本技術(shù)涉及義齒制作，具體來說，本技術(shù)涉及一種上頜無牙頜模型灌注用裝置。

背景技術(shù)：

1、上頜牙列缺失是指各種原因?qū)е碌纳项M牙列全部缺失，上頜牙列缺失后的頜骨又稱為上頜無牙頜。

2、上頜牙列缺失的修復(fù)，可以選擇1)種植體支持的固定修復(fù)，如上頜6-8個種植體支持的橋架式修復(fù)或分段橋修復(fù)；2)種植體支持的覆蓋義齒修復(fù)，如上頜4-6個種植體支持的桿卡式修復(fù)；3)粘膜支持的總義齒修復(fù)。

3、上頜全口義齒的制作過程是醫(yī)生選擇與上頜牙槽嵴形態(tài)匹配的托盤，用紅膏+藻酸鹽或不同比例的藻酸鹽來制取患者口內(nèi)上頜牙槽嵴、粘膜轉(zhuǎn)折、軟硬腭區(qū)的陰模又叫做上頜初印模，用上頜初印模及模具灌注上頜石膏模型，在上頜石膏模型上制作個別托盤，制取終印模及頜位關(guān)系。用上頜終印模灌注工作模型，在工作模型上技師排牙，試戴調(diào)整后充膠完成上頜全口義齒的制作。

4、在上頜總義齒治療過程中，醫(yī)生對上頜的牙槽嵴制初、終取兩次印模，灌注初模型及終模型兩次石膏模型。上頜模型是上頜印模內(nèi)灌注模型材料形成的上頜陽模。從上頜無牙頜印模到精準(zhǔn)的上頜石膏模型，正確的灌模是制作高質(zhì)量模型的基礎(chǔ)。準(zhǔn)確的上頜無牙頜模型是制作上頜總義齒成功的開始，所以模型灌注在上頜總義齒制作中扮演著關(guān)鍵的角色，上頜模型有特定幾何外形的要求，其制作過程中卻面臨著模型灌注較復(fù)雜的技術(shù)瓶頸。

5、目前石膏模型灌注有兩種方法：直接灌注法和圍模灌注法，這兩種方法灌注的石膏脫模后都需要大量修整。

6、直接灌注法先把石膏放入印模里，扣在平面上，待石膏凝固后取下，大致修整石膏模型厚度及側(cè)壁，然后把石膏模型放在金屬底板上。在金屬底板上再加一些石膏，使模型前后緣與金屬底板平齊。

7、圍模灌注法是在印模外周用材料圈圍，這個步驟稱為圍模。無牙頜的初模型及工作模型均可用圍模灌注，圍模灌注可獲得厚度適宜、外形規(guī)整的石膏模型，減少石膏打磨量和石膏用量。圍模的原理是在印模周圍形成一個盒形，包括兩部分，一部分是在印模組織面的外緣形成模型邊臺，寬度大于5mm,距離印模邊緣3mm.另一部分在模型邊臺外緣形成圍板，圍板上緣之印模最高處大于10mm.常用的圍模方法有蠟片圍模法、型盒圍模法、硅橡膠圍模法等。

8、直接灌注法需要調(diào)拌兩次石膏，操作步驟復(fù)雜，并且兩次等待石膏凝固，需要較長工作時(shí)間。第一次灌注得到的石膏模型不一定厚度合適，如果超出標(biāo)準(zhǔn)模型厚度，還要進(jìn)行模型底面的大量打磨。第一次灌注得到的石膏模型邊緣可能較寬、側(cè)壁可能較斜。經(jīng)常無法直接放入金屬底板中，一般需要大量修整，待修整至合適形態(tài)再放入金屬底板中試一下，這時(shí)再調(diào)拌一些石膏放入金屬底板的底面再放上第一次灌注并修整過的模型，此時(shí)如果石膏較多，還需要用手扶著或其他工具協(xié)助固定石膏，待第二次石膏凝固后，取下，因?yàn)榻饘俚装逯挥械撞康男螒B(tài)及石膏前后的高度，但石膏模型側(cè)壁仍然沒有塑性，所以這一步石膏模型需要再修整(主要是修整側(cè)壁)，才能得到標(biāo)準(zhǔn)模型。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、圍模灌注法需要準(zhǔn)備多種不同材料，包埋用藻酸鹽、圍模用膠布或蠟片、灌石膏用石膏。其中藻酸鹽及石膏需要按說明書比例提前稱重，較麻煩。操作步驟多，需要至少3步完成。包埋用藻酸鹽操作時(shí)間短，有時(shí)候未來得及塑形至理想形態(tài)就已經(jīng)凝固。待石膏模型取出后，后續(xù)維護(hù)不方便，膠布粘在型盒側(cè)壁上，較難清理。型盒選擇受到托盤形狀的限制，有的托盤，如初印模托盤前方帶一個無法取下的手柄，還需要選擇前方開口的型盒。型盒選擇受到印模大小的限制，要準(zhǔn)備多種大小型盒，如果型盒太小，石膏模型邊臺太窄，修整時(shí)容易破損。如果型盒太大，石膏模型邊臺太寬，后期需要用打磨機(jī)磨掉，增大工作量。

