專利名稱：清洗工具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗工具，該清洗工具有用于單獨(dú)容納待清洗物體的空間，并且將帶有容納在前述空間中的待清洗物體的清洗工具浸入清洗液中，以便清洗待清洗物體。
背景技術(shù)：
例如，通過在切割過程中將部件切割成獨(dú)立的片來制造主要由陶瓷等制成的設(shè)備，該部件與上述多個(gè)設(shè)備一體形成。用于在切割過程期間將部件固定于切割?yuàn)A具的樹脂，以及切割部件產(chǎn)生的粉末(微細(xì)碎片)附著在設(shè)備上。因此，在切割過程之后，設(shè)備應(yīng)當(dāng)用超聲波清洗等方法進(jìn)行清洗。
用來清洗設(shè)備的傳統(tǒng)清洗工具裝備有底盤，所述底盤具有至少一個(gè)頂面和具有比設(shè)備稍大點(diǎn)兒的空間，所述設(shè)備是待清洗物體，還具有蓋部件，所述蓋部件設(shè)置在空間的頂表面上。蓋部件具有網(wǎng)狀部分。容納在由清洗工具的底盤和蓋部件限定的空間中的設(shè)備浸入清洗液中，所述清洗液在帶有清洗工具的清洗桶中，由此借助清洗液對(duì)其應(yīng)用超聲波。蓋部件具有網(wǎng)狀部分，網(wǎng)狀部分可由框架和由框架支撐的網(wǎng)組成。所述網(wǎng)由經(jīng)線和緯線編織構(gòu)成，使得彼此上下交織，如圖33中的部分放大圖所示。
但是，如圖34所示，蓋部件100的網(wǎng)101在清洗期間有很大的振動(dòng)，從而設(shè)備D容納其間的空間SP的容積(空間SP的高度)會(huì)增加。這種狀態(tài)可導(dǎo)致設(shè)備D從容納設(shè)備D的空間SP中出來。當(dāng)通過增加各絲的張力，或者通過增加經(jīng)線限制緯線移動(dòng)的部分的數(shù)量時(shí)，絲的剛性增強(qiáng)，反之亦然(例如通過將網(wǎng)制得更細(xì)和更緊密)，經(jīng)線和緯線不會(huì)在這些絲組成的網(wǎng)的平面中移動(dòng)。因此，經(jīng)線和緯線成為妨礙清洗液或超聲波到達(dá)設(shè)備D的障礙物。結(jié)果，出現(xiàn)設(shè)備清洗不足的問題。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的清洗工具是考慮到前述主題而完成的，并且清潔工具包括
底盤，具有形成于其中的、用以單獨(dú)容納待清洗物體的空間(待清洗物體容納空間)，其中，至少是空間頂部敞開；和蓋部件，包括框架；第一平面部分，由多個(gè)線狀部件制成(或組成)，所述線狀部件沿預(yù)設(shè)的第一方向張緊于(或拉緊于)框架以形成(組成)一平面部分；第二平面部分，由多個(gè)線狀部件制成(或組成)，所述線狀部件沿與第一方向交叉的第二方向張緊于(或拉緊于)框架以形成(組成)另一平面部分，該平面部分與第一平面部分平行并且在第一平面部分之上與其緊貼，或者第二平面部分由條狀部件制成(或組成)，由框架沿與第一方向交叉的第二方向支撐，以形成(組成)相同的另一平面部分，當(dāng)蓋部件安放(或設(shè)置在上面)在底盤上時(shí)，第一平面部分形成空間的頂表面，清洗工具浸入清洗液中時(shí)待清洗物體容納在該空間中。
根據(jù)本發(fā)明，當(dāng)(在此狀態(tài))各待清洗物體容納于由底盤和蓋部件的第一平面部分形成的空間(待清洗物體容納空間)中時(shí)，各待清洗物體隨著清洗工具浸入到清洗液中，由此各物體通過超聲波清洗或類似方法被清洗。用于容納待清洗物體的空間的頂表面由第一平面部分限定。第一平面部分是由多個(gè)線狀部件、沿預(yù)定的第一方向、張緊于(或拉緊于)框架以形成一個(gè)平面部分而制成(組成)。此外，框架具有沿與第一方向交叉的第二方向的“多個(gè)張緊于(或拉緊于)框架的線狀部件”或具有沿第二方向“由框架支撐的條狀部件”，由此形成的第二平面部分是與第一平面部分平行且位于第一平面部分之上緊貼于第一平面的另一平面部分。
特殊地，“組成第二平面部分的多個(gè)線狀部件”或“組成第二平面部分的條狀部件”直接安排(直接安放)在組成第一平面部分的多個(gè)線狀部件上，并且設(shè)置成在平面圖中穿過組成第一平面部分的線狀部件。因此，當(dāng)組成第一平面部分的線狀部件開始振動(dòng)時(shí)，兩端部(拉緊狀態(tài)的基底部分)作為靜止點(diǎn)，組成第二平面部分的線狀部件或條狀部件壓制組成第一平面部分的線狀部件，以限制振動(dòng)。結(jié)果，在清洗期間，待清洗物體從待清洗物體容納空間露出和從清洗工具中掉下的可能性減小。
