本技術(shù)涉及義齒制作，具體來說，本技術(shù)涉及一種下頜無牙頜模型灌注用裝置。

背景技術(shù)：

1、牙列缺失指的是全口牙齒因牙周炎或齲齒等原因全部缺失，口內(nèi)一顆牙也沒有的狀態(tài)。一些人群例如老年人存在牙列缺失狀態(tài)。下頜牙列缺失是指各種原因?qū)е碌南骂M牙列全部缺失，下頜牙列缺失后的頜骨又稱為下頜無牙頜。下頜牙列缺失是指牙周炎或齲齒、外傷等多種原因?qū)е碌南骂M口內(nèi)一顆牙也沒有的狀態(tài)，下頜牙列缺失后的頜骨又稱為下頜無牙頜。患者可以根據(jù)全身狀態(tài)、上頜牙情況、下頜無牙頜的解剖條件、經(jīng)濟(jì)因素等，酌情選擇種植4-6顆的種植固定修復(fù)、種植2-4顆的種植覆蓋修復(fù)，或傳統(tǒng)粘膜支持的全口義齒修復(fù)。其中下頜全口義齒修復(fù)占大部分。

2、下頜總義齒的制作，醫(yī)生用一定水粉比例、流動性較好的藻酸鹽材料制取下頜牙槽嵴及粘膜轉(zhuǎn)折處、磨牙后墊、下頜舌骨嵴、舌系帶、下唇系帶等解剖結(jié)構(gòu)的陰模又叫做下頜初印模，用模具把初印模灌注成石膏模型，在石膏模型上制作個別托盤，制取終印模及頜位關(guān)系。用下頜終印?；＞吖嘧⑾骂M工作模型，在下頜工作模型上技師排牙，試戴無誤后充膠完成下頜總義齒。

3、下頜總義齒修復(fù)時，需要給患者的下頜取初印模、終印模兩次印模，再灌注兩次石膏模型。下頜無牙頜石膏模型是下頜藻酸鹽或硅橡膠印模內(nèi)灌注調(diào)拌好的石膏材料形成的陽模。下頜總義齒修復(fù)時，需要給患者的下頜取初印模、終印模兩次印模，再灌注兩次石膏模型。下頜無牙頜石膏模型是下頜藻酸鹽或硅橡膠印模內(nèi)灌注調(diào)拌好的石膏材料形成的陽模。下頜總義齒在精準(zhǔn)的下頜無牙頜模型上制作，模型是總義齒成功的開始。下頜無牙頜印模到準(zhǔn)確的下頜石膏模型，正確的模型灌注是制作高質(zhì)量模型的基礎(chǔ)。所以模型灌注在下頜總義齒制作中有至關(guān)重要的作用。下頜印模頰側(cè)邊緣較均勻一致，但舌側(cè)邊緣呈現(xiàn)“s”型線條，舌下腺區(qū)、下頜舌嵴、下頜舌骨后窩處具有不同的厚度和高度，想要灌注得到理想形態(tài)的下頜模型，面臨著操作較復(fù)雜的技術(shù)瓶頸。目前石膏模型灌注有兩種方法：直接灌注法和圍模灌注法，這兩種方法灌注的石膏脫模后都需要大量修整。

4、直接灌注法先把石膏放入印模里，扣在平面上，待石膏凝固后取下，大致修整石膏模型厚度及側(cè)壁，然后把石膏模型放在金屬底板上。在金屬底板上再加一些石膏，使模型前后緣與金屬底板平齊。

5、圍模灌注法是在印模外周用材料圈圍，這個步驟稱為圍模。無牙頜的初模型及工作模型均可用圍模灌注，圍模灌注可獲得厚度適宜、外形規(guī)整的石膏模型，減少石膏打磨量和石膏用量。圍模的原理是在印模周圍形成一個盒形，包括兩部分，一部分是在印模組織面的外緣形成模型邊臺，寬度大于5mm,距離印模邊緣3mm.另一部分在模型邊臺外緣形成圍板，圍板上緣之印模最高處大于10mm.常用的圍模方法有蠟片圍模法、型盒圍模法、硅橡膠圍模法等。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有石膏模型灌注法的缺點，下頜無牙頜模型需要灌注更深導(dǎo)致人為誤差大的問題，為了減少人為誤差，適應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)化作業(yè)的需要，本實用新型提供一種下頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座和側(cè)壁，底座上部開口，底座下部開有圓三角形孔洞，四周封閉，底座和側(cè)壁圍成一個內(nèi)部空間，側(cè)壁的后部距離底座內(nèi)部空間的深度以及側(cè)壁前部距離底座內(nèi)內(nèi)部空間深度尺寸設(shè)計恰當(dāng)，這樣便于操作；并且發(fā)現(xiàn)將該模型灌注用裝置外圍設(shè)計成近橢圓形更便于握持操作，從而可獲得厚度適宜、外形規(guī)整的石膏模型，減少石膏打磨量和石膏用量。

