第三實施例的眼底攝像設(shè)備中的處理?；驹O(shè)備配置與第一實施例相同。本實施例的特征為使校正控制的速度加快，以在用于在直到允許進行眼底攝像的像差為止的校正完成之后維持低像差狀態(tài)的配置中提高維持精度。在步驟S301中，眼底攝像設(shè)備開始控制操作。在步驟S302中，設(shè)備設(shè)置直到N階為止的系數(shù)以利用作為多項式函數(shù)的澤尼克函數(shù)來表示像差。在本實施例中，設(shè)備將要用于像差校正的澤尼克函數(shù)的系數(shù)設(shè)置為ー階 四階的低階系數(shù)。然后，設(shè)備執(zhí)行(將在以下進行說明的)步驟S303 步驟S309的自適應光學系統(tǒng)中的基本過程。以下是自適應光學系統(tǒng)中的基本過程的概述。在步驟S303中，波前傳感器115測量像差。在步驟S308中， 自適應光學控制單元116基于測量結(jié)果來計算校正量。在步驟S309中，設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下重復驅(qū)動波前校正裝置108。接著將說明自適應光學系統(tǒng)的各步驟的內(nèi)容。在步驟S303中，波前傳感器115測
量像差并獲得像差量。在步驟S304中，自適應光學控制單元116判斷步驟S303中獲得的像差量是否小于預定的第一基準值(基準1)。第一基準值(基準1)可以是眼底攝像設(shè)備固有的值或者可以由操作者來設(shè)置。如果像差量小于第一基準值(基準1)(步驟S304中為“是”)，則處理進入步驟S310。如果像差量等于或大于第一基準值(基準1)(步驟S304中為“否”)，則處理進入步驟S305以執(zhí)行步驟S305和隨后步驟中的處理。如第一實施例的步驟S105和 S106中的處理那樣，自適應光學控制單元116在步驟S305和S306中判斷像差量的變化率和重復次數(shù)。然后，自適應光學控制單元116將各值與相應的基準值進行比較。如果它們相互一致(步驟S305中為“是”以及步驟S306中為“是”)，則處理進入步驟S307。在步驟 S307中，自適應光學控制單元116根據(jù)所測量出的像差量和校正之后測量出的像差量之間的變化，將N階(N是自然數(shù))函數(shù)改變?yōu)榘ū萅階高的階次的M階(M是滿足關(guān)系M> N的自然數(shù))函數(shù)。自適應光學控制單元116將要使用的澤尼克函數(shù)的系數(shù)設(shè)置為包括一階 六階的高階函數(shù)的系數(shù)。然后，處理返回至步驟S303。本實施例舉例說明了將ー階 六階的系數(shù)設(shè)置為高階系數(shù)。然而，如果將ー階 四階的系數(shù)設(shè)置為低階系數(shù)，則高階系數(shù)不限于一階 六階的系數(shù)。例如，可以設(shè)置包括一階 四階的系數(shù)的一階 五階的系數(shù)或者一階 六階的系數(shù)。另外，六階系數(shù)并不被限制為上限系數(shù)，并且要使用的系數(shù)可以包括更高階的系數(shù)。如果自適應光學控制單元116在步驟S305和S306中與各基準值進行比較時判斷為各值與所設(shè)置的條件不一致(步驟S305中為“否”并且步驟S306中為“否”)，則處理進入步驟S308。在步驟S308中，自適應光學控制單元116計算校正量。在步驟S309中，設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下驅(qū)動波前校正裝置108。然后，處理返回至步驟S303。 設(shè)備重復步驟S303 步驟S309的處理，直到自適應光學控制單元116在步驟S304中判斷為像差量小于第一基準值(基準1)為止。眼底攝像設(shè)備在步驟S310中對眼睛的眼底進行攝像，并在步驟S311中判斷是否終止處理。如果設(shè)備在步驟S311中確認了終止請求(步驟S311中為“是”)，則設(shè)備在步驟S312中終止控制操作。如果自適應光學控制單元116在步驟S311中判斷為沒有輸入終止請求(步驟 S311中為“否”)，則處理進入步驟S314。