專利名稱：用于從待清潔的區(qū)域釋放和運走顆粒的清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運走顆粒的清潔裝置，該裝置包括-殼體，具有將要定位在待清潔的區(qū)域上的開口；-可在裝置內(nèi)運動的部件，用于生成用以從該區(qū)域釋放和運走顆粒的氣流。
背景技術(shù)：
一種如在第 一 段中描述的用于釋放和運送顆粒的清潔裝置例如 可以從專利申請US 2002/0084218 Al獲知。這一文獻7>開了一種利 用圓柱環(huán)狀渦流來釋放和運送灰塵顆粒的改進的真空清潔器。氣流 借助葉輪來建立并且用來沿著內(nèi)罩或者通過設(shè)置于葉輪和面向待清 潔區(qū)域的殼體端面之間的內(nèi)管來釋放和運送灰塵顆粒。在具有所述 內(nèi)管的設(shè)置中，已經(jīng)通過該管釋放和運送的顆粒由于氣流的離心作 用而被拋到灰塵收集器的圓形側(cè)壁。隨后經(jīng)由圍繞內(nèi)管的外管朝著 待清潔的區(qū)域遞送空氣。這一 已知裝置的問題在于它的功率消耗相對較高。這主要是由 于壓力差所致，在應用時需要用葉輪產(chǎn)生該壓力差以便沿著內(nèi)罩或 者在內(nèi)管內(nèi)運送正在釋放的顆粒。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種需要較少能量來從待清潔的區(qū)域釋 放和運走顆粒的清潔裝置。根據(jù)本發(fā)明，在前一段中提到的目的借助根據(jù)權(quán)利要求1前序 部分所述的 一 種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運走顆粒的清潔裝置來
實現(xiàn)，其中部件包括設(shè)置于殼體內(nèi)的氣流生成表面，所述氣流生成 表面在運行狀態(tài)下面向待清潔的區(qū)域并且具有與所述區(qū)域基本上平 行的運動方向以便造成平行于所述區(qū)域的氣流。通過運動的氣流生成表面所產(chǎn)生的氣流將由此在垂直方向上 (即垂直于待清潔的區(qū)域)表現(xiàn)出氣流速度的很大梯度。在這一情 況下，在待清潔的區(qū)域處或者接近待清潔的區(qū)域處的速度將基本上 為零，而在氣流生成表面處存在最大氣流速度。根據(jù)所謂的柏努利(Bernoulli)原理，這一梯度將使顆粒脫離該區(qū)域并且在氣流的方向 上從該區(qū)域運走，這將在下文詳細討論。對照而言，如在US 2002/0084218 Al中公開的裝置建立用以在垂直方向上釋放和運送 灰塵顆粒的明顯壓力差，例如在殼體與灰塵收集系統(tǒng)之間的、用于 通過內(nèi)管進行運送的壓力差。根據(jù)本發(fā)明，重要的是在運行狀態(tài)下在氣流生成表面與其上帶 有顆粒的區(qū)域之間的空間中沒有或者至少盡可能少地存在清潔裝置 的組件，因為這將不適當?shù)厍_需要建立的氣流。在根據(jù)本發(fā)明清潔區(qū)域時，沒有必要產(chǎn)生壓力差或者很大的欠 壓，至少不必達到如已知真空清潔器或者其它已知清潔裝置的典型 壓力差那樣的程度。根據(jù)本發(fā)明，用于釋放和運送顆粒的氣流將由 于不存在如過濾器、集塵袋和長彎曲管的組件而遇到較少摩擦阻力。 另外不需要用以接觸帶有顆粒的區(qū)域的組件，比如掃刷。本發(fā)明由 此提供一種低能耗的清潔裝置。另外，由于部件或者氣流生成表面 能夠以低速運行，所以該裝置所產(chǎn)生的噪聲將很少。如上文所述由 于氣流遇到較少量的摩擦阻力，所以也促進了噪聲水平降低。另一 結(jié)果在于該裝置可以實現(xiàn)更簡單的構(gòu)造，因為用于運送所釋放的顆 粒的組件例如引向裝置分離室的導管對于本發(fā)明而言是不需要的。 根據(jù)本發(fā)明，產(chǎn)生對于從區(qū)域釋放和運走顆粒而言具有最優(yōu)效果的 氣流。應當注意，包括基本上平行于待清潔區(qū)域而旋轉(zhuǎn)的一個或者多 個刷子的清潔裝置并不是本發(fā)明的一部分，因為這樣的刷子僅能夠