另一方面，組成第二平面部分的線狀部件或條狀部件安置在組成第一平面部分的線狀部件之上，并且因此不限制組成第一平面部分的線狀部件在平行于第一平面部分的平面中移動(dòng)。這樣，當(dāng)清洗液進(jìn)出空間時(shí)，組成第一平面部分的線狀部件可在平行于第一平面部分的平面內(nèi)移動(dòng)，因此不會(huì)阻礙清洗液(或超聲波)到達(dá)待清洗物體。因此，清洗液(或超聲波)到達(dá)待清洗物體的整個(gè)表面的可能性增加，從而待清洗物體能充分清洗。
清洗工具優(yōu)選包括放置在形成(組成)底盤空間下部(底部)的部分的頂表面和蓋部件的第一平面部分的下表面之間的多個(gè)線狀部件，用以在組成空間下部的部分的頂表面和第一平面部分的下表面之間保持間隙(下文成為“空間高度”)。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，僅通過用具有不同直徑的線狀部件代替放置在底盤空間下部(底部)的部分的頂表面和第一平面部分的下表面之間的線狀部件，可容易地改變空間高度。從而，可容易地提供用于具有不同高度的待清洗部件的清洗部件(或清洗工具)。
根據(jù)本發(fā)明的另一清洗工具包括底盤，具有并形成(或具有形成于其中的)用于單獨(dú)容納待清洗物體的空間，其中至少是空間的頂部敞開；和蓋部件，包括框架；和第一平面部分，由多個(gè)線狀部件制成(或組成)，所述線狀部件沿預(yù)設(shè)的第一方向張緊于(或拉緊于)框架以形成(或組成)一平面部分，其中，當(dāng)蓋部件安放在底盤上(或通過將蓋部件設(shè)在底盤之上)時(shí)，第一平面部分形成空間的頂部，清洗工具浸入清洗液中時(shí)待清洗物體容納在該空間中，清洗工具浸入清洗液時(shí)待清洗物體容納在該空間中，其中蓋部件包括固定于框架的條狀部件，以在第二方向上延伸，第二方向平行于第一平面部分并在第一方向上且至少在線狀部件的兩端部附近與第一方向交叉，條狀部件與線狀部件接觸以在與第一平面部分交叉的方向上施力(例如，施力的方向垂直于第一平面部分，即，施力的方向垂直于由框架形成的平面)，由此對(duì)線狀部件施加張力。
根據(jù)該配置，條狀部件能容易地將張力施加給形成第一平面的線狀部件。因此，當(dāng)線狀部件形成第一平面部分安裝(或固定)于框架時(shí)，不需要給形成第一平面部分的線狀部件施加適當(dāng)?shù)貜埩?。這樣，可簡(jiǎn)化用以形成蓋部件的操作。此外，張力可無誤地施加到線狀部件，由此，在清洗過程中線狀部件的振動(dòng)可減少。
應(yīng)當(dāng)注意，在上述情形中，框架可不僅有組成第一平面部分的線狀部件而且有上述提到的組成第二平面部分的條狀部件。以這種配置，通過在穿過第一平面部分的方向上施力到形成第一平面部分的線狀部件上和形成第二平面部分的線狀部件上，條狀部件施力給形成第一平面部分的線狀部件和形成第二平面部分的線狀部件。
此外，在這種情況下，蓋部件優(yōu)選包括彈簧狀部件，當(dāng)蓋部件設(shè)置在底盤上時(shí)所述彈簧狀部件與條狀部件和底盤接合，彈簧狀部件在條狀部件和底盤彼此靠近的方向上施力。
以這種配置，即使底盤發(fā)生彎曲，通過條狀部件和彈簧狀部件，底盤的彎曲可修正。因此，可提供一種清洗工具，其具有待清洗物體容納空間，所述空間具有預(yù)定尺寸和預(yù)定形狀。


通過參照下面對(duì)優(yōu)選實(shí)施方案的詳細(xì)描述，同時(shí)結(jié)合附圖，會(huì)更容易理解本發(fā)明的各種其它目的、特征和許多伴隨優(yōu)點(diǎn)。
圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的底盤前表面的平面圖，所述底盤構(gòu)成清洗工具的一部分；圖2是圖1所示底盤后表面的平面圖；圖3是圖1所示底盤的側(cè)視圖；圖4是圖1所示底盤上形成的圖案的放大平面圖；圖5是底盤沿圖4所示的線1-1切面的放大平面圖；圖6是底盤沿圖4所示的線2-2切面的放大平面圖；圖7是底盤沿圖4所示的線3-3切面的放大平面圖；圖8是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的蓋部件的平面圖，所述蓋部件構(gòu)成清洗工具的一部分；圖9是圖8所示蓋部件的側(cè)視圖；圖10是圖8所示蓋部件的部分放大平面圖；圖11A是清洗工具的平面圖，圖8所示的蓋部件安置(或設(shè)置)在圖1所示的底盤上；圖11B是清洗工具的側(cè)視圖，具有與圖11A所示相同的狀態(tài)；圖12是清洗工具的部分放大平面圖，圖8所示的蓋部件安置(或設(shè)置)在圖1所示的底盤上；圖13是底盤和蓋部件沿圖12中線4-4切面的剖視圖；圖14是圖12所示清洗工具的部分放大透視圖；圖15是清洗工具的操作視圖，所述清洗工具包括圖1所示的底盤和圖8所示的蓋部件；圖16是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的底盤前表面的平面圖，所述底盤構(gòu)成清洗工具的一部分；圖17是形成在圖16所示底盤上的圖案的放大平面圖；圖18是底盤沿圖17中線5-5切面的剖視圖；圖19是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的蓋部件的平面圖，所述蓋部件構(gòu)成清洗工具的一部分；圖20是圖19中所示蓋部件的正視圖；圖21是圖19中所示蓋部件的側(cè)視圖；圖22是圖19中所述蓋部件的部分放大平面圖；圖23是蓋部件沿圖22中線6-6切面的剖面圖；圖24A是清洗工具的平面圖，圖19所示的蓋部件安置(或設(shè)置)在圖16所示的底盤上；圖24B是清洗工具的側(cè)視圖，具有與圖24A所示相同的狀態(tài)；圖25是清洗工具的部分放大平面圖，圖19所示的蓋部件安置(或設(shè)置)在圖16所示的底盤上；圖26是底盤和蓋部件沿圖25中線7-7切面的剖視圖；圖27是清洗工具的操作視圖，所述清洗工具包括圖16所示的底盤和圖19所示的蓋部件；圖28是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例改進(jìn)例的清洗工具的剖視圖；圖29是圖28中所示清洗工具的側(cè)視圖；圖30是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的清洗工具的剖視圖；
圖31是設(shè)備平面圖，該設(shè)備是由本發(fā)明的清洗工具進(jìn)行清洗的待清洗物體的一個(gè)例子；圖32是圖31中所示設(shè)備的正視圖；圖33是傳統(tǒng)清洗工具的網(wǎng)的部分放大圖；和圖34傳統(tǒng)清洗工具的操作視圖。
具體實(shí)施例方式
根據(jù)本發(fā)明的各實(shí)施例將在此后參照

。
第一實(shí)施例根據(jù)第一實(shí)施例的清洗工具由圖1至7至所示的底盤10和圖8至10所示的蓋部件20組成。
如圖所示，圖1是前表面的平面圖，圖2是后表面的平面圖，和圖3是側(cè)視圖，底盤10通常是矩形的薄板部件，在平面圖中(從平面可見)，具有沿X軸的側(cè)邊和沿Y軸的側(cè)邊，兩軸彼此垂直。圖1中由虛線包圍的圖案P1在底盤10上沿X軸方向和Y軸方向重復(fù)形成。
特別地，底盤10具有如圖4中所示的多個(gè)通孔11、通孔12、突出部分13和突出部分14，圖4是圖案P1的放大圖，圖5、6和7分別是沿線1-1、沿線2-2和沿線3-3的切面的放大剖視圖。
通孔11沿X軸方向以第一距離L1間隔形成，并沿Y軸方向以第二距離L2間隔形成，第二距離比第一距離大，如圖1和2所示。通孔11的直徑小于通孔12的直徑。因而通孔11被稱作“小直徑通孔11”，通孔12被稱作“大直徑通孔12”。
在平面圖中(從平面可見)，大直徑通孔12的中心位于距小直徑通孔11的中心位置在X軸方向上大約第一距離L1的一半(L1/2)的位置，距小直徑通孔11的中心位置在Y軸方向上大約是第二距離L2的一半(L2/2)的位置。特別的，小直徑通孔11的中心與虛線矩形框的對(duì)角線的交叉點(diǎn)一致，所述小直徑通孔的中心是通過連接相鄰四個(gè)大直徑通孔12的中心得到。
在平面圖中(從平面可見)突出部分13具有橢圓形。此外，突出部分13是指橢圓突出部分13。在平面圖中(從平面可見)橢圓形突出部分13的短軸和長(zhǎng)軸分別沿X軸和Y軸的方向。在平面圖中(從平面可見)橢圓形突出部分13的中心(長(zhǎng)軸和短軸的交叉點(diǎn))與位于距小直徑通孔11中心位置在X軸方向大約第一距離L1的一半(L1/2)的位置一致。換句話說，橢圓形突出部分13形成在Y軸方向上相鄰兩個(gè)大直徑通孔12之間。錐形表面形成在橢圓形突出部分13的頂表面上。
