一種x射線機照射野中心定位裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種能夠準確定位X射線投照野中心的X射線機照射野中心定位裝置，包括底盤，位于底盤上方的第一臺階、位于第一臺階上方的第二臺階，位于第二臺階上方凸臺；所述底盤、第一臺階、第二臺階和凸臺的中心處設有一個相通的通孔；所述底盤、第一臺階和第二臺階的上表面設有連續(xù)的測量刻度。本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置，結(jié)合X射線機上原有的成像鏈即可實現(xiàn)X射線野中心的測量、判定、調(diào)試等工作；將醫(yī)用診斷X射線機的影像準確度充分提高，并提高臨床診斷的準確性；不僅提高了X線機的圖像質(zhì)量，還解決了因X射線野中心不準確的問題而產(chǎn)生誤診或漏診的可能。
【專利說明】一種X射線機照射野中心定位裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種X射線機的定位裝置，尤其是一種X射線機照射野中心定位裝置。【背景技術(shù)】
[0002]醫(yī)用診斷X射線在生產(chǎn)調(diào)試過程中理論上都需注意照射野與影像接受面的中心，否則獲取的X線圖像質(zhì)量會有較大的差異，最終將可能導致誤診或漏診的情況。然而大多數(shù)的廠家僅僅只是從X線機機械結(jié)構(gòu)的設計上考慮，后續(xù)沒有相應的手段或工具對照射野中心進一步的驗證確認或調(diào)試。
[0003]為了在醫(yī)用診斷X射線機生產(chǎn)調(diào)試領(lǐng)域上盡快趕上國際水平，我們在已有的X射線成像學理論基礎(chǔ)上發(fā)明了一種X射線機照射野中心定位系統(tǒng)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供了一種能夠準確定位X射線投照野中心的X射線機照射野中心定位裝置，解決臨床上因X射線野中心不準而產(chǎn)生的X光影像失真、畸變的缺陷，同時解決了因X射線野中心不準導致臨床上誤診、漏診的問題。
[0005]實現(xiàn)本發(fā)明目的的一種X射線機照射野中心定位裝置，包括底盤，位于底盤上方的第一臺階、位于第一臺階上方的第二臺階，位于第二臺階上方凸臺；所述底盤、第一臺階、第二臺階和凸臺的中心處設有一個相通的通孔:所述底盤、第一臺階和第二臺階的上表面設有連續(xù)的測量刻度。
[0006]所述測量刻度呈十字形刻度。
[0007]本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置的有益效果如下:
[0008]本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置，結(jié)合X射線機上原有的成像鏈即可實現(xiàn)X射線野中心的測量、判定、調(diào)試等工作；將醫(yī)用診斷X射線機的影像準確度充分提高，并提高臨床診斷的準確性；不僅提高了 X線機的圖像質(zhì)量，還解決了因X射線野中心不準確的問題而產(chǎn)生誤診或漏診的可能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為圖1的仰視剖面圖。
【具體實施方式】
[0011]如圖1、2所示，本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置，包括底盤1，位于底盤I上方的第一臺階2、位于第一臺階2上方的第二臺階3,位于第二臺階3上方凸臺4 ;所述底盤1、第一臺階2、第二臺階3和凸臺4的中心處設有一個相通的通孔5 ;所述底盤1、第一臺階2和第二臺階3的上表面設有連續(xù)的測量刻度6。
[0012]所述測量刻度6呈十字形刻度。[0013]本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置的優(yōu)點如下:
[0014]本發(fā)明的一種X射線機照射野中心定位裝置，結(jié)合X射線機上原有的成像鏈即可實現(xiàn)X射線野中心的測量、判定、調(diào)試等工作；將醫(yī)用診斷X射線機的影像準確度充分提高，并提高臨床診斷的準確性；不僅提高了 X線機的圖像質(zhì)量，而且還解決了因X射線野中心不準確的問題而產(chǎn)生誤診或漏診的可能。
[0015]上面所述的實施例僅僅是對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行描述，并非對本發(fā)明的范圍進行限定，在不脫離本發(fā)明設計精神前提下，本領(lǐng)域普通工程技術(shù)人員對本發(fā)明技術(shù)方案做出的各種變形和改進，均應落入本發(fā)明的權(quán)利要求書確定的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種X射線機照射野中心定位裝置，其特征在于:包括底盤，位于底盤上方的第一臺階、位于第一臺階上方的第二臺階，位于第二臺階上方凸臺。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線機照射野中心定位裝置，其特征在于:所述底盤、第一臺階、第二臺階和凸臺的中心處設有一個相通的通孔；所述底盤、第一臺階和第二臺階的上表面設有連續(xù)的測量刻度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線機照射野中心定位裝置，其特征在于:所述測量刻度呈 十字形刻度。
【文檔編號】A61B6/00GK103462620SQ201310368486
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月22日
【發(fā)明者】何瑞志, 陳晨, 皮崇武 申請人:北京騰飛高科醫(yī)學技術(shù)有限公司