從待清潔的區(qū)域釋放顆粒，而刷子的旋轉(zhuǎn)動作通常不足以從這一 區(qū) 域運走顆粒。這意味著這樣的顆粒運送不能僅通過刷子而獲得。旋 轉(zhuǎn)刷子的毛須端部因此不能構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明的氣流生成表面。當然 可以將清潔刷子添加到根據(jù)本發(fā)明的裝置，這一點將在下文中具體 地描述。權(quán)利要求1中的特征"所述氣流生成表面(...)具有與所述區(qū)域 基本上平行的運動方向"表示氣流生成表面的能夠產(chǎn)生與帶有顆粒 的區(qū)域基本上平行地運動的氣流的任何運動。由此，氣流生成表面 的略微傾斜運動也包含于這 一 特征中。根據(jù)該清潔裝置的優(yōu)選實施例，氣流生成表面可在殼體內(nèi);^走轉(zhuǎn) 以造成與待清潔的區(qū)域平行的旋轉(zhuǎn)氣流。這 一 實施例為裝置的可運 動組件提供最簡單的實用構(gòu)造。對照而言，例如輸送帶型的構(gòu)造需 要至少兩個旋轉(zhuǎn)部件。另外，這一實施例將允許該裝置的更扁平設(shè) 計，這有利于進入高度有限的空間，例如在家具之下的空間。根據(jù)另一實施例，氣流生成表面設(shè)置于可旋轉(zhuǎn)盤上或者設(shè)置于 在運行狀態(tài)下朝著待清潔的區(qū)域延伸的轉(zhuǎn)子葉片上。例如與旋轉(zhuǎn)長 輪輻或者桿對照而言，旋轉(zhuǎn)盤將提供使周圍空氣運動的最大沖擊。 如果使用轉(zhuǎn)子葉片，通過轉(zhuǎn)子葉片形成氣流生成表面，則發(fā)現(xiàn)接近 帶有顆粒的區(qū)域的空氣速度增加，這造成在釋放的顆粒上施加的動 能的增加。另外，觀察到這一動能的顯著增加是由在葉片與顆粒之 間的多次撞擊所致。根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的是設(shè)置顆粒收集器用于收集從該區(qū)域釋放 的顆粒。然而也可以僅需要將顆粒從一個位置運送到另一位置，因 此本發(fā)明的概念不必限于設(shè)置有這種顆粒收集器的裝置。然而，最 有可能的是希望具有收集已經(jīng)釋放和運送的顆粒的機會，而這一點 將由于提供了顆粒收集器才變得可能。對于具有顆粒收集器的實施例，優(yōu)選的是這一顆粒收集器設(shè)置 于殼體內(nèi)，這允許更緊湊的設(shè)計以及收集顆粒的更簡單方式。另夕卜， 顆粒只需以這一方式短距離行進，這有利于節(jié)能。顆粒收集器優(yōu)選
地包括圍繞氣流生成表面的壁，所述壁在運行狀態(tài)下在與氣流生成 表面相同的方向上S走轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)氣流將造成已經(jīng)釋放的顆粒由于離心 力而在向外方向上運送。如果這樣的壁圍繞氣流生成表面并且在與 之相同的方向上旋轉(zhuǎn)，則將在該壁處收集和保持這些顆粒。更優(yōu)選 地，此壁是圓形的并且包括凸緣，該凸緣從圓形壁的下邊緣部分朝 著其旋轉(zhuǎn)軸延伸。在停止壁的旋轉(zhuǎn)運動時，顆粒將不再由壁保持而 將在重力的影響之下掉落。從下邊緣部分延伸的凸緣可以被提供用 來收集掉落的顆粒，以后能夠從該凸緣去除這些顆粒。另 一優(yōu)選方案在于顆粒收集器包括裝配到氣流生成表面上的 室，該室的底表面背向氣流生成表面，而且提供如下導管，該導管 包括引導裝置并且具有朝著室的開口以及朝著氣流生成表面的開 口，以便將顆粒傳送到室。