在平面圖中(從平面可見)突出部分14是圓形。此外，突出部分14是指圓形突出部分14。在平面圖中(從平面可見)圓形突出部分14的中心位于距小直徑通孔11的中心在X軸方向大約第一距離L1的五分之一(L1/5)的位置，并位于距小直徑通孔11的中心在Y軸方向大約第二距離L2的五分之一(L2/5)的位置。特別的，小直徑通孔11的中心與虛線矩形框的對(duì)角線的交叉點(diǎn)一致，所述小直徑通孔的中心是通過連接相鄰四個(gè)圓形突出部分14的中心得到。錐形表面形成在橢圓形突出部分14的頂表面上。
以這種配置，底盤10具有并形成(或有形成于其中的)空間SP(見圖4)，所述空間由一對(duì)橢圓形突出部分13和由四個(gè)圓形突出部分14來限定(或組成)，所述突出部分13穿過單個(gè)小直徑通孔11彼此相對(duì)，所述突出部分14圍繞小直徑通孔11排列。所述空間用于單獨(dú)容納待清洗物體，其中至少空間SP的頂部是敞開的。
底盤10期望由與待清洗物體不粘著的材料制成，即使底盤10開始與待清洗物體接觸。因?yàn)樵谠搶?shí)施例中待清洗物體由陶瓷制成，用于底盤10的優(yōu)選材料包括聚酰胺(尼龍)基樹脂，聚酯基樹脂，聚亞安酯基樹脂，聚烯烴基樹脂(聚丙烯基樹脂，聚乙烯基樹脂)，聚氯乙烯基樹脂，聚偏二氯乙烯基樹脂，聚乙烯氟基樹脂，聚乙烯醇基樹脂，polychlarl基樹脂，聚丙烯醛基樹脂和氟基樹脂。而且，可以使用ABS樹脂聚碳酸酯和PEEK(聚醚乙醚酮)作為材料。此外，可選擇根據(jù)ASTM-D1044具有錐形磨損度不超過300mg/1000次的材料用于底盤10。
蓋部件20包括框架21和多個(gè)線狀部件22、23和24。
如圖8所示的蓋部件20的平面圖和圖9所示的蓋部件的側(cè)視圖，在平面圖中(從平面可見)框架21是具有矩形外形的薄板部件。該矩形的短軸和長(zhǎng)軸分別沿X軸和Y軸方向。矩形開口(窗)21a形成在框架21上，所述開口比底盤10的外形稍微大。此外，孔21b以恒定間隔形成在框架21上，所述孔用于夾持(或系于)線狀部件22、23和24。
如10所示的是部分放大平面圖，多個(gè)線狀部件22中的每一個(gè)夾持(系于，或接合于)在框架21的孔21b中，并張緊于(或拉緊于)框架21，以便在關(guān)于框架21的預(yù)定第一方向上延伸(該方向具有相對(duì)Y軸正向的負(fù)角(順時(shí)針角)θ1)。因此，多個(gè)線狀部件22形成第一平面部分，所述第一平面部分是平行于由框架21形成的平面(X-Y平面)的一個(gè)平面部分。
多個(gè)線狀部件23的每一個(gè)夾持(系于，或接合于)在框架21的孔21b中，并張緊于(或拉緊于)框架21，在沿與第一方向交叉的第二方向(該方向具有關(guān)于Y軸正向的正角θ2(逆時(shí)針角))的線狀部件22之上。在該實(shí)施例中，角θ1的絕對(duì)值等于角θ2的絕對(duì)值。因此，多個(gè)線狀部件23形成第二平面部分，所述第二平面部分是平行于由多個(gè)線狀部件22形成的第一平面部分的另一平面部分，并且位于第一平面部分之上并緊貼第一平面部分。
多個(gè)線狀部件24的每一個(gè)夾持(系于，或接合于)在框架21的孔21b中，并安置在線狀部件22的下面(在Z軸的反方向)。兩個(gè)線狀部件24張緊于(或拉緊于)框架21，以便其沿Y軸方向，所述方向在框架21沿X軸方向上的矩形開口21a兩端部的附近。另外兩個(gè)線狀部件24張緊于(或拉緊于)框架21，以便其沿X軸方向，所述方向在框架21沿Y軸方向上的矩形開口21a兩端部的附近。
線狀部件22、23和24由線狀樹脂制成。同底盤10一樣，線狀部件22、23和24優(yōu)選由不粘附于待清洗物體D的材料制成，即使其與待清洗物體D接觸。在該實(shí)施例中，用于線狀部件22、23和24的優(yōu)選材料包括聚酰胺(尼龍)基樹脂，聚酯基樹脂，聚亞安酯基樹脂，聚烯烴基樹脂(聚丙烯基樹脂，聚乙烯基樹脂)，聚氯乙烯基樹脂，聚偏二氯乙烯基樹脂，聚乙烯氟基樹脂，聚乙烯醇基樹脂，polychlarl基樹脂，聚丙烯醛基樹脂和氟基樹脂。而且，ABS樹脂和聚碳酸酯可以使用。此外，可選擇根據(jù)ASTM-D1044具有錐形磨損度不超過300mg/1000次的材料用于線狀部件22、23和24。
