專(zhuān)利名稱(chēng)：分體式磁共振成像系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請(qǐng)涉及磁共振成像(MRI)系統(tǒng)，特別是包含有分體式主磁體的磁共振成像系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
磁共振成像(MRI)或核磁共振成像(NMRI)是基本的醫(yī)學(xué)成像技術(shù)，最常用于放射 學(xué)來(lái)顯像身體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與機(jī)能。例如，E. MARK HAACKE等人著寫(xiě)的“磁共振成像物理原理和序列設(shè)計(jì)(MAGNETIC RESONANCE IMAGING:PHYSICAL PRINCIPLES AND SEQUENCE DESIGN)(ffiley-Liss 1999)”中描述了 MRI，其內(nèi)容通過(guò)引用結(jié)合在此。當(dāng)今存在著多種MRI系統(tǒng)，并且有著廣泛的應(yīng)用。然而這些系統(tǒng)都包含大型部件，使得它們難以移動(dòng)和安裝，特別是在現(xiàn)有的空間中，其中出入口例如可用的門(mén)和門(mén)廳提供了有限的可操作性。。因此可以理解，存在有利條件來(lái)改進(jìn)MRI系統(tǒng)，以便使這些系統(tǒng)更易于移動(dòng)和安裝，而不會(huì)損害MRI系統(tǒng)功能的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)公開(kāi)的是一種具有分體式磁共振成像構(gòu)造的磁共振成像系統(tǒng)，與現(xiàn)有分體式磁共振成像系統(tǒng)相比，其可更容易地被重新定位和安裝。所公開(kāi)的磁共振成像系統(tǒng)被優(yōu)化構(gòu)造，以致其可被分拆、移動(dòng)，然后安裝到現(xiàn)有設(shè)備和屏蔽拱頂之中。本發(fā)明公開(kāi)的內(nèi)容包括一種磁共振成像(MRI)系統(tǒng)，其包括由磁共振成像磁間隙分隔的第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼，具有布置在第一磁共振成像磁體殼內(nèi)的第一主磁共振成像磁體和布置在第二磁共振成像磁體殼內(nèi)的第二主磁共振成像磁體。多個(gè)支持組件和/或它們的支持子組件連接至第一和第二磁共振成像磁體殼。多個(gè)支持組件和/或子組件中的至少一個(gè)可拆卸地連接至第一和第二磁共振成像磁體殼的至少一個(gè)。在一些具體實(shí)施例中，多個(gè)支持組件中的至少一個(gè)可拆卸地連接至第一和第二磁共振成像磁體殼兩者上。在一些具體實(shí)施例中，多個(gè)支持組件中的至少一個(gè)包括連接至第一磁共振成像磁體殼的第一支持子組件，以及連接于第二磁共振成像磁體殼的第二支持子組件。在這些具體實(shí)施例中，支持組件還包括中央支持連接器，其可拆卸地連接至第一和第二支持子組件上。而且在這些實(shí)施例中，當(dāng)?shù)谝恢С肿咏M件連接至第一磁共振成像磁體殼時(shí)，第一支持子組件從第一磁共振成像磁體殼的外表面徑向延伸，以及當(dāng)?shù)诙С肿咏M件連接至第二磁共振成像磁體殼時(shí)，第二支持子組件從第二磁共振成像磁體殼的外表面徑向延伸。 在一些具體實(shí)施例中，磁共振成像系統(tǒng)還包括位于磁共振成像磁間隙中的臺(tái)架。臺(tái)架可支撐放射治療裝置或其它干預(yù)治療裝置。在一些具體實(shí)施例中，磁共振成像系統(tǒng)還包括冷卻系統(tǒng)，其包括用于傳送冷卻劑的流體導(dǎo)管，冷卻劑用于冷卻第一和第二主磁共振成像磁體。流體導(dǎo)管經(jīng)由可拆卸地連接的支持組件中的至少一個(gè)，從第一磁共振成像磁體殼內(nèi)延伸至第二磁共振成像磁體殼內(nèi)。在一些具體實(shí)施例中，磁共振成像系統(tǒng)還包括供電系統(tǒng),其包括用于向第一和第二主磁共振成像磁體提供電能的電纜。電纜經(jīng)由可拆卸地連接的支持組件中的至少一個(gè)，從第一磁共振成像磁體殼內(nèi)延伸至第二磁共振成像磁體殼內(nèi)。第一和第二磁共振成像磁體殼基本上為圓筒形，以便在磁共振成像系統(tǒng)中容納治療床，用于支撐患者經(jīng)受磁共振成像造像和/或其它涉及磁共振成像系統(tǒng)的醫(yī)學(xué)治療。


