專利名稱：紫外線清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種紫外線清洗裝置，尤其是有關(guān)一種利用紫外線及由紫外線照射空氣產(chǎn)生的臭氧進(jìn)行清洗的紫外線清洗裝置。
背景技術(shù)：
一般地，需要提高成品率的半導(dǎo)體器件、液晶顯示元件、光學(xué)制品的制造中，需要對(duì)其表面進(jìn)行清洗以去除工件表面的污漬及改善其表面的接著性、附著性。傳統(tǒng)的技術(shù)使用濕法清洗，在工作的表面施以藥液使其與工作表面的污漬發(fā)生反應(yīng)，在這樣的傳統(tǒng)工藝下，在其反應(yīng)后需要對(duì)工作表面的藥液殘留物進(jìn)行清洗。在清洗的過程中會(huì)產(chǎn)生新的污染。在此基礎(chǔ)上產(chǎn)生了干法光表面的處理技術(shù)。近年來由于大功率超高出力低氣壓UV放電管開發(fā)的進(jìn)展，以及隨著微電子等產(chǎn)品的超微細(xì)化，在微電子、超精密器件等產(chǎn)品的制造過程中，由短波長紫外線及其產(chǎn)生的臭氧對(duì)其產(chǎn)品的表面進(jìn)行超精密清洗或改善其表面的接著性、附著性的干式光表面處理技術(shù)的實(shí)用化進(jìn)展得很快。作為氟里昂的替代技術(shù)，光表面清洗技術(shù)將逐漸代替濕法的清洗技術(shù)。
然而，在現(xiàn)有的干法清洗中，依然存在以下問題1、UV的照度小，不能集中大量的紫外線進(jìn)行表面清洗。
2、臭氧濃度低，無法充分發(fā)揮臭氧的超強(qiáng)氧化作用。
3、臭氧分布不均，對(duì)表面清洗的效果不均勻。
4、發(fā)熱溫度高對(duì)處理對(duì)象產(chǎn)生影響。
5、臭氧排出量大，排出后要考慮對(duì)周圍人員環(huán)境產(chǎn)生的不利影響，有時(shí)甚至需要用活性碳等措施來消除。
因此，需要研制一種能夠克服以上缺點(diǎn)，有效對(duì)物品表面進(jìn)行清洗同時(shí)也能改善其表面接著性、附著性的清洗設(shè)置為當(dāng)前業(yè)界所急需。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供紫外線清洗裝置，其能夠有效清洗物品表面，同時(shí)改善其表面接著性，附著性。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種紫外線清洗裝置，用于物體表面清洗及改性，其特征在于包括反應(yīng)室、設(shè)置于反應(yīng)室的用于承載物體的工作臺(tái)，反應(yīng)室內(nèi)具有一個(gè)或多個(gè)紫外線放電管，放電管可以放射出波長280NM以下的紫外線，反應(yīng)室的一側(cè)具有出氣口并與導(dǎo)氣管相連以將反應(yīng)室內(nèi)的空氣導(dǎo)出，冷卻后自另一側(cè)的進(jìn)氣口再次導(dǎo)入反應(yīng)室。
本發(fā)明還具有以下特征所述的紫外線放電管也可以是鹵素或混合鹵素激元體放電管。
本發(fā)明的另一特征為所述放電管可為直型，也可為“W”或“N”或“U”字型形狀，且放電管可以緊排、側(cè)排或斜排以增加照度。
本發(fā)明的另一特征為所述放電管上部進(jìn)一步設(shè)置有冷卻反射板，上述冷卻反射板具有導(dǎo)氣孔和冷卻管道。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是由于導(dǎo)氣管將導(dǎo)出的混合有臭氧的空氣再次導(dǎo)入反應(yīng)室，從而臭氧密度加大，而減少溢出外界造成對(duì)近側(cè)人體的影響；紫外線放電管可以同時(shí)放兩種波長的紫外線并緊密排列，可以增加照度及臭氧濃度；冷卻反射板可以收集臭氧并冷卻，再次導(dǎo)入的空氣也可以冷卻放電管及反應(yīng)室的溫度。本發(fā)明的紫外線清洗裝置對(duì)工件的表面清洗清潔度極高，能把膜狀的污漬清洗到單分子層以下。


圖1是本發(fā)明紫外線清洗裝置的平面示意圖。
圖2是本發(fā)明圖1中所示的冷卻反射板的放大圖。
圖3A、3B、3C是本發(fā)明冷卻反射板三種構(gòu)成。
圖4是放電管緊排方式示意圖。
圖5是放電管斜排方式示意圖。
圖6A-圖6D是放電管的各種結(jié)構(gòu)形狀的示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。
