專利名稱：廢氣處理槽的清除裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種廢氣處理槽的清除裝置，更具體地說，涉及一種在半導體廢氣處理設備中廢氣處理槽的清除裝置，該裝置具有多段變速清潔能力。
在目前半導體生產制造過程中，均會產生高溫和具有毒性的廢氣，為了避免該廢氣對環(huán)境造成污染與公害，必須首先將該廢氣內的有害成份予以過濾去除，再將溫度降低至適當溫度后才能排出。
如圖6所示，目前在車間中常用的解決處理方式是首先將半導體制程中產生的廢氣注入到廢氣處理槽內，再經由廢氣處理槽下方的通道進入到廢氣清洗過濾槽內。在廢氣處理槽下端設置有一刮除裝置和一冷卻水噴灑裝置，先通過冷卻水噴灑裝置將高溫的廢氣予以冷卻；再利用刮除裝置的上下往復運動將附著于廢氣處理槽內壁上的沉淀物等雜質刮除掉，從而防止沉淀物等雜質凝固成塊并附著于廢氣處理槽的內壁上。其中，廢氣清洗過濾槽的作用是將經冷卻水噴灑裝置降溫的廢氣進行進一步冷卻，并經由洗滌、過濾后，再經廢氣清洗過濾槽上方的排出口排出。
利用前述的刮除裝置和冷卻水噴灑裝置來施行的刮除、冷卻作業(yè)，是半導體制程中日常作業(yè)的一部份。只要半導體制造裝置處于運轉中，此套裝置就必須進行廢氣處理工作，以防止在半導體制程中產生的廢氣對環(huán)境造污染與公害。
但是在實際使用過程中，發(fā)現半導體廢氣處理設備在長時間運轉時，還會在廢氣處理槽內壁上積累一層堅硬的附著物，并且會越積越厚，最后便會將廢氣處理槽堵塞，進而影響半導體的生產制造。因此，半導體廢氣處理設備長時間運轉后，必需停機進行預防性的清除作業(yè)，即將附著于廢氣處理槽內壁上的附著物予以清除。
目前，車間中在廢氣處理槽上使用的較新型的清除裝置是美國專利NO.6010576中所揭示的專利技術，此種廢氣處理槽的清除裝置是將三只刮刀沿一圓環(huán)的圓周進行等距設置，該圓環(huán)與廢氣處理槽內壁的大小相等。利用齒條的往復傳動，使三只刮刀能夠各自做120度的往復轉動，從而形成360度的環(huán)周往復轉動，將廢氣處理槽內壁上的附著物清除掉。
然而，上述美國專利中廢氣處理槽的清除裝置，在實際使用過程，因無法等圓周實施360度連續(xù)旋刮作業(yè)，且無法有效利用旋刮時的轉速，以致于其清除效率不高。
為此，尋求一種具有較佳清潔能力和工作效率的方式或裝置來處理半導體制程中廢氣處理槽內壁上的附著物已是本技術領域中極待解決的問題。
本實用新型的目的在于提供一種能夠提升清潔能力的廢氣處理槽的清除裝置。
本實用新型的另一目的在于提供一種能夠維持廢氣處理槽正常工作效率的清除裝置。
為了實現上述目的，本實用新型中廢氣處理槽的清除裝置包括有一主體，在該主體上設置有一清潔機構和一傳動機構。其中所述主體是在一圓形框座上設置有一上蓋板和一下蓋板，在該圓形框座內部開設有供冷卻氣體流通的通道和可容置齒盤旋轉的空間；所述清潔機構是在一圓框形轉盤上等間距地環(huán)繞設置有一只或多只刮刀，該刮刀的刀鋒緊貼于廢氣處理槽的內壁，該轉盤設置于一齒盤上，而齒盤樞設于上述圓形框座內；所述傳動機構設置于所述圓形框座的一側，其利用一伺服馬達來驅動一蝸桿，該蝸桿與傳動齒輪嚙合，而傳動齒輪與清潔機構內的齒盤嚙合。
另外，在所述清潔機構的圓框形轉盤上設置有多只刮刀時，可在等間環(huán)繞設置的刮刀前端緣處設置一撐架。
另外，還可在所述主體周邊設置有一氣壓冷卻機構，該氣壓冷卻機構由多個T型接頭、L型接頭和氣壓軟管相互連接而成，并與圓形框座內部開設的通道相連通。通過該氣壓冷卻機構將冷卻氣體傳遞、輸送至圓形框座內部開設的通道內，以降低清潔機構在清除廢氣處理槽內壁上的附著物時，傳動機構由于阻力而引起過熱現象，同時，可防止粉末進入到該傳動機構內。