釋放的顆粒由于在其上施加的動能而經(jīng) 過導管行進，被引導裝置引導并且隨后在室的底壁處被收集。優(yōu)選 的是，導管是環(huán)形的，并且導管朝著氣流生成表面的開口是環(huán)形的 且圍繞所述表面，而且導管還包括引導裝置，該引導裝置包括沿著 導管的外壁螺旋延伸的伸長突出物。在這一情況下，撞擊導管外壁 的旋轉(zhuǎn)顆粒被強制遵循突出物的接觸表面并且經(jīng)過導管朝著收集室 行進。在如前一段中描述的實施例中優(yōu)選的是，室的底壁包括柔性部 分，并且開口設(shè)置于底壁中和氣流生成表面中，而柔性部分允許底 壁從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置，在該保持位置，室的底壁朝著用于 收集和保持顆粒的開口在向上方向上延伸，而在該釋放位置，室的 底壁朝著用于釋放顆粒的開口在向下方向上延伸。這樣的構(gòu)造提供 了一種通過翻開其底壁來清空收集室的簡單方法。在偏轉(zhuǎn)到釋放位 置之后，在室中已經(jīng)收集的顆粒將由于重力經(jīng)過開口自動地掉落。 當已經(jīng)清空室時，翻回底壁，使得裝置準備好再次使用。更優(yōu)選地， 柔性部分包括柔性材料的環(huán)，比如橡膠環(huán)。這種構(gòu)造提供用于產(chǎn)生 柔性底壁的簡單而有效的方法。甚至更優(yōu)選地，在這一情況下設(shè)置 便于從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置的操縱裝置。這樣的操縱裝置將便 于致動底壁的偏轉(zhuǎn)運動。根據(jù)優(yōu)選實施例，殼體具有圍繞開口的周向邊緣，所述邊緣在 運行狀態(tài)下接觸待清潔區(qū)域的表面并且基本上閉合殼體的開口 ，由 此產(chǎn)生由殼體和待清潔區(qū)域的表面限定的基本上閉合的空間。這一 點主要在軟表面如地毯的情況下是有利的，因為當殼體在地毯上運 動時該邊緣將至少部分地打開或者分開相鄰的地毯纖維，由此便于 顆粒的釋放。尤其是如果該邊緣是尖銳的則更將會出現(xiàn)這一效果。 另外，這一實施例防止空氣從殼體泄漏，硬表面和軟表面都有該效 果。防止這樣的空氣泄漏使得在殼體內(nèi)造成更多有效的氣流。作為如前一革殳中描述的實施例的^#選實施例，當殼體具有3口下 周向邊緣時是有利的，該周向邊緣包括沿著該邊緣的周界分布的多 個擋板，其中各擋板背離該邊緣在向下方向上延伸并且具有用于彈 走氣流所攜帶的顆粒的彈起表面，該彈起表面相對于該邊緣的周界 傾斜地定位，用于防止顆粒從殼體漏出。彈起表面的定位使得顆粒朝著殼體的內(nèi)部彈回，而不是繼續(xù)它們的向外運動以及在被收集之前離開殼體。這些類型的邊緣主要對 于硬表面如木地板或者混凝土地面是有利的。在這一 情況下?lián)醢鍖?通過在區(qū)域上運動而朝著殼體的內(nèi)部引導殼體外的顆粒，同時將殼 體內(nèi)存在的顆粒保持于內(nèi)部。更優(yōu)選地，利用這樣的周向邊緣，各 彈起表面相對于與旋轉(zhuǎn)軸平行的垂直方向來傾斜地定位，以便向上 朝著殼體的內(nèi)部而不是向下朝著待清潔的區(qū)域來彈起撞擊擋板的顆粒。這一公開中的 一些重要術(shù)語在下文中針對它們的恰當解釋來加 以闡明。"顆粒，，在這一公開中是指希望從待清潔的區(qū)域去除的任何類型 的顆?；蛘卟糠郑擃w?；蛘卟糠挚梢园ㄝ^小和較大的顆粒、灰 塵顆粒、沙子、細菌、毛發(fā)、紙片等。它也包括如下顆粒，這些顆 粒包括液體或者氣體如水滴。"向下，，在這一公開中是指當根據(jù)本發(fā)明的清潔裝置處于它的運 行狀態(tài)下時指向待清潔的帶有顆粒的區(qū)域的任何方向。"向上，，在這 一 公開中是指當根據(jù)本發(fā)明的清潔裝置處于它的運行狀態(tài)下時背離待清潔的帶有顆粒的區(qū)域的任何方向。"向外"在這一公開中是指根據(jù)本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)部件遠離對應旋轉(zhuǎn)軸線的任何方向。