請(qǐng)參閱圖1所示，本發(fā)明紫外線清洗裝置，用于物體表面清洗及改性，包括反應(yīng)室1、貫穿反應(yīng)室1用于承載工件的工作臺(tái)2，反應(yīng)室1內(nèi)具有多個(gè)紫外線放電管3，放電管3可以同時(shí)放射出波長253.7及184.9NM的紫外線，其光子能量分別為472KJ/mol和647KJ/mol，能切斷絕大多數(shù)的分子結(jié)合。上述工作臺(tái)2為一個(gè)傳送帶，其通過兩個(gè)轉(zhuǎn)輪帶動(dòng)，工件在放在工作臺(tái)2上以后，由于傳送帶的移動(dòng)使工作進(jìn)入反應(yīng)室1中。為了方便傳送帶的進(jìn)出，在反應(yīng)室1的兩側(cè)面上均開設(shè)有開口。反應(yīng)室1的一側(cè)具有出氣口11并與導(dǎo)氣管4相連以將反應(yīng)室1內(nèi)的空氣導(dǎo)出，經(jīng)抽氣冷卻裝置501冷卻后自另一側(cè)的進(jìn)氣口13再次導(dǎo)入反應(yīng)室1。上述紫外線放電管3上方部各設(shè)置一個(gè)冷卻反射板5。請(qǐng)參閱圖2以及圖3A所示第一實(shí)施例，上述冷卻反射板5上的開有冷卻管道51，其為平行于反射板5的平面，并呈彎曲連通設(shè)置，冷卻管道51內(nèi)充有冷卻液。在反射板5的邊緣適當(dāng)位置設(shè)有冷卻液進(jìn)口511和冷卻液出口512。在所述冷卻反射板5上對(duì)應(yīng)冷卻管道51位置的間隙設(shè)有若干縱向貫穿該冷卻反射板的第一導(dǎo)氣孔53和第二導(dǎo)氣孔54。第一導(dǎo)氣孔向下延伸有導(dǎo)管并突出冷卻反射板5。第一導(dǎo)氣孔53經(jīng)由第一進(jìn)氣管531匯集連通，第一進(jìn)氣管531連接進(jìn)氣口13，進(jìn)而和抽氣冷卻裝置501連接。第二導(dǎo)氣孔54直接和反應(yīng)室1連通并連通導(dǎo)氣管4。為使從第一進(jìn)氣管531送出的氣體能均勻，可在第一進(jìn)氣管531上加裝調(diào)節(jié)閥。
參見圖3B第二實(shí)施例，第二導(dǎo)氣孔54經(jīng)由第二送氣管541′匯集連通，第二送氣管541`連接抽氣冷卻裝置501。其余設(shè)計(jì)與第一實(shí)施例相同。
再參見圖3C第三實(shí)施例，所述冷卻反射板5上對(duì)應(yīng)冷卻管道51位置的間隙設(shè)有若干縱向不貫穿該冷卻反射板半通導(dǎo)氣孔54`。半通導(dǎo)氣孔54`經(jīng)由冷卻反射板5內(nèi)設(shè)的通氣冷卻管541″匯集連通，并連接抽氣冷卻裝置501。為避免通氣冷卻管541″和冷卻管道51不設(shè)在同一平面。
請(qǐng)配合參閱圖1及圖4，為了增加放電管3的照度，在反應(yīng)室1內(nèi)的放電管3進(jìn)行并排緊密排列，這樣會(huì)使紫外線清洗的效果增強(qiáng)。同時(shí)也可能增加產(chǎn)生的臭氧的量。
請(qǐng)配合參閱圖1及圖5所示，放電管3還可以采用斜排方式，將放電管3斜向設(shè)置，從而進(jìn)一步增加放電管3的照度。
請(qǐng)參閱圖6A、6B、6C及6D所示，圖中所示為放電管3的不同結(jié)構(gòu)類型，放電管3可以采用直線型，也可以采用“W”或“U”或“N”型的結(jié)構(gòu)設(shè)置，這樣能使放電管3排列更緊密，并可根據(jù)需要選擇不同的放電管3。
本發(fā)明的紫外線清洗裝置采有上述設(shè)置，將工件通過傳送帶送入反應(yīng)室1內(nèi)由UV照射固體表面，工件表面的污染物有機(jī)分子結(jié)合能夠被強(qiáng)的光能切斷。由于波長200NM以下的紫外線能夠分解氧氣分子，生成臭氧。臭氧具有極強(qiáng)的氧化作用，所以在上述情況下同時(shí)有紫外線的清洗及臭氧的清洗作用。在光表面的清洗中，紫外線與臭氧并用比單獨(dú)作用紫外線照射或臭氧氧化作用要好得多，會(huì)產(chǎn)生相乘的效果。
經(jīng)過紫外線照射反應(yīng)室1內(nèi)的空氣，產(chǎn)生的含有臭氧的空氣經(jīng)過冷卻反射板5初步冷卻并引導(dǎo)其進(jìn)入導(dǎo)氣管4，導(dǎo)氣管4在外界流通，經(jīng)過外界空氣或水的冷卻后再由第一進(jìn)氣管531進(jìn)入反應(yīng)室1。這樣，空氣經(jīng)過多次照射后臭氧的濃度增加，而且冷卻后的空氣也可以對(duì)冷卻反射板5及紫外線放電管3進(jìn)行冷卻。而且，上述放電管3緊密排列，能夠提供較強(qiáng)的照度，也會(huì)增加清洗的效果。另外，臭氧多次循環(huán)利用會(huì)使溢出外界的臭氧減少，少量的臭氧不會(huì)對(duì)人體造成大的傷害，所以可以直接排出外界，使其在空氣中分解形成氧氣。