底盤10和蓋部件20這樣彼此重疊放置，使得底盤10容納在蓋部件20的開口21a中，如圖11A和11B所示。特別地，蓋部件20排列在(或安置在)底盤10之上。此時(shí)，第一平面部分由線狀部件22面對(duì)底盤10的上(或頂)表面構(gòu)成。換句話說，第一平面部分由線狀部件22排列在線狀部件23組成的第二平面部分和底盤10的上(或頂)表面之間構(gòu)成。蓋部件20和底盤10通過未示出的夾具或具有彈性的類似物而互相固定。由此，線狀部件22和23排列(或放置)在底盤10的每個(gè)空間SP之上，如圖12所示的是部分放大平面圖和圖13是底盤10和蓋部件20沿圖12中線4-4切面的剖面圖。更特別地，線狀部件22和23通過直接在小直徑通孔11的中心之上的位置和位于橢圓形突起部分13和圓形突起部分14之間的位置。
由此，空間SP的頂表面由線狀部件22組成的第一平面部分來限定。待清洗物體D單獨(dú)容納在空間(待清洗物體容納空間)SP中，如圖14中的透視圖所示，物體D隨著清洗工具浸入清洗液中，并對(duì)其提供超聲波。從圖14清楚看到，線狀部件22和23可設(shè)置為通過橢圓形突出部件13和圓形突出部件14的頂表面下方(Z軸的反方向)的位置。
如上所述，多個(gè)線狀部件23由第二平面部分組成，所述第二平面部分排列(或放置)在由第一平面部分組成的多個(gè)線狀部件22的正上方，并進(jìn)一步排列(或放置)，在平面圖中(從平面可見)，使其穿過線狀部件22。此外，如從圖15中所理解的，示意性地給出清洗期間清洗工具的狀態(tài)，當(dāng)線狀部件22在垂直方向(垂直于底盤10的平面的方向)以其兩端部(拉緊狀態(tài)的基底部分)為靜止點(diǎn)開始振動(dòng)時(shí)，線狀部件23壓制線狀部件22以限制線狀部件22的振動(dòng)。結(jié)果，在清洗期間，待清洗物體從待清洗物體容納空間露出和從清洗工具中掉下的可能性減小。
換句話說，由于線狀部件23排列在線狀部件22之上(換句話說，線狀部件22和線狀部件23不交織)，線狀部件22在平行于第一平面部分的平面(X-Y平面)上的移動(dòng)不受限制。因此，當(dāng)清洗液進(jìn)出待清洗物體容納空間時(shí)，線狀部件22可在平行于第一平面部分的平面中移動(dòng)，不會(huì)阻止清洗液(或超聲波)到達(dá)待清洗物體D。
同樣，線狀部件22排列在線狀部件23的下方，使得線狀部件22不會(huì)限制線狀部件23在平行于第二平面部分的平面(X-Y平面)中移動(dòng)。因此，當(dāng)清洗液進(jìn)出待清洗物體容納空間時(shí)，線狀部件23可在平行于第二平面部分的平面中移動(dòng)，不會(huì)阻止清洗液(或超聲波)到達(dá)待清洗物體D。
因此，清洗液(或超聲波)到達(dá)待清洗物體D的整個(gè)表面的可能性增加，使得待清洗物體D能充分清洗。
此外，當(dāng)蓋部件20放置在底盤10上時(shí)，線狀部件24放置(或排列)在由底盤10的待清洗物體容納空間的下部(底部)組成的部分的頂表面和第一平面部分(即，線狀部件22)的下表面之間。因此，線狀部件24可在待清洗物體容納空間的下部組成的部分的頂表面和第一平面部分的下表面之間保持間隙(待清洗物體容納空間的高度)，如圖15所示。
因此，根據(jù)第一實(shí)施例的清洗工具，僅通過用其它不同直徑的線狀部件取代線狀部件24，就可容易地變換待清洗物體容納空間的高度。因此，可容易提供可用于具有各種高度待清洗部件的清洗部件(或清洗工具)，而不改變底盤10和蓋部件20的形狀。
第二實(shí)施例隨后，將說明根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的清洗工具。根據(jù)第二實(shí)施例的清洗工具包括圖16至18所示的底盤30和圖19至23所示的蓋部件40。
底盤30用與底盤10相同的材料制成。如圖16所示的底盤30前表面的平面圖，底盤30通常是矩形薄板部件，在平面圖中(或從平面所見)，具有沿X軸的側(cè)邊和沿Y軸的側(cè)邊，兩軸彼此垂直。圖16中由虛線包圍的圖案P2在底盤30上沿Y軸方向重復(fù)形成。
圖17和18所示的是底盤30沿圖17中線5-5切面的剖視圖，圖案P2包括具有恒定深度的凹部31、大直徑通孔32和小直徑通孔33。
