布裝置進行說明。需要說明的是，對與上述各實施方式中說明的部件相同的部件標注相同的標記，并省略部分說明。
[0163]上述第3實施方式的支架的制造方法中，公開了以下實施方式:作為減少涂布液a的附著量的涂布液減少機構(gòu)，使用清洗噴嘴266的清洗部413，例如，涂布液減少機構(gòu)也可以由捕集部513構(gòu)成，所述捕集部513刮取附著于噴嘴266的涂布液a。
[0164]如圖20(A)表示的那樣，本實施方式的涂布裝置500中，涂布液除去部具有臂部512和捕集部513，所述臂部512由關(guān)節(jié)部511形成，所述捕集部513設(shè)置于臂部512的前端。
[0165]臂部512的動作方式如下:例如，噴嘴266對第I主支撐部32的涂布操作結(jié)束后，與在噴嘴266執(zhí)行自支架10的彎曲部等31背離移動(跳離)的動作時發(fā)送的控制信號同步，使設(shè)置于前端的捕集部513以接近噴嘴266的方式動作。另外，捕集部513接近能夠捕集涂布液a的位置后，執(zhí)行擦拭噴嘴266的前端表面那樣的動作。通過該動作，可以良好地除去附著于噴嘴266的前端的涂布液a。
[0166]就捕集部513而言，例如，可以形成為如圖示那樣的大致3字型的形狀，但只要是能夠捕集涂布液a的形狀。則形狀不受特別限定。但是，形成為大致=字型時，可以以使涂布液a掛于捕集部513的方式捕集涂布液a，因此，能夠良好地進行涂布液a的除去。構(gòu)成捕集部513的材料的材質(zhì)也不受特別限定，可以使用已知的樹脂材料、金屬材料。
[0167]圖20(B)表示涂布液除去部的變形例。該變形例的涂布液除去部具有排出部553，所述排出部553能夠抽吸或排出涂布液。抽吸排出部553在內(nèi)部形成有能夠流通涂布液a的內(nèi)腔555。抽吸排出部553的動作方式如下:與在噴嘴266執(zhí)行自支架10的彎曲部等31背離移動(跳離)的動作時發(fā)送的控制信號同步，進行抽吸或排出動作(流體的吹噴等)。由于涂布液a被通過抽吸排出部553的抽吸動作或排出動作除去，因此，可以良好地防止涂布液a涂布于主支撐部32、33的外側(cè)表面34、37以外的部位，并可以進一步提高制造時的材料利用率。需要說明的是，作為用于產(chǎn)生抽吸力或排出力的機構(gòu)，可以使用已知的栗等。
[0168]像以上那樣，作為減少附著于噴嘴266的涂布液a的涂布量的方法，說明了各種方法，而各實施方式的方法可以適當組合。例如，在使出自噴嘴266的涂布液a的噴出量變化的狀態(tài)下，通過執(zhí)行噴嘴266的阻塞、噴嘴266的清洗、涂布液a的除去等，可以進一步減少貯留于噴嘴266的涂布液a的量。
[0169]需要說明的是，第2?第4實施方式的方法(裝置)中，對與沿X軸方向的跳離同步(連動)地減少附著于噴嘴的涂布液的涂布量的步驟進行了說明，但也可以像上述第I實施方式中說明的那樣，與使噴嘴通過彎曲部(或連接部)的外側(cè)、內(nèi)側(cè)的動作連動地減少涂布液的涂布量。
[0170]此外，上述各實施方式中進行了以下說明:使噴嘴266向彎曲部31、連接部22的外側(cè).內(nèi)側(cè)移動、或背離移動時，在撐條30上方與噴嘴266移動的時刻同步地改變(減少或停止等)涂布液a的噴出量，但所述同步不僅限于在與移動相同的時刻使噴出量變化。例如，假設(shè)沿X軸方向的跳離期間需要T小時，則也可以僅在從將該期間除以4而得的T/4起到3T/4為止的時間段改變涂布液a的噴出量。即，可以在噴嘴266離開第I主支撐部32時持續(xù)涂布液a的供給，在越過彎曲部31移動過程中停止涂布液a的供給，在到達第2主支撐部33前重新開始涂布液a的供給?？梢栽谒^跳離動作的期間內(nèi)連動，也可以僅在跳離的中段改變噴出量。如果與跳離開始同時停止涂布液a的供給，或與跳離結(jié)束同時重新開始涂布液a的供給，則可能造成涂布的不均。因此，通過像上述那樣僅在中段改變噴出量，能夠在即將跳離之前、跳離后的撐條30上均勻地涂布，也可以防止涂布液溢出至撐條側(cè)面。此外，涂布液a的粘性可以造成拉絲消失的效果。另外，所謂中段不僅是如前述那樣的時間比例的中間，也可以是距離比例的中間。