本發(fā)明的各特征、內(nèi)容和具體實(shí)施例將結(jié)合附圖進(jìn)行描述，其中圖1A-1C所示的是分體式磁體MRI系統(tǒng)的第一實(shí)施例的透視圖；圖2A-2C所示的是分體式磁體MRI系統(tǒng)的第二實(shí)施例的透視圖；以及圖3所示的是本申請(qǐng)公開(kāi)的分體式磁體MRI系統(tǒng)的簡(jiǎn)化框圖。
具體實(shí)施例方式圖IA至IC示出了分體式磁體MRI系統(tǒng)100的透視圖。圖IA示出了 MRI系統(tǒng)100的完全組裝圖，圖IB示出了 MRI系統(tǒng)100的部分分解圖，以及圖IC示出了 MRI系統(tǒng)100的
進(jìn)一步的分解圖。MRI系統(tǒng)100具有分體式MRI構(gòu)造，與現(xiàn)有的MRI系統(tǒng)相比，其可更容易地被重新定位和安裝。所公開(kāi)的MRI系統(tǒng)100被優(yōu)化構(gòu)造，使得其可被分拆、移動(dòng)，然后安裝到現(xiàn)有設(shè)備和屏蔽拱頂之中。MRI系統(tǒng)100包括第一和第二圓筒形的主MRI磁體殼102a和102b，各自地用于容納相應(yīng)的圓筒形的超導(dǎo)MRI主磁體IOla和IOlb (如圖3所示)。MRI主磁體IOla和IOlb可被操控，以在視場(chǎng)(FOV)中產(chǎn)生均勻磁場(chǎng)用來(lái)成像，其通常以?xún)蓚€(gè)磁體殼102a和102b之間的間隙104為中心，用來(lái)對(duì)位于治療床103上的患者成像。MRI主磁體殼102a和102b通過(guò)支持組件105a_105c被支撐并互相連接。按照各個(gè)實(shí)施例，支持組件105a-105c機(jī)械地、熱力地和/或電氣地連接MRI主磁體IOla和101b，用來(lái)改進(jìn)MRI主磁體IOla和IOlb的性能，并承受主磁體102a和102b之間的作用力。支持組件105a_105c包括從磁體殼102a和102b中徑向向外延伸的支持子組件106a-106f，以及連接相應(yīng)的支持子組件106a-106f對(duì)組的支持連接器108a_108c。更具體地說(shuō)，支持組件105a包括由支持連接器108a連接的支持子組件106a和106b ;支持組件105b包括由支持連接器108b連接的支持子組件106c和106d ;以及支持組件105c包括由支持連接器108c連接的支持子組件106e和106f。最佳地如圖IB和IC所示，支持組件105a和105b的支持子組件106a_106d是可從磁體殼102a和102b上拆卸下來(lái)的，而支持子組件106e和106f則是永久地連接于磁體殼102a和102b上。但是，所有三個(gè)支持連接器108a-108c都是可從相應(yīng)的支持子組件106a-106f上拆卸的。支持子組件106a_106d使用已知的可拆卸的連接裝置可拆卸地連接到磁體殼102a和102b上，可拆卸的連接裝置例如為已知的連接硬件，比如包括螺釘和/或螺母和螺栓。相反，支持子組件106e和106f則各自永久地連接于磁體殼102a和IOb上。例如，支持子組件106e和106f可被焊接在相應(yīng)的磁體殼102a和102b上，或者利用膠粘劑或其它永久性粘貼裝置粘貼在其上。支持連接器108a_108c使用已知的可拆卸的連接裝置可拆卸地連接到相應(yīng)的支持子組件106a-106f對(duì)組上，可拆卸的連接裝置例如為已知的連接硬件，比如包括螺釘和/或螺母和螺栓。盡管圖示的實(shí)施例包括三個(gè)支持組件105，其中兩個(gè)包括可拆卸的支持子組件106對(duì)組,這僅僅是多個(gè)可能的實(shí)施例中的一個(gè)。替換的實(shí)施例可包括n個(gè)支持組件105,其中n可以是任何大于或等于2的整數(shù)，并且其中從2至n的任意數(shù)量的支持組件105可包括至少一個(gè)可拆卸的支持子組件106。換言之,替換的實(shí)施例可包括任意數(shù)量的支持組件105，其中一些或所有支持組件105可包括至少一個(gè)可拆卸的支持子組件106。至于是否構(gòu)建可拆卸地連接于外殼102或永久地連接于外殼102的支持子組件106，可根據(jù)在以下因素如便攜性和易于安裝中獲得平衡來(lái)確定。通過(guò)使得支持子組件106可拆卸，MRI系統(tǒng)100可被分解成為比完全組裝好的MRI系統(tǒng)100更便于攜帶的部件。