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      口腔清潔設(shè)備、控制方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)與流程

      文檔序號:39346248發(fā)布日期:2024-09-10 12:10閱讀:32來源:國知局
      口腔清潔設(shè)備、控制方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)與流程

      本申請涉及口腔清潔設(shè)備,例如涉及一種口腔清潔設(shè)備、控制方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。


      背景技術(shù):

      1、目前,沖刷一體的口腔清潔設(shè)備,集成有牙齒清潔和牙縫沖洗的功能。

      2、相關(guān)技術(shù)中,沖刷一體的口腔清潔設(shè)備通常包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)部件。在口腔清潔設(shè)備運(yùn)行過程中,通過其中一個(gè)驅(qū)動(dòng)部件驅(qū)動(dòng)牙刷頭振動(dòng)或擺動(dòng),實(shí)現(xiàn)牙齒清潔功能。并通過另一個(gè)驅(qū)動(dòng)部件帶動(dòng)水等清洗流體從噴頭噴出,實(shí)現(xiàn)牙縫沖洗功能。

      3、然而,在口腔清潔設(shè)備運(yùn)行過程中,多個(gè)驅(qū)動(dòng)部件會(huì)同步運(yùn)轉(zhuǎn)。多個(gè)部件同步運(yùn)轉(zhuǎn)的情況下,牙刷頭振動(dòng)或擺動(dòng)會(huì)干擾噴頭噴水,影響沖洗效果。從而,影響口腔清潔設(shè)備的清潔效果。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、為了對披露的實(shí)施例的一些方面有基本的理解,下面給出了簡單的概括。所述概括不是泛泛評述,也不是要確定關(guān)鍵/重要組成元素或描繪這些實(shí)施例的保護(hù)范圍,而是作為后面的詳細(xì)說明的序言。

      2、本申請實(shí)施例提供了一種口腔清潔設(shè)備、控制方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),在口腔清潔設(shè)備運(yùn)行過程中可以提高沖擊力,以提升沖洗目標(biāo)處的沖洗效果,從而提升口腔清潔設(shè)備的清潔效果。

      3、第一方面,本申請實(shí)施例提供一種口腔清潔設(shè)備,包括:

      4、清潔附件,包括運(yùn)動(dòng)清潔元件以及流體清潔元件;

      5、與所述清潔附件連接的握持主體,包括:

      6、驅(qū)動(dòng)所述運(yùn)動(dòng)清潔元件執(zhí)行位移運(yùn)動(dòng)的致動(dòng)器;

      7、與所述流體清潔元件連通的泵機(jī)構(gòu),通過連通路徑向所述流體清潔元件輸送流體介質(zhì)以執(zhí)行流體沖擊;

      8、以及控制組件,所述控制組件控制所述致動(dòng)器與所述泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn),以使所述清潔附件執(zhí)行周期性的清潔運(yùn)動(dòng):

      9、在所述清潔運(yùn)動(dòng)期間,所述控制組件保持所述致動(dòng)器與所述泵機(jī)構(gòu)中的一個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn),并關(guān)閉另一個(gè)。

      10、第二方面,本申請實(shí)施例提供一種口腔清潔設(shè)備的控制方法,應(yīng)用于如第一方面所述的口腔清潔設(shè)備。所述方法包括:

      11、控制所述致動(dòng)器與所述泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn),以使所述清潔附件執(zhí)行周期性的清潔運(yùn)動(dòng):

      12、在所述清潔運(yùn)動(dòng)期間,保持所述致動(dòng)器與所述泵機(jī)構(gòu)中的一個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn),并關(guān)閉另一個(gè)。

      13、第三方面,本申請實(shí)施例提供一種電子設(shè)備,包括處理器和存儲(chǔ)有程序指令的存儲(chǔ)器,其中,所述處理器被配置為在運(yùn)行所述程序指令時(shí),執(zhí)行如第二方面所述的口腔清潔設(shè)備的控制方法。

      14、第四方面,本申請實(shí)施例提供一種存儲(chǔ)介質(zhì),存儲(chǔ)有程序指令,其中,所述程序指令在運(yùn)行時(shí),執(zhí)行如第二方面所述的口腔清潔設(shè)備的控制方法。