凹部31包括一個(gè)凹部31a和多個(gè)凹部31b。在平面圖中(或從平面所見)，凹部31的形狀是狹長(zhǎng)帶狀形狀，所述形狀具有沿Y軸方向的狹窄寬度和沿X軸方向的縱向。在平面圖中(或從平面所見)，各個(gè)凹部31b的形狀通常是正方形。凹部31b沿X軸方向以每個(gè)預(yù)定距離L3形成。每個(gè)凹部31b在Y反方向的端部與凹部31a連通。每個(gè)凹部31b和與凹部31b相連通的凹部31a的部分形成空間SQ，所述空間通常是直角立體形狀，并且其頂表面敞開?？臻gSQ用于容納待清洗物體。
每個(gè)大直徑通孔32通常形成在凹部31b的中心(空間SQ的底表面)。每個(gè)小直徑通孔33形成在凹部31a、相鄰凹部31b之間。
蓋部件40包括金屬框架41、多個(gè)線狀部件42和一對(duì)桿狀部件43，如圖19的平面圖、圖20的正面圖和圖21的側(cè)視圖所示。
在平面圖中(或從平面所見)，框架41是具有矩形外部形狀的薄板部件。所述矩形的短側(cè)和長(zhǎng)側(cè)分別沿X軸和Y軸。開口(窗口)41a比形成在框架41上的底盤30的外部形狀稍大。此外，多個(gè)孔41b用于夾持(或系緊)形成在框架41上的線狀部件42。
線狀部件42用與線狀部件22、23和24相同的材料制成。每個(gè)線狀部件42夾持(系于，或接合于)在框架41的孔41b中，并沿預(yù)設(shè)第一方向(在此，X軸方向)排列。因此，形成第一平面部分的多個(gè)線狀部件42是平行于由框架41形成的平面(X-Y平面)的部分。
各個(gè)桿狀部件43具有細(xì)長(zhǎng)方形桿形狀。每個(gè)桿狀部件43固定于框架41的頂表面，使其通過線狀部件42的上方。每個(gè)桿狀部件43排列在框架41的X軸方向的兩端部附近的位置，并從框架41沿Y軸方向延伸的部分稍微靠近中心。如圖20和21所示，每個(gè)桿狀部件43通過從框架41底部穿過框架41的螺桿緊緊地固定于框架41(具體為框架在X軸方向延伸的部分)。在這種情況下，桿狀部件43的下表面位于在開口41a、框架41的頂表面下方(例如，桿狀部件43的下表面在中心部分比其兩端部突出較高)。
以這種配置，桿狀部件43將線狀部件42在桿狀部件43和線狀部件42接觸部分向下移動(dòng)，如在圖22蓋部件40的部分放大平面圖和圖23蓋部件40沿圖22中線6-6中切面剖視圖中所示。特別地，桿狀部件43固定于框架41以在第二方向延伸，所述第二方向是平行于第一平面部分并在第一平面部分上方與第一方向交叉，并且至少在線狀部件42的兩端部附近。由此，桿狀部件43開始與線狀部件42接觸以為其在垂直于第一平面部分的方向上施加力(例如，所述力在與第一平面部分交叉的方向，即，所述力在Z軸的反方向，所述反方向垂直于由框架形成的X-Y平面)。由此給線狀部件42施加張力。
底盤30和蓋部件40彼此重疊設(shè)置，使得底盤30容納于蓋部件40的開口41a中，如圖24A和24B中所述。特別地，蓋部件40安置(或排列之上)于底盤30。蓋部件40和底盤30由未示出的夾具或彈性類似物彼此固定。因此，三個(gè)線狀部件43放置(或排列)在底盤30的各個(gè)空間SQ之上，如圖25所示的部分放大平面圖，和圖26的底盤30和蓋部件40沿圖25中線7-7切面的剖視圖。更特別地，三個(gè)線狀部件42制成一套，并通過單個(gè)凹部31的上方。在三個(gè)線狀部件42之中，第一線狀部件42通過凹部31a的上方，第二線狀部件42通過大直徑通孔32的上方，且第三線狀部件42通過位于在Y軸方向上凹部31b的端部和大直徑通孔32之間部分的上方。
這樣，空間SQ的頂表面由第一平面部分限定，所述第一平面由線狀部件42形成。待清洗物體D單獨(dú)容納在這個(gè)空間(待清洗物體容納空間)SQ中，然后，待清洗物體D隨著清洗工具浸入到清洗液中，并且對(duì)其施加超聲波。
根據(jù)第二實(shí)施例，即使當(dāng)形成第一平面部分的線狀部件42連接于框架41時(shí)(見圖27(A))，適當(dāng)?shù)膹埩]有施加給線狀部件42，通過調(diào)整桿狀部件43到框架41的位置(見圖27(B))，適當(dāng)?shù)膹埩扇菀椎厥┘咏o形成第一平面部分的線狀部件42。因此，用于形成(或制造)蓋部件40的操作工作可以簡(jiǎn)化。此外，可確保張力施加給線狀部件42，因此可限制線狀部件42在清洗期間的振動(dòng)。