另一方面，可拆卸的組件可在總裝中需要的步驟中添加，因此期望永久地連接至少一些支持子組件，例如支持子組件106e和106f，同時(shí)使得其余支持子組件106a-106d是可拆卸的，以便改善便攜性。例如，拆除橫向延伸的支持子組件106a和106c，允許MRI外殼102a和其余向上延伸的支持子組件106e能被更容易地移動(dòng)穿過(guò)現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的門(mén)廳和門(mén)口。再參看圖2A-2C，可替換的MRI系統(tǒng)被圖示為MRI系統(tǒng)200。MRI系統(tǒng)200包括類(lèi)似于結(jié)合MRI系統(tǒng)100描述的那些元件，因此同樣的元件保持有同樣的元件附圖標(biāo)記。MRI系統(tǒng)200還包括位于間隙104處的臺(tái)架202。臺(tái)架202可用于支撐放射治療裝置204。MRI系統(tǒng)200可包括這樣的系統(tǒng)，例如能夠定位所研究的機(jī)體結(jié)構(gòu)、造像顯影輻射處理平面圖以及在輻射處理期間成像，以便校正患者移動(dòng)的治療應(yīng)用。例如，MRI系統(tǒng)200可包括如Co6°輻射源或線性電子加速器(LINAC)這樣的輻射源，由臺(tái)架202支撐，臺(tái)架202 比如公開(kāi)在Dempsey的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)2005/0197564中，名稱(chēng)為“用于實(shí)現(xiàn)適形放射治療而同時(shí)對(duì)軟組織成像的系統(tǒng)(System for Delivering Conformal Radiation TherapyWhile Simultaneously Imaging Soft Tissue)”,其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用結(jié)合在此,和/或比如公開(kāi)在Shvartsman等人的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)2011/0012593中，名稱(chēng)為“用于線性加速器和MRI裝置互相屏蔽的方法及設(shè)備(Method and Apparatus for Shielding a LinearAccelerator and a Magnetic Resonance Imaging Device From Each Other)，，,其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用結(jié)合在此。因此在一些實(shí)施例中，臺(tái)架202可被用來(lái)支撐MRI主磁體對(duì)組之間的間隙中的放射治療裝置204。位于間隙中的放射治療裝置204可以將放射束傳遞至成像FOV內(nèi)的放射治療等中心點(diǎn)，而沒(méi)有MRI磁體的顯著衰減。支持組件105a-105c可以圍繞放射治療單元的外側(cè)延伸，使之清晰以便不干擾或妨礙放射治療射束。
MRI系統(tǒng)的臺(tái)架202、MRI主磁體外殼102a和102b和支持組件105a_105c可以構(gòu)造成能夠被分解，以便易于安裝到設(shè)計(jì)用于放射治療的已有的線性加速器或鈷線療法拱頂。在一些實(shí)施例中，結(jié)合圖1A-1C，如上所述，某些或全部支持組件，或者其部件可以被拆御。例如，可以有n個(gè)支持組件，其中n可以是大于或等于2的整數(shù)。支持組件可以有冷連接或者室溫隔離支撐件，具有至低溫恒溫器的軸懸吊帶206。低溫恒溫器的直徑可以稍微大點(diǎn)，以便包容這一懸吊件。放射治療裝置204的輻射源例如可以是來(lái)自加速器，例如LINAC，或者來(lái)自鈷_60(60Co)這樣的放射源。放射線可以以均勻射束的形式發(fā)送，或者調(diào)制形成方案需要的放射線。這包括引導(dǎo)射束、過(guò)濾射束、打開(kāi)和關(guān)閉射束，以及利用準(zhǔn)直器整形射束。成像可以在放射線發(fā)送的同時(shí)進(jìn)行，從而允許打開(kāi)和關(guān)閉射束來(lái)防止移動(dòng)過(guò)程中發(fā)送，移動(dòng)過(guò)程中發(fā)送將損害發(fā)送的質(zhì)量，并且記錄用于患者的機(jī)體的輻射劑量的測(cè)量容量。