[0171]本發(fā)明不僅限于上述各實施方式，可以在權(quán)利要求的范圍進行各種改變。例如，可以在缸部設(shè)置多個貯存有不同的涂布液的第I涂布頭，一邊切換第I涂布頭，一邊重疊涂布涂布液。此時，在通過藥物的濃度改變涂布液的方式中，使藥物包覆層的厚度方向的藥物濃度變化;另外，在通過藥物自身的種類改變涂布液的方式中，通過使藥物的種類根據(jù)藥物包覆層的厚度方向的位置變化，可以得到復(fù)合性藥效。
[0172]本申請基于2013年9月27日提出申請的日本專利申請第2013-200840號，其公開內(nèi)容作為參考被整體引用。
[0173]附圖標記說明
[0174]10 支架
[0175]20環(huán)狀體
[0176]22連接部
[0177]30 撐條
[0178]31彎曲部
[0179]32,33主支撐部
[0180]34、37外側(cè)表面
[0181]40底涂包覆層
[0182]42藥物包覆層
[0183]44重疊涂布層
[0184]200、300、400、500 涂布裝置
[0185]220保持件
[0186]230移動裝置(移動機構(gòu))
[0187]240第I涂布頭
[0188]245第2涂布頭
[0189]252分配器
[0190]262噴嘴部
[0191]266 噴嘴
[0192]290控制部
[0193]310涂布液減少機構(gòu)
[0194]313噴嘴阻塞部
[0195]410涂布液除去部
[0196]413清洗部
[0197]513捕集部
[0198]553抽吸排出部
[0199]D長度之差
[0200]G 間隔
[0201]T重疊涂布層的厚度
[0202]S 軸向
[0203]Θ傾斜角
【主權(quán)項】
1.一種支架的制造方法，其特征在于: 具有藥物包覆工序，將藥物包覆于具有環(huán)狀體的支架，所述環(huán)狀體由波狀的撐條構(gòu)成，所述撐條至少具有藥物包覆的第I主支撐部和第2主支撐部、形成于所述第I主支撐部和第2主支撐部之間的彎曲部； 所述藥物包覆工序包括未包覆部形成工序，通過下述步驟防止所述藥物涂布于所述彎曲部:使噴出涂布液的噴嘴沿所述第I主支撐部移動而使所述藥物包覆于所述第I主支撐部的外側(cè)表面，所述涂布液是將所述藥物和聚合物溶解于溶劑而得的，由此，所述噴嘴到達所述彎曲部時，使所述噴嘴越過所述彎曲部向所述第2主支撐部移動； 所述未包覆部形成工序中，減少所述噴嘴越過所述彎曲部移動期間附著于所述噴嘴的所述涂布液的附著量。2.如權(quán)利要求1所述的支架的制造方法，其特征在于，所述未包覆部形成工序中，在所述噴嘴越過所述彎曲部移動期間，使出自所述噴嘴的所述涂布液的噴出量變化。3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的支架的制造方法，其特征在于，所述未包覆部形成工序中，在所述噴嘴越過所述彎曲部移動期間將所述噴嘴阻塞。4.如權(quán)利要求1?3中任一項所述的支架的制造方法，其特征在于，所述未包覆部形成工序中，在所述噴嘴越過所述彎曲部移動期間除去附著于所述噴嘴的所述涂布液。5.如權(quán)利要求1?4中任一項所述的支架的制造方法，其特征在于: 所述藥物包覆工序中， 一邊使所述噴嘴沿所述撐條移動，一邊從所述噴嘴噴出所述涂布液來調(diào)整所述藥物包覆層的厚度，從而使所述第I主支撐部及所述第2主支撐部的所述藥物包覆層的厚度朝向所述彎曲部逐漸減小。6.如權(quán)利要求1?5中任一項所述的支架的制造方法，其特征在于: 所述環(huán)狀體沿所述支架的軸向多個并列配置； 所述撐條還具有連接部，所述連接部用于將相鄰環(huán)狀體間一體化； 在所述藥物包覆工序中進一步實施如下的未包覆部形成工序，通過下述步驟防止所述藥物涂布于所述連接部:所述噴嘴到達所述連接部時，使所述噴嘴越過所述連接部地移動，該未包覆部形成工序中減少附著于所述噴嘴的所述涂布液的附著量。