應(yīng)當(dāng)注意的是，框架41(蓋部件40)可不僅有組成第一平面部分的線狀部件42而且有上述組成第二平面部分的線狀部件。以這種配置，桿狀部件43在與第一平面部分交叉的方向上施加壓力給形成第一平面部分的線狀部件42和形成第二平面部分的線狀部件，因此桿狀部件43可施加壓力給形成第一平面部分的線狀部件42和形成第二平面部分的線狀部件。
此外，桿狀部件43可這樣配置，使得桿狀部件43在垂直于由框架41構(gòu)成的平面的方向到框架41的部分可以調(diào)節(jié)，而且還配置為在可調(diào)節(jié)位置支撐并固定于框架41。在這種情況下，各個(gè)桿狀部件43下表面的位置可根據(jù)螺桿43a的螺旋量來改變。
第二實(shí)施例的改進(jìn)例如圖28所示，該改進(jìn)例有框架44，代替關(guān)于第二實(shí)施例清洗工具的框架41，且還有彈簧狀部件45，所述彈簧狀部件具有日本字“コ”形狀截面，所述形狀通常是倒C字母形狀。
框架44不同于框架41僅在于它有從內(nèi)邊緣突出的突出部分44a。當(dāng)蓋部件(框架44)安排在底盤上時(shí)，底盤30在其周緣部與突出部分44a接觸。
彈簧狀部件45有彈性。每個(gè)彈簧狀部件與桿狀部件43的頂表面和底盤30的下表面接合(接觸)，用以在桿狀部件43和底盤30彼此靠近的方向上施加壓力。準(zhǔn)備了四個(gè)彈簧狀部件45，并且它們排列在清洗工具的四個(gè)中心部位的附近。
以這種配置，即使在底盤30中產(chǎn)生彎曲，如圖29中虛線所示，彎曲可由桿狀部件43和彈簧狀部件45校正，所述桿狀部件難以產(chǎn)生彎曲。因此，可提供清洗工具，所述清洗工具具有預(yù)定尺寸和預(yù)定形狀的待清洗物體容納空間。
應(yīng)當(dāng)注意的是，豎直在Z軸方向的壁部分(肋)可形成在底盤30的外周部，并且底盤30到框架44的相關(guān)位置可通過使壁部分的頂表面與線狀部件43正下方的線狀部件42的下表面接觸來進(jìn)行固定。在這種情況下，框架44不需要突出部分44a。
第三實(shí)施例隨后，根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的清洗工具將對(duì)照?qǐng)D30進(jìn)行說明。根據(jù)第三實(shí)施例的清洗工具與根據(jù)第二實(shí)施例的清洗工具不同，所述不同僅在于使用三個(gè)或更多桿狀部件43(圖30中的例子是四個(gè))。所有的桿狀部件43以預(yù)定間隔支撐并固定于框架41，以便有在Y軸方向的縱向方向，如同第二實(shí)施例中的桿狀部件43。此外，每個(gè)桿狀部件43的位置被調(diào)節(jié)，使得各下表面排列(或定位)在相同平面上。此外，底盤30被配置使得用于待清洗物體D的容納空間不形成在各桿狀部件43的正下方。
以這種配置，張力可通過桿狀部件43施加給線狀部件42，像在第二實(shí)施例中一樣。此外，各桿狀部件43的下表面形成(或組成)第二平面，所述第二平面位于由線狀部件43形成的第一平面的上方。因此，線狀部件42在第一平面中的移動(dòng)不受桿狀部件43限制，同時(shí)線狀部件42在垂直于第一平面中的移動(dòng)受到桿狀部件43的限制。結(jié)果，清洗液(或超聲波)到達(dá)待清洗物體D的整個(gè)表面的可能性增加，因此待清洗物體D能充分清洗。
應(yīng)當(dāng)注意的是，例如，待清洗物體D是設(shè)備50，用作調(diào)節(jié)器來控制光學(xué)信息或磁學(xué)信息的讀和/或?qū)懺O(shè)備(頭)的位置，如圖31和32所示。該設(shè)備50有固定部分51；一對(duì)由固定部分51支撐的薄板部分52；保持部分(可移動(dòng)部分)53，所述保持部分設(shè)置在各薄板部分52的主要端部用以保持物體；和形成在薄板部件52上的壓電/電致伸縮設(shè)備(未示出)。所述壓電/電致伸縮設(shè)備有多個(gè)電極和交替層疊的多個(gè)壓電/電致伸縮層。設(shè)備50的外部形狀通常是直角立體形狀。設(shè)備50由陶瓷制成。通過在壓電/電致伸縮設(shè)備的電極之間電場(chǎng)的形成，壓電/電致伸縮設(shè)備的膨脹和收縮使薄板部分52變形，由此，保持部分53(因此頭由保持部分53保持)被移動(dòng)。
