牙種植體的制作方法
【專利摘要】一種牙種植體，其技術(shù)要點(diǎn)在于在種植體頸圈表面加工有溝槽。溝槽表面具有氮化鈦(TiN)涂層，涂層的厚度為100-1000nm。本實(shí)用新型的水平溝槽“各向異性”的表面特征能對牙齦成纖維細(xì)胞產(chǎn)生“接觸誘導(dǎo)”作用，即能引導(dǎo)細(xì)胞順著水平溝槽的方向生長，通過“接觸誘導(dǎo)”效應(yīng)有利于牙齦成纖維細(xì)胞構(gòu)成種植體邊緣封閉，即能引導(dǎo)細(xì)胞順著溝槽水平走向生長，加快種植體周圍軟組織的良好愈合，阻止上皮跟方遷移，細(xì)菌侵入，實(shí)現(xiàn)種植體邊緣封閉，保證種植體長期穩(wěn)定性。微溝槽結(jié)合TiN納米涂層具有良好的抗菌性，具有良好的血液相容性，有效的促進(jìn)血小板粘附和活化，具有良好的生物相容性，同時有效的促進(jìn)了牙齦成纖維細(xì)胞的增殖和粘附。
【專利說明】牙種植體
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及種植體，尤其屬于牙種植體。
【背景技術(shù)】
[0002]目前鈦種植體的應(yīng)用已成為替代缺失牙的常規(guī)方法，種植體周圍軟組織主要由牙齦成纖維細(xì)胞構(gòu)成的結(jié)締組織層和上皮細(xì)胞構(gòu)成的上皮層組成，如圖1所示，傳統(tǒng)的種植體I光滑頸圈11周圍細(xì)胞有跟方遷移生長的趨勢且結(jié)締組織與之結(jié)合為平行附著關(guān)系從而有別于天然牙周組織嵌入牙體的生長，故減弱了種植體與周圍結(jié)締組織的結(jié)合能力，同時傳統(tǒng)認(rèn)為粗糙的頸圈會導(dǎo)致周圍細(xì)菌的粘附，而不利于患者恢復(fù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種能更好實(shí)現(xiàn)種植體邊緣封閉，阻止細(xì)菌侵入，保證種植體長期穩(wěn)定性的牙種植體。
[0004]本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案為一種牙種植體，其技術(shù)要點(diǎn)在于在種植體頸圈表面加工有溝槽。
[0005]傳統(tǒng)上認(rèn)為由于粗糙的頸圈表面積大，細(xì)菌可附著的地方大，不利于患者恢復(fù)，而忽略了光滑頸圈周圍細(xì)胞有跟方遷移生長的趨勢，且結(jié)締組織與之結(jié)合為平行附著關(guān)系，從而有別于天然牙周組織嵌入牙體的生長，故減弱了種植體與周圍結(jié)締組織的結(jié)合能力。水平溝槽“各向異性”的表面特征能對牙齦成纖維細(xì)胞產(chǎn)生“接觸誘導(dǎo)”作用，即能引導(dǎo)細(xì)胞順著水平溝槽的方向生長，本實(shí)用新型在種植體頸圈表面加工有垂直于種植體長軸的水平微溝槽，利用“接觸誘導(dǎo)”效應(yīng)阻止牙齦成纖維細(xì)胞和上方的上皮細(xì)胞根方遷移，有利于種植頸部和周圍軟組織的結(jié)合，防止細(xì)菌入侵，實(shí)現(xiàn)種植體邊緣封閉，與天然牙周組織嵌入牙體的生長方式類似，保證種植體長期穩(wěn)定。
[0006]溝槽表面具有氮化鈦(TiN)涂層。本實(shí)用新型利用氮化鈦(TiN)涂層增加種植體頸圈周圍的的抗菌能力和增強(qiáng)材料的血液相容性。
[0007]溝槽表面具有氮化鈦(TiN)涂層的厚度為100-1000nm。氮化鈦(TiN)作為納米涂層其化學(xué)性能穩(wěn)定，具有較強(qiáng)的耐磨損耐腐蝕性及良好的生物相容性及抗菌性?；趪娡康耐繉幽芨采w所有溝槽表面同時又不影響原有的溝槽結(jié)構(gòu)，氮化鈦涂層的濺射厚度確定為100-1000nm。
[0008]多道溝槽平行間隔分布。有利于誘導(dǎo)細(xì)胞順著溝槽的平行走向規(guī)則排列。
[0009]多道溝槽等間隔均勻分布。制作方便，有利于細(xì)胞均勻的受到相同寬度溝槽嵴頂對細(xì)胞骨架造成的形變刺激，使細(xì)胞受到形貌作用后盡量保持相對一致的生物狀態(tài)。
[0010]溝槽剖面為梯形或矩形。通常溝槽剖面為外大內(nèi)小，即底邊朝外的倒梯形或矩形，以弓I導(dǎo)細(xì)胞順著溝槽向內(nèi)生長實(shí)現(xiàn)種植體邊緣封閉，阻止細(xì)菌侵入。