將參照附圖在下文中更具體地說明本發(fā)明，在附圖中 圖1是圖示了本發(fā)明原理的示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明第一優(yōu)選實施例的用于從待清潔的區(qū)域釋放 和運走顆粒的清潔裝置的示意剖視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明另一優(yōu)選實施例的用于從待清潔的區(qū)域釋放 和運走顆粒的清潔裝置的示意剖視圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明的清潔裝置周向邊緣的優(yōu)選實施例的部分透 視圖。
具體實施方式
圖1旨在于圖示本發(fā)明的原理。當顆粒位于表面上時，在這一 表面之上產(chǎn)生氣流能夠釋放該顆粒。顆粒釋放的機理相當復雜。顆 粒水平移位源自于如下事實由于氣流受顆粒局部地阻止，所以在 顆粒的前方構(gòu)成過壓。在它后方產(chǎn)生欠壓，從而造成導致顆粒水平 移位的壓力差。作用于顆粒上的垂直定向力源自于柏努利效應。氣 流在顆粒的頂部具有某一速度，而這一速度在顆粒的底部基本上為 零。氣流速度的這一差異產(chǎn)生了提升顆粒的壓力差。由此足以提供 氣流以^更釋it和運送顆粒。傳統(tǒng)地通過建立壓力差來產(chǎn)生氣流。這能夠借助噴嘴或者導管 來實現(xiàn)，例如借助轉(zhuǎn)子在導管的一端產(chǎn)生較低壓力，這造成經(jīng)過導 管或者噴嘴的氣流。根據(jù)本發(fā)明，以交替的方式產(chǎn)生氣流。圖1示出了包含任一種
顆粒(未示出)的區(qū)域1以及可運動部件4?？蛇\動部件4具有氣流 生成表面2，該氣流生成表面2面向帶有顆粒的表面。氣流生成表面 2和部件4以某一速度v與帶有顆粒的區(qū)域1基本上平行地運動。表 面2的這一運動將造成定向為與相對區(qū)域1平行并且以空氣速度分 布3為特征的氣流。這一氣流足以從區(qū)域1釋方文和運走顆粒而無需 在區(qū)域1與氣流生成表面2之間的空間中建立任何壓力差。這里唯 一運動的部分是將要從其中去除顆粒的空間的壁或者表面，此壁或 者表面就如同一個產(chǎn)生所需氣流的泵那樣起作用?，F(xiàn)在參照示出了本發(fā)明第一優(yōu)選實施例的圖2,示意性地描繪了 用于釋放和運送顆粒的清潔裝置10。該裝置包括具有開口 8的殼體 6,該殼體定位于帶有顆粒的區(qū)域1上。優(yōu)選地，殼體6具有基本上 圓形的形狀。該裝置的部件在圖2中僅部分地示出并且包括在殼體6 內(nèi)可繞著軸線18旋轉(zhuǎn)的盤16。該盤包括朝著帶有顆粒的區(qū)域l延伸 的轉(zhuǎn)子葉片14。面向帶有顆粒的區(qū)域的盤16以及葉片的表面一起形 成氣流生成表面12。部件的旋轉(zhuǎn)運動在殼體6內(nèi)造成由氣流生成表 面12產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)氣流，該氣流使得釋放和運送位于區(qū)域1上的顆粒。在任一附圖中都未示出的特別優(yōu)選實施例中，旋轉(zhuǎn)部件包括連 接到軸的轉(zhuǎn)子葉片，而不存在旋轉(zhuǎn)盤。轉(zhuǎn)子葉片在這一情況下優(yōu)選 地與待清潔的區(qū)域基本上垂直地延伸。