      15、本申請實(shí)施例提供的口腔清潔設(shè)備、控制方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),可以實(shí)現(xiàn)以下技術(shù)效果:

      16、在口腔清潔設(shè)備運(yùn)行過程中,通過控制組件控制致動(dòng)器和泵機(jī)構(gòu)交替運(yùn)轉(zhuǎn),能夠?qū)崿F(xiàn)泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí),致動(dòng)器暫停運(yùn)轉(zhuǎn)。這樣,泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)過程中,即泵機(jī)構(gòu)通過連通路徑向流體清潔元件輸送的流體介質(zhì),利用流體介質(zhì)的流體沖擊效果對牙縫進(jìn)行沖洗的過程中,由于致動(dòng)器暫停運(yùn)行,無法驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)清潔元件執(zhí)行位移運(yùn)動(dòng),所以會(huì)降低運(yùn)動(dòng)清潔元件對流體介質(zhì)的流體沖擊效果的影響、降低流體輸送和/或噴射沖擊時(shí)的能量損失,間歇式的流體沖擊形成沖擊波,提高了流體沖擊力,有效將雜質(zhì)從沖擊目標(biāo)處移除,使流體介質(zhì)準(zhǔn)確沖擊到牙縫,以提升了的沖洗效果,還能使流體介質(zhì)準(zhǔn)確沖擊到目標(biāo)位置,避免被位移運(yùn)動(dòng)影響導(dǎo)致偏離沖擊目標(biāo)、降低沖擊力度,從而提升口腔清潔設(shè)備的清潔效果。

      17、以上的總體描述和下文中的描述僅是示例性和解釋性的,不用于限制本申請。



      技術(shù)特征:

      1.一種口腔清潔設(shè)備,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述清潔運(yùn)動(dòng)開始時(shí),所述控制組件啟動(dòng)所述致動(dòng)器;

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述第二預(yù)設(shè)時(shí)長與所述清潔運(yùn)動(dòng)的周期時(shí)長比值在10%至40%的范圍內(nèi)。

      4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備,其特征在于,所述第二預(yù)設(shè)時(shí)長與所述清潔運(yùn)動(dòng)的周期時(shí)長比值在15%至25%的范圍內(nèi)。

      5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備,其特征在于,所述第二預(yù)設(shè)時(shí)長在200ms至280ms范圍內(nèi)。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述清潔運(yùn)動(dòng)開始時(shí),所述控制組件啟動(dòng)所述泵機(jī)構(gòu);

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述第三預(yù)設(shè)時(shí)長與所述清潔運(yùn)動(dòng)的周期時(shí)長比值在10%至40%的范圍內(nèi)。

      8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的設(shè)備,其特征在于,所述第三預(yù)設(shè)時(shí)長與所述清潔運(yùn)動(dòng)的周期時(shí)長比值在15%至25%的范圍內(nèi)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述第三預(yù)設(shè)時(shí)長在200ms至280ms的范圍內(nèi)。

      10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述控制組件接收用戶輸入或采集歷史使用數(shù)據(jù),確定所述清潔運(yùn)動(dòng)的周期時(shí)長、所述第一預(yù)設(shè)時(shí)長和/或所述第二預(yù)設(shè)時(shí)長。

      11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述控制組件接收用戶輸入或采集歷史使用數(shù)據(jù),確定所述清潔運(yùn)動(dòng)的周期時(shí)長、所述第三預(yù)設(shè)時(shí)長和/或所述第四預(yù)設(shè)時(shí)長。

      12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述控制組件控制所述致動(dòng)器與所述泵機(jī)構(gòu)執(zhí)行所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng),達(dá)到預(yù)設(shè)周期計(jì)數(shù)或第五預(yù)設(shè)時(shí)長時(shí),停止所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng)。

      13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng)前,所述控制組件響應(yīng)于用戶輸入或感測信號,確定所述致動(dòng)器的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)以及所述泵機(jī)構(gòu)的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)。

      14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng)前,或,在所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng)后,所述控制組件控制所述致動(dòng)器運(yùn)轉(zhuǎn)。

      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備,其特征在于,所述控制組件響應(yīng)于用戶輸入或感測信號,確定所述致動(dòng)器的運(yùn)轉(zhuǎn)模式,根據(jù)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式控制所述致動(dòng)器運(yùn)轉(zhuǎn)。