在步驟S314中，自適應光學控制單元116選擇呈現(xiàn)出相對于測量出的像差存在大的變化(波動)的階次的系數(shù)，并將該階次的系數(shù)設(shè)置為要用于校正的系數(shù)?？梢赃x擇呈現(xiàn)大的波動量的任意數(shù)量的系數(shù)或與至少預定波動量相對應的階次的系數(shù)作為要用于校正的系數(shù)。在測量例如散瞳后的眼睛時，由于眼睛的折射調(diào)整總是波動，因而需要跟蹤該折射狀態(tài)以進行具有高的圖像質(zhì)量的攝像。在該情況下，由于低階像差極大地波動，因而使用低階系數(shù)進行像差校正提高了跟蹤性能。已知高階像差根據(jù)淚液的狀態(tài)而波動。因此，如果高階像差極大地波動，則可以通過使用高階系數(shù)來進行像差校正。在設(shè)置系數(shù)之后，設(shè)備在步驟S303和隨后的步驟中進行自適應光學系統(tǒng)的基本處理，然后在步驟S310中進行接下來的攝像操作。在圖9所示的眼底攝像設(shè)備的控制操作的例子中，設(shè)備順次進行用于攝像的處理和用于像差校正的處理。然而，可以并行地進行這兩個處理。本實施例提高了連續(xù)攝像操作時的像差校正的跟蹤性能，因此可以在短時間內(nèi)拍攝多個高質(zhì)量圖像。第四實施例將參考圖10來說明根據(jù)第四實施例的眼底攝像設(shè)備的配置。圖10所示的基本配置與第一實施例的眼底攝像設(shè)備的配置相同，并且相同的附圖標記表示相同的構(gòu)成元件。在根據(jù)第四實施例的眼底攝像設(shè)備中，波前校正裝置108由第一波前校正裝置108-1和第二波前校正裝置108-2構(gòu)成。眼底攝像設(shè)備包括用于將第一波前校正裝置108-1與第二波前校正裝置108-2光學耦合的反射鏡107-5和107-6。在該情況下，第一波前校正裝置108-1被設(shè)計為主要校正低階像差。例如，包括少量元件的可變形鏡適于用作該裝置。第二波前校正裝置108-2被設(shè)計為校正包括高階像差的像差。包括大量元件的可變形鏡或使用液晶裝置的空間相位調(diào)制器(反射型液晶光學調(diào)制器)適于用作該裝置。自適應光學控制單元116重復控制波前傳感器115和第一波前校正裝置108-1所進行的處理或者波前傳感器115以及第一和第二波前校正裝置108-1和108-2所進行的處理。將參考圖11的流程圖來說明根據(jù)第四實施例的眼底攝像設(shè)備中的處理。在步驟S401中，眼底攝像設(shè)備開始控制操作。在步驟S402中，設(shè)備設(shè)置直到N階(N是自然數(shù))為止的系數(shù)以利用作為多項式函數(shù)的澤尼克函數(shù)來表示像差。在本實施例中，設(shè)備將要用于像差校正的澤尼克系數(shù)設(shè)置為一階和二階的系數(shù)。然后，設(shè)備執(zhí)行(將在以下進行說明的)步驟S403 S409的自適應光學系統(tǒng)中的基本過程。以下是自適應光學系統(tǒng)中的基本過程的概述。在步驟S403中，波前傳感器115測量像差。在步驟S408(第一計算步驟)中，自適應光學控制單元116基于測量結(jié)果來計算第一波前校正裝置108-1的校正量。注意，在步驟S408中，自適應光學控制單元116不計算第二波前校正裝置108-2的校正量。將計算校正量的對象限制為第一波前校正裝置108-1，這使得可以減少計算量并極大地使處理速度加快。在步驟S409中，設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下重復驅(qū)動第一波前校正裝置108-1。接著將說明自適應光學系統(tǒng)的各步驟的內(nèi)容。在步驟S403中，波前傳感器115測量像差并獲得像差量。在步驟S404中，自適應光學控制單元116判斷步驟S403中獲得的像差量是否小于預定的第一基準值(基準1)。第一基準值(基準1)可以是眼底攝像設(shè)備固有的值或者可以由操作者來設(shè)置。如果像差量小于第一基準值(基準1)(步驟S404中為“是”)，則處理進入步驟S410。