另外，所述工作臺(tái)為一傳送帶，且上述反應(yīng)室的兩側(cè)具有開口以使傳送帶進(jìn)出。也可為一抽屜式傳送裝置，且上述反應(yīng)室的一側(cè)也有開口以使抽屜進(jìn)出。另外，所述工作臺(tái)下方設(shè)有冷卻裝置。
綜上所述，本發(fā)明完成了設(shè)計(jì)人的目的，對(duì)工件的表面清洗清潔度極高，能把膜狀的污漬清洗到單分子層以下。
權(quán)利要求
1.一種紫外線清洗裝置，用于物體表面清洗及改性，其特征在于包括反應(yīng)室、設(shè)置于反應(yīng)室的用于承載物體的工作臺(tái)，反應(yīng)室內(nèi)具有一個(gè)或多個(gè)紫外線放電管，放電管可以放射出波長280NM以下的紫外線，反應(yīng)室的一側(cè)具有出氣口并與導(dǎo)氣管相連以將反應(yīng)室內(nèi)的空氣導(dǎo)出，冷卻后自另一側(cè)的進(jìn)氣口再次導(dǎo)入反應(yīng)室。
2.如權(quán)利要求1所述的紫外線清洗裝置，其特征在于所述的一個(gè)或多個(gè)紫外線放電管是鹵素或混合鹵素激元體放電管，且可為直型，也可為“W”或“N”或“U”字型形狀，可以緊排、側(cè)排或斜排。
3.如權(quán)利要求1所述的紫外線清洗裝置，其特征在于所述放電管上方進(jìn)一步設(shè)置有冷卻反射板，冷卻反射板具有導(dǎo)氣孔和冷卻管道，冷卻反射板的冷卻管道內(nèi)充有冷卻液。
4.如權(quán)利要求3所述的紫外線清洗裝置，其特征在于所述冷卻反射板上的冷卻管道為平行于反射板的平面，并呈彎曲連通設(shè)置，且在反射板的邊緣適當(dāng)位置設(shè)有冷卻管進(jìn)口和冷卻管出口。
5.如權(quán)利要求4所述的紫外線清洗裝置，其特征在于所述冷卻反射板上對(duì)應(yīng)冷卻管道位置的間隙設(shè)有若干縱向貫穿該冷卻反射板的第一導(dǎo)氣孔和第二導(dǎo)氣孔，且所述冷卻反射板上的第一導(dǎo)氣孔向下延伸有導(dǎo)管并突出冷卻反射板。
6.如權(quán)利要求5所述的紫外線清洗裝置，其特征在于第一導(dǎo)氣孔經(jīng)由第一進(jìn)氣管匯集連通，第一進(jìn)氣管連接抽氣冷卻裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的紫外線清洗裝置，其特征在于第二導(dǎo)氣孔經(jīng)由第二送氣管匯集連通，第二送氣管連接抽氣冷卻裝置。
8.如權(quán)利要求4所述的紫外線清洗裝置，其特征在于所述冷卻反射板上對(duì)應(yīng)冷卻管導(dǎo)位置的間隙設(shè)有若干縱向不貫穿該冷卻反射板半通導(dǎo)氣孔。
9.如權(quán)利要求8所述的紫外線清洗裝置，其特征在于第二半通導(dǎo)氣孔經(jīng)由冷卻反射板內(nèi)設(shè)的通氣冷卻管匯集連通，并連接抽氣冷卻裝置。
10.如權(quán)利要求1所述的紫外線清洗裝置，其特征在于所述工作臺(tái)下方設(shè)有冷卻裝置。
全文摘要
本發(fā)明有關(guān)一種紫外線清洗裝置，用于物體表面清洗及改性，其特征在于包括反應(yīng)室、設(shè)置于反應(yīng)室的用于承載物體的工作臺(tái)，反應(yīng)室內(nèi)具有一個(gè)或多個(gè)紫外線放電管，放電管可以放射出波長280NM以下的紫外線，反應(yīng)室的一側(cè)具有出氣口并與導(dǎo)氣管相連以將反應(yīng)室內(nèi)的空氣導(dǎo)出，冷卻后自另一側(cè)的進(jìn)氣口再次導(dǎo)入反應(yīng)室。采用上述設(shè)置，增加了臭氧濃度，降低反應(yīng)室溫度，以有效清洗物體表面，并能夠改善其表面接著性。
文檔編號(hào)B08B7/00GK1706566SQ20041002502
公開日2005年12月14日 申請(qǐng)日期2004年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月9日
發(fā)明者王國征 申請(qǐng)人:上海國達(dá)特殊光源有限公司