2、具體來說，本實用新型提供了如下技術(shù)方案。

3、一種下頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座(1)和側(cè)壁(2)，底座(1)上部開口，底座(1)下部開有圓三角形孔洞，四周封閉，底座(1)和側(cè)壁(2)圍成一個內(nèi)部空間，底座(1)和側(cè)壁(2)形成的外周拐角處為呈圓弧形或者近圓弧形；側(cè)壁(2)的后部距離底座內(nèi)部空間的深度為29-31mm，側(cè)壁(2)的前部距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為11-13mm。

4、優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，底座(1)和側(cè)壁(2)是一體的。

5、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(1)圍成的內(nèi)部空間與印模形狀相適應(yīng)。

6、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間比印模大，在印模置入該裝置時，印模邊緣與該裝置邊緣至少有5mm的距離。

7、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，底座(1)的底部安裝帶磁性的底盤(4)；帶磁性的底盤(4)包括轉(zhuǎn)盤(5)和支撐座(6)。

8、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，支撐座(6)的頂部與轉(zhuǎn)盤(5)之間通過軸承連接；支撐座(6)的頂部是磁性底板(7)。

9、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，磁性底板上放置磁吸片(8)。

10、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形。

11、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部最高處的部分距離底座內(nèi)部空間的深度優(yōu)選30mm。

12、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部中間低的部分是平整的，其長度為29-31mm，優(yōu)選30mm。

13、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部呈兩側(cè)高中間低的凹形。

14、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部最高處的部分距離底座內(nèi)部空間的深度優(yōu)選12mm。

15、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部中間低的部分是平整的，其長度為19-21mm，優(yōu)選20mm。

16、更優(yōu)選地，根據(jù)前述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其是用硅橡膠制作的。

17、使用本實用新型的下頜無牙頜模型灌注用裝置，只要按照灌注步驟操作即可，可以進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化作業(yè)，從而可以提高牙齒石膏模型的制作效率。使用本實用新型的下頜無牙頜模型灌注用裝置，可以一次性獲得無牙頜的下頜標(biāo)準(zhǔn)石膏模型，并且，側(cè)壁的后部距離底座內(nèi)部空間的深度以及側(cè)壁前部距離底座內(nèi)內(nèi)部空間深度尺寸設(shè)計恰當(dāng)，這樣便于操作；發(fā)現(xiàn)將該模型灌注用裝置外圍設(shè)計成近圓弧形更便于握持操作，從而可獲得厚度適宜、外形規(guī)整的石膏模型，減少石膏打磨量和石膏用量。另外，在優(yōu)選方案中利用模具底部的磁性底板和磁片，實現(xiàn)了工作模型與上合架石膏的磁性分離和復(fù)位。

技術(shù)特征：

1.一種下頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座(1)和側(cè)壁(2)，其特征在于，底座(1)上部開口，底座(1)下部開有圓三角形孔洞(3)，四周封閉，底座(1)和側(cè)壁(2)圍成一個內(nèi)部空間，底座(1)和側(cè)壁(2)形成的外周拐角處為呈圓弧形或者近圓弧形；側(cè)壁(2)的后部距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為29-31mm，側(cè)壁(2)的前部距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為11-13mm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，底座(1)和側(cè)壁(2)是一體的。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間與印模形狀相適應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)圍成的內(nèi)部空間比印模大，在印模置入該裝置時，印模邊緣與該裝置邊緣至少有5mm的距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，底座(1)的底部安裝帶磁性的底盤(4)；帶磁性的底盤(4)包括轉(zhuǎn)盤(5)和支撐座(6)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，支撐座(6)的頂部與轉(zhuǎn)盤(5)之間通過軸承連接；支撐座(6)的頂部是磁性底板(7)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，磁性底板(7)上放置磁吸片(8)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)后部呈兩側(cè)高中間低的凹形。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，側(cè)壁(2)前部呈兩側(cè)高中間低的凹形。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項所述的下頜無牙頜模型灌注用裝置，其中，其是用硅橡膠制作的。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種下頜無牙頜模型灌注用裝置，其包括底座(1)和側(cè)壁(2)，底座(1)上部開口，底座(1)下部開有圓三角形孔洞，四周封閉，底座(1)和側(cè)壁(2)圍成一個內(nèi)部空間，底座(1)和側(cè)壁(2)形成的外周拐角處為呈圓弧形或者近圓弧形；側(cè)壁(2)的后部距離底座內(nèi)部空間的深度為29?31mm，側(cè)壁(2)的前部距離底座(1)內(nèi)部空間的深度為11?13mm。本技術(shù)的裝置側(cè)壁(2)的后部距離底座(1)內(nèi)部空間的深度以及側(cè)壁(2)前部距離底座內(nèi)內(nèi)部空間深度尺寸設(shè)計恰當(dāng)，這樣便于操作；并且發(fā)現(xiàn)將該模型灌注用裝置外圍設(shè)計成近橢圓形更便于握持操作，從而可獲得厚度適宜、外形規(guī)整的石膏模型，減少石膏打磨量和石膏用量。

技術(shù)研發(fā)人員：曲宸
受保護(hù)的技術(shù)使用者：首都醫(yī)科大學(xué)附屬北京潞河醫(yī)院
技術(shù)研發(fā)日：20231229
技術(shù)公布日：2024/12/19