如果像差量等于或大于第一基準值(基準1)(步驟S404中為“否”)，則處理進入步驟S405以執(zhí)行步驟S405和隨后步驟中的處理。如第一實施例的步驟S105和S106中的處理那樣，自適應光學控制單元116在步驟S405和S406中判斷像差量的變化率和重復次數(shù)。然后，自適應光學控制單元116將各值與相應的基準值進行比較。如果它們相互一致(步驟S405中為“是”以及步驟S406中為“是”)，則處理進入步驟S407。在步驟S407中，自適應光學控制單元116根據(jù)所測量出的像差量和校正之后測量出的像差量之間的變化，將N階(N是自然數(shù))函數(shù)改變?yōu)榘ū萅階高的階次的M階(M是滿足關(guān)系M > N的自然數(shù))函數(shù)。自適應光學控制單元116將要使用的澤尼克函數(shù)的系數(shù)設(shè)置為包括一階 六階的高階函數(shù)的系數(shù)。本實施例舉例說明了將一階 六階的系數(shù)設(shè)置為高階系數(shù)。然而，如果將一階和二階的系數(shù)設(shè)置為低階系數(shù)，則高階系數(shù)不限于一階 六階的系數(shù)。例如，可以設(shè)置包括一階和二階的系數(shù)的一階 三階的系數(shù)、一階 四階的系數(shù)以及一階 五階或一階 六階的系數(shù)。另外，六階系數(shù)并不被限制為上限系數(shù)，并且要使用的系數(shù)可以包括更高階的系數(shù)。作為高階的M階通常不需要包括作為低階的N階的所有系數(shù)。如果例如將一階和二階的系數(shù)設(shè)置為N階的系數(shù)，則可以通過以包括作為N階系數(shù)的一部分的二階系數(shù)以及比N階高的階次(例如，三階和四階)的系數(shù)的方式設(shè)置系數(shù)，來定義表示像差的函數(shù)的系數(shù)。如果自適應光學控制單元116在步驟S405和S406中與各基準值進行比較時判斷為各值與所設(shè)置的條件不一致(步驟S405中為“否”并且步驟S406中為“否”)，則自適應光學控制單元116判斷為不改變由具有預定階次(例如，N階)的多項式所表示的函數(shù)(第
一函數(shù))。處理進入步驟S408。在步驟S408(第三計算步驟)中，自適應光學控制單元116計算第一波前校正裝置108-1的校正量。在步驟S409(第三像差校正步驟)中，設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下驅(qū)動第一波前校正裝置108-1以基于步驟S408中計算出的校正量來校正預定階次(例如，N階)的像差。然后，處理返回至步驟S403。設(shè)備重復步驟S403 步驟S409的處理，直到自適應光學控制單元116在步驟S404中判斷為像差量小于第一基準值(基準1)為止。眼底攝像設(shè)備在步驟S410中對眼睛的眼底進行攝像，并在步驟S412中終止處理。如第一實施例中的步驟Slll中那樣，設(shè)備可以在步驟S412之前檢查攝像是否終止，并進行連續(xù)攝像。在步驟S407中，在改變澤尼克系數(shù)時，設(shè)備將要使用的函數(shù)改變?yōu)榘ū群瘮?shù)(第一函數(shù))的預定階次(例如，N階)高的階次(例如，M階(M是滿足關(guān)系M > N的自然數(shù)))的函數(shù)(第二函數(shù))。然后，處理進入步驟S415。盡管步驟S415 步驟S420的處理與上述自適應光學系統(tǒng)中的基本過程相同，但二者的不同之處在于第一波前校正裝置108-1和第二波前校正裝置108-2均是波前校正用的對象。在步驟S415中，波前傳感器115測量像差并獲得像差量。在步驟S416中，自適應光學控制單元116判斷步驟S415中獲得的像差量是否小于預定的第一基準值(基準1)。如果像差量小于第一基準值(基準1)(步驟S416中為“是”)，則處理進入步驟S410。在步驟S410中對眼底進行攝像之后，設(shè)備在步驟S412中終止處理。如果設(shè)備在步驟S416中判斷為像差量等于或大于第一基準值(基準1)(步驟S416中為“否”)，則處理進入步驟S417以執(zhí)行步驟S417和隨后步驟中的處理。