[0011]溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為45° -90°，一定的斜率保證“接觸誘導(dǎo)”效應(yīng)的實(shí)現(xiàn)。[0012]在種植體頸圈表面等間隔加工有多道平行的溝槽，溝槽的寬度50-100 μ m，間距50-100μπι，深度10-15μπι，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為45° -90°，溝槽縱剖面的形狀為倒梯形或矩形，溝槽表面具有厚度為IOO-1OOOnm的氮化鈦(TiN)涂層。
[0013]研究證明為了保證溝槽形貌對細(xì)胞“接觸誘導(dǎo)”效應(yīng)的存在，溝槽寬度和溝槽間隔要求不超過與之接觸細(xì)胞的大小，同時要求溝槽深度不小于10 μ m，種植體頸圈周圍結(jié)締組織牙齦成纖維細(xì)胞大小為(110 μ m)，為了滿足細(xì)胞能順著溝槽生長的同時也能進(jìn)入溝槽生長，溝槽的寬度和溝槽的間隔確定為50-100 μ m，為了保證后續(xù)氮化鈦噴涂的質(zhì)量，溝槽深度為 10-15 μ m。
[0014]在種植體頸圈表面等間隔加工有多道平行的溝槽，溝槽的寬度60μπι，間距60 μ m，深度10 μ m，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為54.74°，溝槽縱剖面的形狀為倒梯形，溝槽表面濺射200nm的氮化鈦(TiN)涂層。
[0015]綜上可知本實(shí)用新型的水平溝槽“各向異性”的表面特征能對牙齦成纖維細(xì)胞產(chǎn)生“接觸誘導(dǎo)”作用，即能引導(dǎo)細(xì)胞順著水平溝槽的方向生長，通過“接觸誘導(dǎo)”效應(yīng)有利于牙齦成纖維細(xì)胞構(gòu)成種植體邊緣封閉，即能引導(dǎo)細(xì)胞順著溝槽水平走向生長，加快種植體周圍軟組織的良好愈合，阻止上皮跟方遷移，細(xì)菌侵入，實(shí)現(xiàn)種植體邊緣封閉，保證種植體長期穩(wěn)定性。微溝槽結(jié)合TiN納米涂層具有良好的抗菌性，具有良好的血液相容性，有效的促進(jìn)血小板粘附和活化，具有良好的生物相容性，同時有效的促進(jìn)了牙齦成纖維細(xì)胞的增殖和粘附。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為現(xiàn)有種植體的結(jié)構(gòu)示意圖
[0017]圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖
[0018]圖3為圖2A處的局部放大圖
[0019]圖4為圖3的B向展開，細(xì)胞生長狀態(tài)示意圖
[0020]其中:1種植體11頸圈12溝槽2細(xì)胞。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合視圖對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述，使本專業(yè)的技術(shù)人員更理解本實(shí)用新型，但不以任何形式限制本實(shí)用新型。
[0022]一種牙種植體，是在現(xiàn)有牙種植體的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)，在光滑的牙種植體頸圈11表面加工有溝槽12，溝槽表面具有氮化鈦(TiN)涂層。通常在種植體頸圈11表面等間隔加工有多道平行的溝槽12，溝槽12的寬度50-100 μ m，間距50-100 μ m，深度10-15 μ m，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為45° -90°，溝槽縱向剖面形狀為倒梯形或矩形，所述的倒梯形是指外大內(nèi)小，即底邊朝外的梯形，溝槽表面濺射氮化鈦(TiN)涂層的厚度為100-1000nm。
[0023]實(shí)施例1
[0024]采用光刻技術(shù)，設(shè)計(jì)與所蝕刻溝槽寬度和間距相同的掩膜板，通過掩膜板控制硅板上溝槽的寬度和間距，通過蝕刻時間控制硅板上溝槽深度，實(shí)現(xiàn)在種植體光滑頸圈表面等間隔均勻分布有多道微溝槽:寬度60 μ m,溝槽間距60 μ m,深度10 μ m,溝槽縱剖面為倒梯形，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為54.74°，通過磁控濺射技術(shù)在溝槽表面噴涂200nm的鈦(Ti)涂層。
[0025]實(shí)施例2