上述清除裝置利用一傳動機構來提升清潔機構的清潔能力和扭力，并通過該傳動機構使得該清潔機構具有多段變速能力。另外，該清除裝置利用一氣壓冷卻裝置來降低廢氣的溫度，從而維持該清除裝置的正常工作效率。
下面將結合附圖對本實用新型中的具體實施例作進一步詳細說明。


圖1是本實用新型中清除裝置的立體圖；圖2是本實用新型中清除裝置的分解立體圖；圖3是本實用新型中清除裝置的正視剖面圖；圖4是本實用新型中清除裝置的側視剖面圖；圖5是本實用新型中清除裝置的另一實施例圖；圖6是現有半導體廢氣處理設備的示意圖。
如
圖1所示，本實用新型中廢氣處理槽的清除裝置是針對半導廢氣處理設備中的廢氣處理槽所設計的。該裝置包括一主體1，在主體1上設置有一清潔機構3、一傳動機構2和一氣壓冷卻機構4。
其中，如圖2所示，主體1由上蓋板11和下蓋板12結合一圓形框座13組成。在圓形框座13內部開設有供冷卻氣體流通的通道14和一可容置齒盤31旋轉的空間。在上蓋板11和下蓋板12上均開設有一環(huán)狀凹槽15和一環(huán)狀軌道16，并在上蓋板11和下蓋板12的環(huán)狀凹槽15內設置有一支撐墊圈17。
清潔機構3是在一圓框形轉盤32上等距離環(huán)繞設置有一只或多只刮刀33，該刮刀33的刀鋒331緊貼于廢氣處理槽6的內壁61上。而轉盤32上設于齒盤31上，在該齒盤31的內緣上下延制有一環(huán)狀凸肋311和多個供氣體流動的通氣孔312，同時，該齒盤31設于圓形框座13內，如圖2所示，借助于傳動機構2內的齒輪22來帶動該齒盤31。
傳動機構2設于圓形框座13的一側，如圖4所示，該傳動機構由一設于支架51上的伺服馬達5來驅動，并通過一軸聯結器23連結有一蝸桿21，再由該蝸桿21來帶動一傳動齒輪22，經傳動齒輪22來帶動齒盤31轉動，如圖3所示，從而使設于齒盤31上的圓形框座32隨著轉動，進而帶動刮刀33的刀鋒33 1緊貼于廢氣處理槽6的內壁61作360度旋轉。同時，刮刀33的旋轉速度可根據需要來調整伺服馬達5的轉速，使清潔機構3的轉速得以相對提升，并提供較大的扭力。另外，在蝸桿21和齒輪22上方組設有一潤滑油杯7，如
圖1所示，便于潤滑蝸桿21和齒輪22，以提高其使用壽命。
氣壓冷卻機構4由多只T型接頭41、L型接頭42和氣壓軟管43組成。該氣壓冷卻機構4設置于圓形框座13的周邊，如圖2所示，以傳遞、輸送冷卻氣體至圓形框座13內部開設的通道14和齒盤31上的通氣孔312內，從而降低清潔機構3在清除廢氣處理槽6內壁61上的附著物時，傳動機構2由于阻力而引起過熱的過象，同時，還能防止粉末進入到傳動機構2內。
當將本實用新型中的清除裝置置于廢氣處理槽內時，通過齒盤31上的環(huán)狀凸肋311使其樞設于上蓋板11和下蓋板12的環(huán)狀軌道16內，如圖3所示，并不會任意移動而偏離原來的位置。同時，借由環(huán)狀凹槽15內支撐墊圈17的支撐作用，使齒盤31上環(huán)狀凸肋311在轉動時不會直接與環(huán)狀軌道16發(fā)生磨擦，而清潔機構3內的一只或多只刮刀33的刀鋒331能夠緊貼于廢氣處理槽6內壁61上作360度旋轉，從而清除廢氣處理槽6內壁61上的附著物。
當清潔機構3在清除廢氣處理槽6內壁61上的附著物時，傳動機構2會因為阻力而引起過熱現象，該過熱現象可通過氣壓冷卻機構4中的多個T型接頭41、L型接頭42和氣壓軟管43將冷卻氣體輸送、傳遞至圓形框座13內部開設的通道14和齒盤31的通氣孔312內進行冷卻，如
圖1所示，從而降低溫度并維持正常的工作效率。同時，利用該連續(xù)進入的冷卻氣體將在清除廢氣處理槽6內壁61時所產生的粉末吹出，從而防止粉末進入到傳動機構2內。