提供了包括室22的顆粒收集器，該室的底表面23背向氣流生 成表面12。室的對應底壁與盤16重合，室22隨盤一起旋轉(zhuǎn)。取代 將盤和灰塵收集室的底壁形成為一體，可以以本身已知的方式將一 個組件裝配到另一組件。另外，可以借助傳動系來互連兩個組件， 使得室和盤以不同的速度旋轉(zhuǎn)。環(huán)形導管20設(shè)置于殼體6與室22之間。導管20具有朝著氣流 生成表面的開口 21和朝著室22的開口 24。朝著氣流生成表面的開 口是環(huán)形的并且圍繞所述表面。"環(huán)形導管"在這一情況下表示導管 圍繞氣流生成表面和室。它并不意味著這一導管具有圓形橫截面。 其外壁例如可以具有三角形橫截面。旋轉(zhuǎn)氣流所造成的離心力使顆
粒在向外方向上行進并且經(jīng)由開口 21進入導管20。在導管中布置引 導裝置，該引導裝置包括沿著導管20的外壁25螺旋延伸的伸長突 出物26。在這里突出物螺旋向上。在進入導管之后，顆粒隨后經(jīng)過 導管行進，其中借助伸長突出物26在向上方向上引導它們直至它們 經(jīng)由開口 24進入室22。已發(fā)現(xiàn)，氣流施加在顆粒上的動能以及轉(zhuǎn)子 葉片的沖擊足以讓它們經(jīng)由導管到達室。室用以收集顆粒。圖2還示出了開口 27設(shè)置于底壁中以及氣流生成表面12中。 優(yōu)選地，開口 27 ^殳置于底壁和氣流生成表面12的中央部分中。室 22的底壁16包括允許底壁從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置的柔性部分 28,在該保持位置，室的底壁朝著用于收集和保持顆粒的中央開口 在向上方向上延伸，而在該釋放位置，室的底壁朝著用于釋放顆粒 的中央開口在向下方向上延伸。在釋放位置，收集的顆粒將通過開 口 27從室22掉落。圖2中的虛線指示了在釋放位置的底壁以及轉(zhuǎn) 子葉片。優(yōu)選地，柔性部分包括柔性材料的環(huán)，比如橡膠環(huán)，該環(huán)將提 供偏轉(zhuǎn)運動。另外，提供操縱裝置以便于從保持位置和釋放位置的 偏轉(zhuǎn)。這樣的操縱裝置可以包括優(yōu)選地設(shè)置于殼體外部的致動旋4丑， 該旋鈕致動在室的底壁上施加向下力以便實現(xiàn)其偏轉(zhuǎn)的桿?？蛇x地， 可以提供背離氣流生成表面在向下方向上延伸的手柄。與如在先前段中提到的底壁的切換運動有關(guān)的特征也可以應用 于其它裝置以及清潔設(shè)備中，因此不限于如權(quán)利要求1所限定的裝 置。事實上，具有圓形收集室的任何清潔裝置都將從這一構(gòu)造中受 益。驅(qū)動旋轉(zhuǎn)部件的軸在圖2中未示出，但是它可以完全地設(shè)置于 殼體中或者延伸通過其中的開口 。在( 一方面)軸與(另一方面) 室、盤和轉(zhuǎn)子葉片之間的連接能夠借助輪輻構(gòu)造來實現(xiàn)，該輪輻在 軸與室之間延伸。最后，圖2示出了擋板29。殼體優(yōu)選地包括沿著其周向邊緣分 布的多個擋板。下文將具體地說明這些擋板。圖2中殼體6的頂壁是直的，但是它可以可選地被布置用以部分地遵循室的輪廓以便獲得更緊湊和圓化的設(shè)計?，F(xiàn)在參照示出了本發(fā)明另一優(yōu)選實施例的圖3,示意性地描繪了 用于釋放和運送顆粒的清潔裝置30。類似于圖2中所示實施例，裝 置30包括殼體32,該殼體具有定位于帶有顆粒的區(qū)域1上的開口 34。優(yōu)選地，殼體32具有基本上圓形的形狀。部件36包括盤38并 且在殼體32內(nèi)可繞著軸線50旋轉(zhuǎn)。該盤包括朝著帶有顆粒的區(qū)域1 延伸的轉(zhuǎn)子葉片46。然而可選地也可以^又應用盤或者僅應用轉(zhuǎn)子葉 片。