[0026]采用光刻技術(shù)，設(shè)計(jì)與所蝕刻溝槽寬度和間距相同的掩膜板，通過掩膜板控制硅板上溝槽的寬度和間距，通過蝕刻時間控制硅板上溝槽深度，實(shí)現(xiàn)在種植體光滑頸圈表面等間隔均勻分布有多道微溝槽:寬度60 μ m，溝槽間距60 μ m，深度10 μ m，溝槽縱剖面為倒梯形，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為54.74°，通過磁控濺射技術(shù)在溝槽表面濺射200nm的氮化鈦(TiN)涂層。
[0027]實(shí)施例3[0028]采用光刻技術(shù)，設(shè)計(jì)與所蝕刻溝槽寬度和間距相同的掩膜板，通過掩膜板控制硅板上溝槽的寬度和間距，通過蝕刻時間控制硅板上溝槽深度，實(shí)現(xiàn)在種植體光滑頸圈表面等間隔均勻分布有多道微溝槽:寬度50 μ m,溝槽間距100 μ m,深度13 μ m,溝槽縱剖面為倒梯形，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為54.74°，通過磁控濺射技術(shù)在溝槽表面濺射300nm的氮化鈦(TiN)涂層。
[0029]實(shí)施例4
[0030]采用光刻技術(shù)，設(shè)計(jì)與所蝕刻溝槽寬度和間距相同的掩膜板，通過掩膜板控制硅板上溝槽的寬度和間距，通過蝕刻時間控制硅板上溝槽深度，實(shí)現(xiàn)在種植體光滑頸圈表面均勻分布有多道微溝槽:寬度100 μ m，溝槽間距50 μ m，深度15 μ m，溝槽縱剖面為倒梯形，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為54.74°，通過磁控濺射技術(shù)在溝槽表面濺射420nm的氮化鈦(TiN)涂層。
[0031]本實(shí)用新型的有益效果
[0032]實(shí)驗(yàn)中對照組光滑鈦頸圈為商業(yè)用的純鈦
[0033]I)采用CCK-8實(shí)驗(yàn)，通過溶液在0D450的吸光度值反映細(xì)胞在材料表面的增殖情況
[0034]人牙齦成纖維細(xì)胞在不同材料表面不同時間點(diǎn)的增殖結(jié)果(0D450吸光度值)
[0035]
【權(quán)利要求】
1.一種牙種植體，其特征在于:在種植體頸圈(11)表面加工有溝槽(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求書I所述一種牙種植體，其特征在于:在溝槽(12)表面具有氮化鈦涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求書I所述一種牙種植體，其特征在于:多道溝槽(12)平行間隔分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求書2所述一種牙種植體，其特征在于:多道溝槽(12)等間隔均勻分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求書I所述一種牙種植體，其特征在于:溝槽(12)縱剖面形狀為梯形或矩形。
6.根據(jù)權(quán)利要求書I所述一種牙種植體，其特征在于:溝槽表面具有氮化鈦涂層的厚度為 100-1000nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求書I所述一種牙種植體，其特征在于:在種植體頸圈(11)表面等間隔加工有多道平行的溝槽(12)，溝槽(12)的寬度50-100 μ m,間距50-100 μ m,深度10-15 μ m，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角為45° -90°，溝槽縱剖面形狀為倒梯形或矩形，溝槽表面具有厚度為IOO-1OOOnm的氮化鈦涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求書7所述一種牙種植體，其特征在于:在種植體頸圈(11)表面等間隔加工有多道平行的溝槽(12)，溝槽(12)的寬度60 μ m，間距60 μ m，深度10 μ m，溝槽側(cè)壁與頸圈表面夾角在57.74°為佳，溝槽縱剖面的形狀為倒梯形，溝槽表面噴涂200nm的氮化鈦涂層。
【文檔編號】A61C8/00GK203539464SQ201320651701
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年10月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月22日
【發(fā)明者】陳江, 賴穎真 申請人:福建醫(yī)科大學(xué)附屬口腔醫(yī)院