7.如權(quán)利要求1?6中任一項所述的支架的制造方法，其特征在于，在所述噴嘴離開所述第I主支撐部時持續(xù)所述涂布液的供給，在越過所述彎曲部移動過程中停止所述涂布液的供給，在到達所述第2主支撐部前重新開始所述涂布液的供給。8.—種涂布裝置，其是將藥物包覆于具有環(huán)狀體的支架的涂布裝置，所述環(huán)狀體由波狀的撐條構(gòu)成，所述撐條至少具有藥物包覆的第I主支撐部和第2主支撐部、形成于所述第I主支撐部和第2主支撐部之間的彎曲部， 所述涂布裝置的特征在于，具有: 保持件，其保持所述支架； 噴嘴，其噴出涂布液，所述涂布液是將藥物和聚合物溶解于溶劑而得的； 移動機構(gòu)，其使所述保持件和所述噴嘴相對地移動，從而使所述涂布液涂布于所述支架的規(guī)定部位； 控制部，其控制所述涂布裝置的各部分的動作； 通過使所述噴嘴沿所述第I主支撐部移動，使所述藥物包覆于所述第I主支撐部的外側(cè)表面，通過在所述噴嘴到達所述彎曲部時使所述噴嘴越過所述彎曲部向所述第2主支撐部移動，防止所述藥物涂布于所述彎曲部，并且，在所述噴嘴越過所述彎曲部移動期間減少附著于所述噴嘴的所述涂布液的附著量。9.如權(quán)利要求8所述的涂布裝置，其特征在于，所述控制部在所述噴嘴越過所述彎曲部移動期間使出自所述噴嘴的所述涂布液的噴出量變化。10.如權(quán)利要求8或權(quán)利要求9所述的涂布裝置，還具有涂布液減少機構(gòu)，所述涂布液減少機構(gòu)減少附著于所述噴嘴的所述涂布液的附著量。11.如權(quán)利要求10所述的涂布裝置，其特征在于，所述涂布液減少機構(gòu)具有阻塞所述噴嘴的噴嘴阻塞部。12.如權(quán)利要求1O或權(quán)利要求11所述的涂布裝置，其特征在于，所述涂布液減少機構(gòu)具有涂布液除去部，所述涂布液除去部除去附著于所述噴嘴的所述涂布液。13.如權(quán)利要求12所述的涂布裝置，其中，所述涂布液除去部至少具有下述中的一個:清洗部，其清洗所述噴嘴;捕集部，其刮取所述涂布液;及抽吸排出部，其抽吸或排出所述涂布液。14.如權(quán)利要求8?13中任一項所述的涂布裝置，其特征在于: 所述環(huán)狀體沿所述支架的軸向多個并列配置； 所述撐條還具有連接部，所述連接部用于將相鄰環(huán)狀體間一體化； 該涂布裝置在所述噴嘴到達所述連接部時使所述噴嘴越過所述連接部移動，從而防止所述藥物涂布于所述連接部，并且，在所述噴嘴越過所述連接部移動期間減少附著于所述噴嘴的所述涂布液的附著量。15.如權(quán)利要求8?14中任一項所述的涂布裝置，其特征在于，在所述噴嘴離開所述第I主支撐部時持續(xù)所述涂布液的供給，在越過所述彎曲部移動過程中停止所述涂布液的供給，在到達所述第2主支撐部前重新開始所述涂布液的供給。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種支架的制造方法及涂布裝置，所述方法中，由伴隨支架的擴張變形的應(yīng)力集中或應(yīng)變導(dǎo)致的藥物的剝離或脫落被抑止，且藥效的均勻性及制造時的材料利用率進一步提高。所述方法包括未包覆部形成工序，通過下述步驟防止藥物涂布于彎曲部：噴嘴(266)到達彎曲部(31)時，使噴嘴越過彎曲部向主支撐部(32)、(33)移動，未包覆部形成工序中，減少噴嘴(266)越過彎曲部移動期間附著于噴嘴的涂布液(a)的附著量。
【IPC分類】A61F2/915, B05C5/00
【公開號】CN105578996
【申請?zhí)枴緾N201480053338
【發(fā)明人】丸山和宏, 黑田康之, 渡邊將生, 武田和幸
【申請人】泰爾茂株式會社
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2014年9月22日
【公告號】EP3034048A1, WO2015046168A1