      16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備,其特征在于,所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式為第一模式,所述控制組件向所述致動(dòng)器輸出初始運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù),控制所述致動(dòng)器啟動(dòng);

      17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備,其特征在于,確定當(dāng)前時(shí)間節(jié)點(diǎn)的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)包括:

      18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備,其特征在于,所述控制組件根據(jù)預(yù)設(shè)的目標(biāo)運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù),以及所述時(shí)間間隔的數(shù)量,確定所述變量和/或初始運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)。

      19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng)前,或,在所述周期性的清潔運(yùn)動(dòng)后,所述控制組件控制所述泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)。

      20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述控制組件控制所述致動(dòng)器與所述泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn),以使所述清潔附件執(zhí)行多個(gè)周期性的清潔運(yùn)動(dòng)時(shí),所述多個(gè)周期性的清潔運(yùn)動(dòng)的所述致動(dòng)器的運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)長和/或所述泵機(jī)構(gòu)的運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)長不同。

      21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述清潔運(yùn)動(dòng)開始時(shí),所述控制組件啟動(dòng)所述泵機(jī)構(gòu);

      22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的設(shè)備,其特征在于,所述第八預(yù)設(shè)時(shí)長在80ms至120ms范圍內(nèi),和/或,所述第九預(yù)設(shè)時(shí)長在80ms至120ms范圍內(nèi)。

      23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的設(shè)備,其特征在于,所述第十預(yù)設(shè)時(shí)長在120ms至250ms范圍內(nèi),和/或,所述第十一預(yù)設(shè)時(shí)長在600ms至1000ms范圍內(nèi)。

      24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,在所述清潔運(yùn)動(dòng)開始時(shí),所述控制組件啟動(dòng)所述致動(dòng)器;

      25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的設(shè)備,其特征在于,所述第十二預(yù)設(shè)時(shí)長在80ms至120ms范圍內(nèi),和/或,所述第十三預(yù)設(shè)時(shí)長在80ms至120ms范圍內(nèi)。

      26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的設(shè)備,其特征在于,所述第十四預(yù)設(shè)時(shí)長在600ms至1000ms范圍內(nèi),和/或,所述第十五預(yù)設(shè)時(shí)長在120ms至250ms范圍內(nèi)。

      27.一種口腔清潔設(shè)備的控制方法,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求1至26任一項(xiàng)所述的口腔清潔設(shè)備;所述方法包括:

      28.一種電子設(shè)備,包括處理器和存儲(chǔ)有程序指令的存儲(chǔ)器,其特征在于,所述處理器被配置為在運(yùn)行所述程序指令時(shí),執(zhí)行如權(quán)利要求27所述的口腔清潔設(shè)備的控制方法。

      29.一種存儲(chǔ)介質(zhì),存儲(chǔ)有程序指令,其特征在于,所述程序指令在運(yùn)行時(shí),執(zhí)行如權(quán)利要求27所述的口腔清潔設(shè)備的控制方法。


      技術(shù)總結(jié)
      本申請涉及口腔清潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,公開一種口腔清潔設(shè)備,在口腔清潔設(shè)備運(yùn)行過程中,通過控制組件控制致動(dòng)器和泵機(jī)構(gòu)交替運(yùn)轉(zhuǎn),能夠?qū)崿F(xiàn)泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí),致動(dòng)器暫停運(yùn)轉(zhuǎn)。泵機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)過程中,即泵機(jī)構(gòu)通過連通路徑向流體清潔元件輸送的流體介質(zhì),利用流體介質(zhì)的流體沖擊效果對牙縫進(jìn)行沖洗的過程中,由于致動(dòng)器暫停運(yùn)行,無法驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)清潔元件執(zhí)行位移運(yùn)動(dòng),所以會(huì)降低運(yùn)動(dòng)清潔元件對流體介質(zhì)的流體沖擊效果的影響,以提升牙縫的沖洗效果,從而提升口腔清潔設(shè)備的清潔效果。本申請還公開一種口腔清潔設(shè)備的控制方法及電子設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)。

      技術(shù)研發(fā)人員:趙晉宏,尹值坤,孟凡迪
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳素士科技股份有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/9/9
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