上述設(shè)備50通過線狀鋸等切割陶瓷的一體部件形成，陶瓷的一體部件在層疊以后被燒制。因此，當(dāng)其隨著清洗工具浸入盛在清洗桶中的清洗液中，處于容納在本發(fā)明的清洗工具的待清洗物體容納空間中的狀態(tài)時(shí)，優(yōu)選用超聲波將在制造過程例如切割過程中粘附于設(shè)備的樹脂或粉末切實(shí)洗掉。
選擇用在本發(fā)明清洗工具中的線狀部件的數(shù)量和直徑(厚度)，使得設(shè)備50不會(huì)從待清洗物體容納空間掉落，例如，無論是在清洗期間還是在運(yùn)輸期間。此外，選擇線狀部件的數(shù)量和直徑(厚度)，使得清洗液(或超聲波)涂到設(shè)備50的整個(gè)表面，并且可通過清洗液的流動(dòng)將保存在待清洗物體容納空間中的微粒清除到待清洗物體容納空間的外部，而不會(huì)導(dǎo)致清洗液保留在待清洗物體容納空間中。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的清洗工具可滿意地清洗待清洗物體。本發(fā)明不限于上述各實(shí)施例，但是在不脫離本發(fā)明的精神和范圍下，可以進(jìn)行各種變型和改進(jìn)。此外，第二方向需要與從平面可見的第一方向交叉，這樣，例如，所有線狀部件23不需要在X-Y平面彼此平行。
權(quán)利要求
1.一種清洗工具，包括底盤，具有并形成用以單獨(dú)容納待清洗物體的空間，其中至少是該空間的頂部敞開；和蓋部件，包括框架；第一平面部分，由多個(gè)線狀部件構(gòu)成，所述線狀部件沿預(yù)定的第一方向張緊于框架以形成一個(gè)平面部分；第二平面部分，由多個(gè)線狀部件構(gòu)成，所述線狀部件沿與第一方向交叉的第二方向張緊于框架以形成另一平面部分，所述另一平面部分平行于第一平面部分，并且在第一平面部分上方緊貼第一平面部分，或者第二平面部分由桿狀部件構(gòu)成，桿狀部件由框架沿與第一方向交叉的第二方向支撐，以形成相同的另一平面部分，其中，當(dāng)蓋部件放在底盤上時(shí)，第一平面部分構(gòu)成該空間的頂表面，其中，清洗工具浸入清洗液時(shí)待清洗物體容納在該空間中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的清洗工具，還包括多個(gè)線狀部件，放置在形成底盤空間的下部的部分的頂表面和蓋部件的第一平面部分的下表面之間，以在形成該空間的下部的部分的頂表面和第一平面部分的下表面之間保持間隙。
3.一種清洗工具，包括底盤，具有并形成用以單獨(dú)容納待清洗物體的空間，其中，至少是該空間的頂部敞開；和蓋部件，包括框架；和第一平面部分，由多個(gè)線狀部件構(gòu)成，所述線狀部件沿預(yù)定的第一方向張緊于框架以形成一個(gè)平面部分，其中當(dāng)蓋部件放在底盤上時(shí)，第一平面部分構(gòu)成該空間的頂部；該清洗工具浸入清洗液中時(shí)待清洗物體容納在該空間中，其中，蓋部件包括固定于框架的桿狀部件以在第二方向延伸，第二方向平行于第一平面部分，并且在第一平面部分的上方且至少在線狀部件的兩端部附近與第一方向交叉，桿狀部件與線狀部件接觸以在與第一平面部分交叉的方向上對(duì)其施力，用以給線狀部件施加張力。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的清洗工具，還包括彈簧狀部件，當(dāng)蓋部件放置在底盤上時(shí)與桿狀部件和底盤接合，彈簧狀部件在桿狀部件與底盤彼此靠近的方向上施力。
全文摘要
一種具有底盤(10)和蓋部件(20)的清洗工具。底盤有用于單獨(dú)容納待清洗物體D的空間。蓋部件有框架(21)，和線狀部件(22)和(23)。線狀部件(22)沿第一方向張緊于框架，以便形成限定空間頂部的第一平面部分。線狀部件(23)沿第二方向張緊于框架，以便形成位于第一平面部分之上的第二平面部分。當(dāng)線狀部件(22)在清洗期間將要振動(dòng)時(shí)，線狀部件(23)限制這種振動(dòng)。此外，各線狀部件可分別在各自的平面部分自由移動(dòng)。
文檔編號(hào)B08B3/04GK1891356SQ200610093549
公開日2007年1月10日 申請(qǐng)日期2006年6月26日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月27日
發(fā)明者里吉辰也, 大野盛弘, 北村和正, 長(zhǎng)江智毅, 吉田信也 申請(qǐng)人:新科實(shí)業(yè)有限公司, 日本礙子株式會(huì)社