在步驟S417 (第一計算步驟)中，設(shè)備通過具有比預定階次高的階次的系數(shù)的函數(shù)來表示所測量出的像差。然后，自適應光學控制單元116計算第一波前校正裝置108-1 (第一像差校正單元)對函數(shù)所表示的像差進行預定階次的像差校正所利用的校正量。由于第一波前校正裝置108-1僅校正低階像差，因而自適應光學控制單元116在步驟S417中僅計算針對步驟S415中測量出的像差中的低階像差的校正量。在步驟S418(第二計算步驟)中，設(shè)備通過具有比預定階次高的階次的系數(shù)的函數(shù)來表示所測量出的像差。自適應光學控制單元116計算第二波前校正裝置108-2 (第二像差校正單元)對函數(shù)所表示的像差進行比預定階次高的階次的像差校正所利用的校正量。由于第二波前校正裝置108-2僅校正高階像差，因而自適應光學控制單元116在步驟S418中僅計算針對步驟S415中測量出的像差中的高階像差的校正量。在步驟S419(第一像差校正步驟)中，設(shè)備在自適應光學控制單元116的控制下驅(qū)動第一波前校正裝置108-1以對由包括改變后的高階次的系數(shù)的函數(shù)所表示的像差中預定階次的像差進行校正。在步驟S420(第二像差校正步驟)中，設(shè)備驅(qū)動第二波前校正裝置108-2，以對由包括改變后的高階次的系數(shù)的函數(shù)所表示的像差中具有比預定階次高的階次的像差進行校正。在步驟S415和隨后步驟中的處理中，設(shè)備被配置為同時控制兩個波前校正裝置。然而，設(shè)備可以被配置為在步驟S415和隨后步驟中通過僅使用第二波前校正裝置來進行像差校正。在該情況下，在步驟S408和S409中，第二波前校正裝置對包括未能由第一波前校正裝置充分校正的低階和高階像差的像差進行校正。根據(jù)本實施例，可以有效控制多個波前校正裝置并快速拍攝高質(zhì)量圖像。其它實施例還可以利用讀出并執(zhí)行記錄在存儲器裝置上的程序以進行上述實施例的功能的系統(tǒng)或設(shè)備的計算機(或者CPU或MPU等裝置)和通過下面的方法來實現(xiàn)本發(fā)明的各方面，其中，系統(tǒng)或設(shè)備的計算機通過例如讀出并執(zhí)行記錄在存儲器裝置上的程序以進行上述實施例的功能來進行上述方法的各步驟。由于該目的，例如經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)或者通過用作存儲器裝置的各種類型的記錄介質(zhì)(例如，計算機可讀介質(zhì))將該程序提供給計算機。盡管已經(jīng)參考典型實施例說明了本發(fā)明，但是應該理解，本發(fā)明不限于所公開的典型實施例。所附權(quán)利要求書的范圍符合最寬的解釋，以包含所有這類修改、等同結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
1.ー種眼底攝像設(shè)備的眼底攝像方法，所述眼底攝像設(shè)備包括像差測量單元，用于測量通過利用測量光照射被檢體所獲得的反射光的像差；像差校正単元，用于根據(jù)所測量出的像差來校正光的像差；以及控制単元，用于對所述像差測量單元和所述像差校正単元所進行的處理進行重復控制，所述眼底攝像方法包括如下步驟改變步驟，用于根據(jù)所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果和所述控制単元所獲得的控制結(jié)果的至少之一，將表示所述像差的預定階次的第一函數(shù)改變?yōu)榘ū人鲱A定階次高的階次的第二函數(shù)；以及像差校正步驟，用于校正所述第二函數(shù)所表示的像差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的眼底攝像方法，其特征在干，所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果包括以下內(nèi)容的至少之ー所測量出的像差量；以及從之前測量出的像差量