當廢氣處理槽內積疊的附著物經過日積月累的積疊后，會緊貼在廢氣處理槽6內壁61的表面上，因此，可調整伺服馬達來提升清潔機構3的轉速及扭力，從而提升旋轉的速度，并加強刮刀33的力量，進而提高清潔機構3的清潔能力及工作效率。
如果當清潔機構3的速度已提升至最高轉速和扭力，仍無法將緊貼于廢氣處理槽6內壁61上的附著物清除時，清潔機構3會自動回轉倒退，再重新旋轉前進，再次對緊貼于廢氣處理槽6內壁61上的附著物進行清除作業(yè)，依此程序重復進行三次。
倘若，該程序還未能將緊貼于廢氣處理槽6內壁61上的附著物清除掉時，清潔機構3便會自動停止作業(yè)，同時發(fā)出警告訊號，通知維修人員進行檢查或維修作業(yè)，以確保該清潔裝置在使用時的安全性。
另外，由于本實用新型中的清潔機構3能夠緊貼于廢氣處理槽6內壁61上作360度的旋轉，所以該清潔機構3內的刮刀33可根據需要而組設有一只或多只，并同樣都具有清除廢氣處理槽6內壁61上附著物的能力，如圖5所示。但是，組設有多只刮刀33的清清潔機構為最佳的清潔機構，因為當清潔機構3內的刮刀33對廢氣處理槽6內壁61進行旋轉清除作業(yè)時，會因旋轉關系而產生扭力，若能夠等間環(huán)繞組設多只刮刀33，并在多只刮刀33內緣332的前端等間環(huán)繞組設有撐架34，如
圖1所示，從而其旋轉產生的扭力會因撐架34而達到平衡，并借助于撐架34的支撐作用而使其不會受到反作用力的影響，而如果任意晃動則會影響其清潔能力。
綜上所述，本實用新型中的清除裝置是利用伺服馬達驅動蝸桿及齒輪來傳遞動力的，使清潔機構3內的一只或多只刮刀作360度旋轉，并可依需要來調整伺服馬達的轉速，從而使清潔機構3的轉速得以相對提升，并提供較佳的清潔能力和扭力。再利用氣壓冷卻機構4內的多只T型接頭41、L型接頭42和氣壓軟管43來輸送、傳遞冷卻氣體，以降低清潔機構3在清除廢氣處理槽內壁上的附著物時，傳動機構2由于阻力而引起的過熱現象。同時，還能防止粉末進入到傳動機構2內，以維持清潔機構3正常的工作效率。因此，本實用新型中的清潔裝置確實能夠提升其清潔能力，同時還能維持其正常的工作效率，在產業(yè)上具有進步性和穩(wěn)定性。
權利要求1.一種廢氣處理槽的清除裝置，包括有一主體，在該主體上設置有一清潔機構和一傳動機構，其特征在于所述主體是在一圓形框座上設置有一上蓋板和一下蓋板，在該圓形框座內部開設有供冷卻氣體流通的通道和可容置齒盤旋轉的空間；所述清潔機構是在一圓框形轉盤上等間距地環(huán)繞設置有一只或多只刮刀，該刮刀的刀鋒緊貼于廢氣處理槽的內壁，該轉盤設置于一齒盤上，而齒盤樞設于上述圓形框座內；所述傳動機構設置于所述圓形框座的一側，其利用一伺服馬達來驅動一蝸桿，該蝸桿與傳動齒輪嚙合，而傳動齒輪與清潔機構內的齒盤嚙合。
2.根據權利要求1中所述的清除裝置，其特征在于在所述清潔機構的圓框形轉盤上等間環(huán)繞設置有多只刮刀，并在刮刀內緣前端處設置有一撐架。
3.根據權利要求1中所述的清除裝置，其特征在于在所述主體周邊設置有一氣壓冷卻機構。
專利摘要本實用新型公開了一種半導體廢氣處理設備中廢氣處理槽的清除裝置,該裝置包括有一主體,并在該主體上設置有一可受傳動機構控制作360度旋轉的清潔機構和一可調整清潔機構轉速及扭力的傳動機構,并配合一氣壓冷卻機構來傳遞輸送冷卻氣體,以清除清潔機構在清除廢氣處理槽內的附著物,傳動機構由于阻力而引起過熱現象,同時,維持清潔機構的正常工作效率,防止因廢氣處理槽內壁上的附著物積疊過多時影響半導體的制造作業(yè)。
文檔編號B08B9/02GK2487455SQ0121992
公開日2002年4月24日 申請日期2001年4月23日 優(yōu)先權日2001年4月23日
發(fā)明者馮五良 申請人:東服企業(yè)有限公司