期望將放射線引導(dǎo)至患者，而不會(huì)干擾不均勻的放射線衰減結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)例如為位于放射源和患者之間的磁體或梯度線圈。具有中央間隙的現(xiàn)有MRI單元沒(méi)有包含輻射治 療裝置，并且它們的半塊磁體之間的支撐件接近成像量。本發(fā)明公開(kāi)的MRI系統(tǒng)的一個(gè)有利特征就是超導(dǎo)MRI磁體具有中央間隙104，以允許輻射治療。已經(jīng)提出讓放射束穿過(guò)磁體，但是這與從放射源到患者這樣的毫無(wú)阻礙的路徑相比，是更不期望的。參見(jiàn)圖3,所公開(kāi)的MRI系統(tǒng)100和200可以配置成各種實(shí)施例,其中各導(dǎo)管按一定路線通過(guò)一個(gè)或多個(gè)支持組件105。如圖3所示，例如，可拆御的支持組件105a可用于容納在第一和第二 MRI磁體殼102a和102b之間延伸的電纜和/或流體導(dǎo)管。各電纜和/或流體導(dǎo)管可以額外地和/或可選地按一定路線通過(guò)支持組件105b和/或105c。應(yīng)該注意至丨J，雖然圖3示出的是MRI系統(tǒng)200，但是圖3的描述可以同等地應(yīng)用于MRI系統(tǒng)100。在一些實(shí)施例中，MRI系統(tǒng)200可包含冷卻系統(tǒng)302，該冷卻系統(tǒng)302例如包含低溫恒溫器。冷卻系統(tǒng)302可包括輸送冷卻劑的流體導(dǎo)管304,用于冷卻主MRI磁體IOla和101b。流體導(dǎo)管304可包括一組連接器306，其可包括各種已知的流體導(dǎo)管連接器中的任何一種，位于處在或接近支持組件105a的分解點(diǎn)上的各個(gè)位置上。這允許流體導(dǎo)管304在支持組件105a的拆除和分解的過(guò)程中斷開(kāi)，然后在重新組裝支持組件105a并且重新連接支持組件105a和主MRI磁體殼102a和102b的過(guò)程中再連接。MRI系統(tǒng)200還包括供電/控制系統(tǒng)310，其可以包含各種電子和/或控制系統(tǒng)，例如控制主MRI磁體IOla和IOlb在斜升(ramp up)和斜降(ramp down)期間對(duì)其供電,和/或?qū)χ鱉RI磁體IOla和IOlb發(fā)送各種其它操作控制信號(hào)。供電系統(tǒng)310包括電纜314，其輸送電信號(hào)和/或各種控制信號(hào)，來(lái)給主MRI磁體IOla和IOlb供電和/或控制其操作。電纜314可以包括一組連接器316，其可以為各種已知的電氣連接件中的任何一種，位于處在或接近支持組件105a的分解點(diǎn)的各個(gè)位置上。這允許流體導(dǎo)管314在支持組件105a的拆除和分解的過(guò)程中斷開(kāi)，然后在重新組裝支持組件105a并且重新連接支持組件105a和主MRI磁體殼102a和102b的過(guò)程中再連接。在一些實(shí)施例中，供電/控制系統(tǒng)310可包括單個(gè)電源，其可以被操控來(lái)對(duì)主MRI磁體IOla和IOlb兩者提供電能。例如，供電/控制系統(tǒng)310可包括單個(gè)電源，其可以被操控來(lái)對(duì)主MRI磁體IOla和IOlb的斜升和斜降操作過(guò)程中提供電能。在現(xiàn)有系統(tǒng)中，每個(gè)MRI磁體接收來(lái)自相應(yīng)的電源的電能。在電能上升期間，大多數(shù)情況優(yōu)選以同時(shí)進(jìn)行的方式對(duì)每一 MRI磁體電能斜升。然而，在MRI系統(tǒng)的主磁場(chǎng)中的不均勻性是由于至各個(gè)主MRI磁體的電流的差引起的。理想地，在MRI磁體中電流應(yīng)該是相同的，或者非常接近相同，所以利用能夠產(chǎn)生磁場(chǎng)來(lái)修正在主磁場(chǎng)中的不均勻性的勻磁(shim)線圈進(jìn)行勻磁。相反，由于本發(fā)明的MRI系統(tǒng)從單個(gè)電源310向MRI磁體IOla和IOlb兩者提供電能，至兩個(gè)MRI磁體IOla和IOlb的電流中的差異大大減少，從而與現(xiàn)有的分別給每個(gè)MRI磁體供電的MRI系統(tǒng)比起來(lái)，減少了 MRI系統(tǒng)的主磁場(chǎng)中的不均勻性。因此，本發(fā)明的MRI系統(tǒng)可以更容易地進(jìn)行勻磁。MRI系統(tǒng)100和200的實(shí)施例還包括射頻和梯度線圈的各種配置，通常如線圈320所示。