2、為了克服現(xiàn)有圍模灌注法的缺點(diǎn)，減少人為誤差，適應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)化作業(yè)的需要，本實(shí)用新型提供一種上頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座和側(cè)壁，底座上部開口，底座下部開有圓三角形孔洞，孔洞適配帶磁性的底盤，所述帶磁性的底盤包括轉(zhuǎn)盤和支撐座；支撐座的頂部與轉(zhuǎn)盤之間通過軸承連接；支撐座的頂部是放置有磁吸片的磁性底板；其中，所述側(cè)壁四周封閉，底座和側(cè)壁圍成一個內(nèi)部空間。

3、優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，底座(1)和側(cè)壁(2)是一體的。

4、更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間與印模形狀相適應(yīng)。

5、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間比印模大。

6、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形。

7、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形；側(cè)壁后部最高處的部分距離底座內(nèi)部空間的深度為24-26mm。

8、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部中間低的部分是平整的，其長度為29-31mm。

9、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部最高處的部分距離底座內(nèi)部空間的深度為7-9mm。

10、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部最高處的部分距離底座內(nèi)部空間的深度為8mm。

11、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部中間低的部分是平整的，其長度為19-21mm。

12、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部中間低的部分是平整的，其長度為20mm。

13、進(jìn)一步更優(yōu)選地，根據(jù)上述上頜無牙頜模型灌注用裝置，其是用硅橡膠制作的。

14、使用本實(shí)用新型的上頜無牙頜模型灌注用裝置，只要按照灌注步驟操作即可，可以進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化作業(yè)，從而可以提高牙齒石膏模型的制作效率。使用本實(shí)用新型的上頜無牙頜模型灌注用裝置，可以一次性獲得無牙頜的上頜標(biāo)準(zhǔn)石膏模型，利用模具底部的磁性底板和磁片，實(shí)現(xiàn)了工作模型與上合架石膏的磁性分離和復(fù)位。

技術(shù)特征：

1.一種上頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座(1)和側(cè)壁(2)，底座(1)上部開口，底座(1)下部開有圓三角形孔洞(3)，孔洞(3)適配帶磁性的底盤(4)，所述帶磁性的底盤(4)包括轉(zhuǎn)盤(5)和支撐座(6)；支撐座(6)的頂部與轉(zhuǎn)盤(5)之間通過軸承連接；支撐座(6)的頂部是放置有磁吸片(8)的磁性底板(7)；其中，所述側(cè)壁(2)四周封閉，底座(1)和側(cè)壁(2)圍成一個內(nèi)部空間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，底座(1)和側(cè)壁(2)是一體的。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間與印模形狀相適應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間比印模大。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形；側(cè)壁(2)后部最高處的部分距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為24-26mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部中間低的部分是平整的，其長度為29-31mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形；側(cè)壁(2)后部最高處的部分距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為24-26mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部中間低的部分是平整的，其長度為29-31mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形；側(cè)壁(2)后部最高處的部分距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為24-26mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的上頜無牙頜模型灌注用裝置，其特征在于，其是用硅橡膠制作的。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種上頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座(1)和側(cè)壁(2)，底座(1)和側(cè)壁(2)是一體的，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間與印模形狀相適應(yīng)，底座(1)的底部是帶磁性的底盤(4)，帶磁性的底盤(4)包括轉(zhuǎn)盤(5)和支撐座(6)，支撐座(6)的頂部與轉(zhuǎn)盤(5)之間通過軸承連接支撐座的頂部是磁性底板(7)，磁性底板(7)上放置磁吸片(8)。利用本技術(shù)的上頜無牙頜模型灌注用裝置，可以一次性獲得無牙頜的上頜標(biāo)準(zhǔn)石膏模型，利用模具底部的磁性底板和磁片，實(shí)現(xiàn)了工作模型與上合架石膏的磁性分離和復(fù)位。

技術(shù)研發(fā)人員：曲宸
受保護(hù)的技術(shù)使用者：首都醫(yī)科大學(xué)附屬北京潞河醫(yī)院
技術(shù)研發(fā)日：20231229
技術(shù)公布日：2024/12/19