和所測量出的像差量之間的差所獲得的像差量的變化，以及所述控制単元所獲得的控制結(jié)果是以下內(nèi)容的其中之一所述處理的重復次數(shù)；以及表示從開始所述處理起所經(jīng)過的時間的重復時間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的眼底攝像方法，其特征在于，還包括第一判斷步驟，用于判斷所述像差測量單元所測量出的反射光的像差量是否小于第一基準值；以及第二判斷步驟，用于在所述像差量不小于所述第一基準值時，判斷所述像差量的變化是否小于第二基準值，其中，如果判斷為所述像差量的變化小于所述第二基準值，則在所述改變步驟中將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的眼底攝像方法，其特征在于，還包括第三判斷步驟，所述第三判斷步驟用于在所述像差量的變化不小于所述第二基準值時，判斷所述像差校正単元所進行的處理的重復次數(shù)是否超過第三基準值，其中，如果判斷為所述像差校正単元所進行的處理的重復次數(shù)超過所述第三基準值， 則在所述改變步驟中將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的眼底攝像方法，其特征在干，在將所述處理重復了預定重復次數(shù)或者從開始所述處理起經(jīng)過了預定重復時間之后，在所述改變步驟中，根據(jù)所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果，將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的眼底攝像方法，其特征在于，還包括計算步驟，所述計算步驟用于計算用于校正所述改變步驟中改變后的函數(shù)所表示的像差的校正量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的眼底攝像方法，其特征在干，所述像差校正単元包括第一像差校正単元和第二像差校正単元，所述控制單元對以下處理的其中之ー進行重復控制所述像差測量單元和所述第一像差校正単元所進行的處理；以及所述像差測量單元、所述第一像差校正単元和所述第二像差校正単元所進行的處理，所述改變步驟包括判斷步驟，所述判斷步驟用于根據(jù)所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果和所述控制単元所獲得的控制結(jié)果的至少之一，判斷是否將表示所述像差的所述預定階次的所述第一函數(shù)改變?yōu)榘ū人鲱A定階次高的階次的所述第二函數(shù)，所述像差校正步驟包括以下步驟第一像差校正步驟，用于如果在所述判斷步驟中判斷為將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅?ニ函數(shù)，則使所述第一像差校正單元對由所述改變步驟中改變后的所述第二函數(shù)所表示的像差中具有所述預定階次的像差進行校正；第二像差校正步驟，用于如果在所述判斷步驟中判斷為將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅?ニ函數(shù)，則使所述第二像差校正單元對由所述改變步驟中改變后的所述第二函數(shù)所表示的像差中具有比所述預定階次高的階次的像差進行校正；以及第三像差校正步驟，用于如果在所述判斷步驟中判斷為不將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)，則使用于校正所述預定階次的像差的所述第一像差校正單元對由所述預定階次的所述第一函數(shù)所表示的像差進行校正。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的眼底攝像方法，其特征在干，所述第一像差校正步驟包括第 ー計算步驟，所述第一計算步驟用于計算所述第一像差校正單元對由所述改變步驟中改變后的所述第二函數(shù)所表示的像差進行校正所利用的校正量，所述第二像差校正步驟包括第二計算步驟，所述第二計算步驟用于計算所述第二像差校正單元對由所述改變步驟中改變后的所述第二函數(shù)所表示的像差進行校正所利用的校正量，以及所述第三像差校正步驟包括第三計算步驟，所述第三計算步驟用于計算所述第一像差校正單元對由所述預定階次的所述第一函數(shù)所表示的像差進行校正所利用的校正量。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的眼底攝像方法，其特征在干，所述第一函數(shù)和所述第二函數(shù)是澤尼克函數(shù)。