線圈320的具體的實(shí)施例和描述公開(kāi)在Shvartsman等人的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)序列號(hào)12/951,976中，其名稱(chēng)為“自我屏蔽的梯度線圈(Self-shielded Gradient Coil)”，其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用結(jié)合在此。例如，線圈320包括梯度線圈，其包括與間隙104和臺(tái)架202對(duì)齊的間隙，用于防止放射治療射束的衰減。梯度線圈還在電子器件中有間隙，以防止放射治療射束通過(guò)導(dǎo)線衰減，但是有薄的均勻衰減線圈架(former )來(lái)機(jī)械地支撐線圈。梯度線圈 還在屏蔽線圈而不是初級(jí)線圈的電子器件中具有間隙，以此限制放射治療射束通過(guò)導(dǎo)線衰減，但是梯度線圈可以具有補(bǔ)償材料來(lái)產(chǎn)生均勻的衰減。梯度線圈還可以在屏蔽線圈而不是初級(jí)線圈的電子線路中具有間隙，以此限制放射治療射束通過(guò)導(dǎo)線衰減，但是梯度線圈可以具有補(bǔ)償材料來(lái)產(chǎn)生均勻的衰減，并具有帶有例如鋁這樣的較低的原子序數(shù)的導(dǎo)體，來(lái)限制衰減。優(yōu)選地，主MRI磁體IOla和IOlb的內(nèi)徑允許放射治療裝置204的放射源可被支撐在標(biāo)稱(chēng)半徑為Im的臺(tái)架202上，這個(gè)值是目前放射治療處理系統(tǒng)的優(yōu)選距離。主MRI磁體IOla和IOlb可以設(shè)置成使得由放射治療裝置204發(fā)出的放射治療射束在進(jìn)入MRI系統(tǒng)的時(shí)候不會(huì)射到主MRI磁體IOla和101b，從而防止放射治療射束由于散射在MRI線圈320上引起的衰減和退化。在一些實(shí)施例中，主MRI磁體IOla和IOlb以及梯度線圈320可以設(shè)置成使得由放射治療裝置204發(fā)出的放射治療射束在進(jìn)入MRI系統(tǒng)的時(shí)候不會(huì)射到主MRI磁體IOla和101b、或梯度線圈320，從而防止放射治療射束由于散射在MRI線圈320或梯度系統(tǒng)上引起的裳減和退化。盡管根據(jù)本發(fā)明的原理，上面已經(jīng)描述了各個(gè)實(shí)施例，但是應(yīng)該清楚，這些實(shí)施例只是作為示例提出，而不是限制性的。因此，本發(fā)明的廣度和范圍不應(yīng)該受以上描述的示例性的實(shí)施例的任一個(gè)所限制，而是應(yīng)該僅依照公開(kāi)內(nèi)容提出的權(quán)利要求及其等同形式來(lái)限定。而且，以上優(yōu)點(diǎn)和特征體現(xiàn)在所描述的實(shí)施例中，但是不應(yīng)該將這些公開(kāi)的權(quán)利要求的應(yīng)用限制在實(shí)現(xiàn)以上優(yōu)點(diǎn)的任何一個(gè)或全部的程序和結(jié)構(gòu)上。此外，此文的章節(jié)標(biāo)題是為了與37 C. F. R. I. 77中的建議一致或者為了提供組織的線索而提供的。這些標(biāo)題不應(yīng)該限制或表征在從本發(fā)明公開(kāi)中提出的任何權(quán)利要求中陳述的本發(fā)明。具體地和舉例來(lái)說(shuō)，雖然標(biāo)題指的是“技術(shù)領(lǐng)域”，但是依照該標(biāo)題所選擇的語(yǔ)言不應(yīng)該將這些權(quán)利要求限于描述所謂的技術(shù)領(lǐng)域。此外，在“背景技術(shù)”中描述的技術(shù)不能被認(rèn)為是承認(rèn)該技術(shù)為在公開(kāi)內(nèi)容中的任何發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)?！鞍l(fā)明內(nèi)容”也不能被認(rèn)為是在提出的權(quán)利要求中闡述的本發(fā)明的特征。而且，在該公開(kāi)內(nèi)容中指明的任何單數(shù)形式的“發(fā)明”不應(yīng)該用于表示在該公開(kāi)內(nèi)容中只有單個(gè)新穎點(diǎn)。根據(jù)該公開(kāi)內(nèi)容提出的多個(gè)權(quán)利要求的限制，可能闡述多個(gè)發(fā)明，并且這些權(quán)利要求相應(yīng)地限定由此保護(hù)的發(fā)明及其等同形式。在全部情況下，這些權(quán)利要求的范圍應(yīng)該根據(jù)該公開(kāi)內(nèi)容基于其自身的優(yōu)點(diǎn)來(lái) 考慮，而不應(yīng)該被文中列出的標(biāo)題所限制。
權(quán)利要求
1.一種磁共振成象(MRI)系統(tǒng)，包括 由磁共振成像磁間隙分隔的第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼； 布置在第一磁共振成像磁體殼內(nèi)的第一主磁共振成像磁體； 布置在第二磁共振成像磁體殼內(nèi)的第二主磁共振成像磁體； 連接至第一磁共振成像磁體殼的第一多個(gè)支持子組件； 連接至第二磁共振成像磁體殼的第二多個(gè)支持子組件；以及 多個(gè)中央支持連接器，每一個(gè)中央支持連接器配置成可拆卸地連接到第一多個(gè)支持子組件的相應(yīng)的一個(gè)上，以及可拆卸地連接到第二多個(gè)支持子組件的相應(yīng)的一個(gè)上； 其中第一多個(gè)支持子組件的至少一個(gè)和第二多個(gè)支持子組件的至少一個(gè)可拆卸地連接至相應(yīng)的磁共振成像磁體殼。
2.如權(quán)利要求I所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括位于磁共振成像磁間隙中的臺(tái)架。
3.如權(quán)利要求2所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括由臺(tái)架支撐的放射治療裝置。
4.如權(quán)利要求I所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括冷卻系統(tǒng)，所述冷卻系統(tǒng)包括用于輸送冷卻劑的流體導(dǎo)管，所述冷卻劑用于冷卻第一主磁共振成像磁體和第二主磁共振成像磁體。
5.如權(quán)利要求4所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述流體導(dǎo)管通過(guò)至少一個(gè)可拆卸連接的第一多個(gè)支持子組件和至少一個(gè)可拆卸連接的第二多個(gè)支持子組件，從第一磁共振成像磁體殼內(nèi)延伸到第二磁共振成像磁體殼內(nèi)。
6.如權(quán)利要求I所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括供電系統(tǒng)，所述供電系統(tǒng)包括用于向第一主磁共振成像磁體和第二提供電能的電纜。
7.如權(quán)利要求6所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述電纜通過(guò)至少一個(gè)可拆卸連接的第一多個(gè)支持子組件和至少一個(gè)可拆卸連接的第二多個(gè)支持子組件，從第一磁共振成像磁體殼內(nèi)延伸到第二磁共振成像磁體殼內(nèi)。
8.如權(quán)利要求I所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中第一多個(gè)支持子組件的每一個(gè)從第一磁共振成像磁體殼的外表面徑向延伸。
9.如權(quán)利要求I所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中第二多個(gè)支持子組件的每一個(gè)從第二磁共振成像磁體殼的外表面徑向延伸。
10.如權(quán)利要求I所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中第一共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼基本上為圓筒形。
11.一種磁共振成象(MRI)系統(tǒng)，包括 由磁共振成像磁間隙分隔的第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼； 布置在第一磁共振成像磁體殼內(nèi)的第一主磁共振成像磁體； 布置在第二磁共振成像磁體殼內(nèi)的第二主磁共振成像磁體；以及 連接至第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼的多個(gè)支持組件； 其中所述多個(gè)支持組件的至少一個(gè)可拆卸地連接至第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼中的至少一個(gè)上。