10.ー種眼底攝像設(shè)備，包括像差測量單元，用于測量通過利用測量光照射被檢體所獲得的反射光的像差；像差校正単元，用于根據(jù)所測量出的像差來校正光的像差；控制單元，用于對所述像差測量單元和所述像差校正単元所進行的處理進行重復控制；以及改變單元，用于根據(jù)所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果和所述控制単元所獲得的控制結(jié)果的至少之一，將表示所述像差的預定階次的第一函數(shù)改變?yōu)榘ū人鲱A定階次高的階次的第二函數(shù)，其中，所述像差校正単元校正由所述第二函數(shù)所表示的像差。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的眼底攝像設(shè)備，其特征在干，所述像差測量單元所獲得的測量結(jié)果包括以下內(nèi)容的至少之ー所測量出的像差量；以及從之前測量出的像差量和所測量出的像差量之間的差所獲得的像差量的變化，以及所述控制単元所獲得的控制結(jié)果是以下內(nèi)容的其中之一所述處理的重復次數(shù)；以及表示從開始所述處理起所經(jīng)過的時間的重復時間。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的眼底攝像設(shè)備，其特征在于，還包括第一判斷単元，用于判斷所述像差測量單元所測量出的反射光的像差量是否小于第一基準值；以及第二判斷単元，用于在所述像差量不小于所述第一基準值時，判斷所述像差量的變化是否小于第二基準值，其中，如果判斷為所述像差量的變化小于所述第二基準值，則所述改變単元將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的眼底攝像設(shè)備，其特征在于，還包括第三判斷単元，所述第三判斷単元用于在所述像差量的變化不小于所述第二基準值時，判斷所述像差校正単元所進行的處理的重復次數(shù)是否超過第三基準值，其中，如果判斷為所述像差校正単元所進行的處理的重復次數(shù)超過所述第三基準值， 則所述改變單元將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的眼底攝像設(shè)備，其特征在干，在將所述處理重復了預定重復次數(shù)或者從開始所述處理起經(jīng)過了預定重復時間之后，所述改變単元根據(jù)所述像差測量単元所獲得的測量結(jié)果，將所述第一函數(shù)改變?yōu)樗龅诙瘮?shù)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種眼底攝像方法和眼底攝像設(shè)備。該眼底攝像設(shè)備包括像差測量單元，用于測量通過利用測量光照射被檢體所獲得的反射光的像差；像差校正單元，用于根據(jù)測量出的像差來校正光的像差；控制單元，用于對像差測量單元和像差校正單元所進行的處理進行重復控制；以及改變單元，用于根據(jù)像差測量單元所獲得的測量結(jié)果和控制單元所獲得的控制結(jié)果的至少之一，將表示像差的預定階次的第一函數(shù)改變?yōu)榘ū阮A定階次高的階次的第二函數(shù)。像差校正單元校正由第二函數(shù)所表示的像差。
文檔編號A61B3/14GK102551660SQ20111043045
公開日2012年7月11日 申請日期2011年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月20日
發(fā)明者野里宏治 申請人:佳能株式會社