12.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述多個(gè)支持組件的至少一個(gè)可拆卸地連接至第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼。
13.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述多個(gè)支持組件的至少一個(gè)包括子組件，所述子組件可拆卸地連接至第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼中的一個(gè)。
14.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述多個(gè)支持組件的至少一個(gè)包括連接至所述第一磁共振成像磁體殼的第一支持子組件和連接至所述第二磁共振成像磁體殼的第二支持子組件。
15.如權(quán)利要求14所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述多個(gè)支持組件的至少一個(gè)包括中央支持連接器，所述中央支持連接器可拆卸地連接至第一支持子組件和第二支持子組件。
16.如權(quán)利要求14所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中第一支持子組件從第一磁共振成像磁體殼的外表面徑向延伸，并且第二支持子組件從第二磁共振成像磁體殼的外表面徑向延伸。
17.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括位于磁共振成像磁間隙中的臺(tái)架。
18.如權(quán)利要求17所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括由臺(tái)架支撐的放射治療裝置。
19.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括冷卻系統(tǒng)，所述冷卻系統(tǒng)包括用于輸送冷卻劑的流體導(dǎo)管，所述冷卻劑用于冷卻第一主磁共振成像磁體和第二主磁共振成像磁體。
20.如權(quán)利要求19所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述流體導(dǎo)管通過(guò)至少一個(gè)可拆卸地連接的支持組件，從第一磁共振成像磁體殼內(nèi)延伸到第二磁共振成像磁體殼內(nèi)。
21.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng)，還包括供電系統(tǒng)，所述供電系統(tǒng)包括用于向第一主磁共振成像磁體和第二主磁共振成像磁體提供電能的電纜。
22.如權(quán)利要求21所述的磁共振成像系統(tǒng)，其中所述電纜通過(guò)至少一個(gè)可拆卸地連接的支持組件，從第一磁共振成像磁體殼內(nèi)延伸到第二磁共振成像磁體殼內(nèi)。
23.如權(quán)利要求11所述的磁共振成像系統(tǒng),其中第一磁共振成像磁體殼和第二磁共振成像磁體殼基本上為圓筒形。
全文摘要
一種磁共振成像(MRI)系統(tǒng)，包括具有由間隙分隔的一對(duì)MRI磁體殼的分體式磁體系統(tǒng)。一對(duì)主MRI磁體布置在各自的MRI磁體殼內(nèi)。多個(gè)支持組件連接至MRI磁體殼。部分或全部支持組件具有至MRI磁體殼的可拆御的連接件。這允許MRI系統(tǒng)的部分分解，用于改善重新安置MRI系統(tǒng)的運(yùn)輸和可操作性。MRI系統(tǒng)包括位于間隙中的用于支撐放射治療系統(tǒng)的臺(tái)架。并且可拆卸的支持組件能被應(yīng)用于一對(duì)MRI磁體殼之間的外殼導(dǎo)管，例如電纜和流體導(dǎo)管。
文檔編號(hào)A61B5/05GK102781311SQ201180011042
公開(kāi)日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2011年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月24日
發(fā)明者施瑪瑜·M·施瓦特斯曼, 約翰·L·帕特里克, 詹姆士·F·登普西, 高登·戴米斯特 申請(qǐng)人:優(yōu)瑞公司