轉(zhuǎn)子葉片46的表面以及面向帶有顆粒的區(qū)域的盤的表面一起形 成氣流生成表面40。部件36的旋轉(zhuǎn)運動在殼體32內(nèi)造成旋轉(zhuǎn)氣流， 該旋轉(zhuǎn)氣流由氣流生成表面40產(chǎn)生并且使得釋放和運送位于區(qū)域1 上的顆粒。裝置30還包括顆粒收集器，在所示實施例中該收集器包括圍繞 氣流生成表面并且連接到盤38的壁42。因此壁42在處于運行狀態(tài) 下時在與氣流生成表面40相同的方向上旋轉(zhuǎn)。顆粒將由于氣流所產(chǎn) 生的離心力而在向外方向上行進。當顆粒撞擊壁42時，它們將被收 集和保持在那里，因為此壁也隨之旋轉(zhuǎn)。優(yōu)選地，壁在與氣流生成 表面相同的方向上旋轉(zhuǎn)，但是也可以在相反的方向上旋轉(zhuǎn)。能夠在圖3中看出圓形壁42包括凸緣44,該凸緣從壁的下端部 分朝著其旋轉(zhuǎn)軸線延伸。當壁和氣流生成表面的旋轉(zhuǎn)運動停止時， 壁所保持的顆粒將在重力的影響之下掉落并且在凸緣44上被收集，以后能夠從該凸緣處去除顆粒。圖3中的殼體32具有圍繞它的開口的周向邊緣48,所述邊緣接 觸待清潔的區(qū)域l的表面并且基本上閉合殼體的開口 34,由此產(chǎn)生 由殼體和待清潔的區(qū)域限定的基本上閉合的空間。這防止空氣進入 殼體，使得殼體內(nèi)的氣流更有效。優(yōu)選地使用尖銳邊緣的殼體，這一點明顯不適用于圖3中所示 的邊緣48。它主要在軟表面如地毯的情況下是有利的，其中當殼體 在地趙上運動時該邊緣將至少部分地打開或者分開相鄰的地毯纖
維，由此便于釋放顆粒。圖4是根據(jù)本發(fā)明的裝置的周向邊緣54的優(yōu)選實施例的部分透 視圖。此邊緣對應于圖2中殼體6的面向帶有顆粒的區(qū)域1的邊緣。 出于清楚考慮，圖4僅示出了邊緣本身。在這一圖中可以看到，多 個擋板52廣52n沿著邊緣的周界56分布，各擋板從該邊緣向下延伸 并且具有用于彈走氣流所攜帶的顆粒的彈起表面58廣58n。可以看出 彈起表面58r58n相對于邊緣54的周界56傾斜地定位。它們相對于 圖4中箭頭A所示的氣流旋轉(zhuǎn)方向來定位，防止顆粒從殼體漏出。 彈起表面的定位使得顆粒朝著殼體的內(nèi)部彈回，而不是繼續(xù)它們的 向外運動以及在凈皮收集之前離開殼體。圖4也示出了各彈起表面相對于與旋轉(zhuǎn)軸線(未示出)平行的 垂直方向略微傾斜地來定位。撞擊擋板的顆粒將由此朝著殼體的內(nèi) 部向上彈起而不是返回到待清潔的區(qū)域。雖然在任何附圖中都未示出，但是優(yōu)選地在室中或者在顆粒在 其中朝著灰塵收集器行進的空間中或者在灰塵收集器本身中提供過 濾器，該過濾器相對于旋轉(zhuǎn)收集器和其它旋轉(zhuǎn)部分是固定的。這樣 的過濾器旨在于阻止較大較重的顆粒進入旋轉(zhuǎn)收集器或者旋轉(zhuǎn)室， 否則該旋轉(zhuǎn)收集器或者旋轉(zhuǎn)室在它的旋轉(zhuǎn)運動中會受到不平衡重量 分布的妨礙。在圖2和圖3中，顆粒收集器直接裝配到旋轉(zhuǎn)部件或者與之重 合。然而可以設(shè)想借助傳動系將灰塵收集器連接到旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸。雖然在任何附圖中都未示出這一點，但是優(yōu)選的是，在氣流生 成表面與帶有顆粒的區(qū)域之間的中央空間(例如圖2中在中央開口 27之下的空間)包括清潔工具。適當?shù)那鍧嵐ぞ呖梢岳缡乔鍧崏|、 拋光墊或者旋轉(zhuǎn)刷。這些工具提供額外的清潔功能，其中與它們的 位置有關(guān)的該功能將總是與釋放和運送顆粒的主要功能相組合。它 們優(yōu)選地設(shè)計成可手工拆卸或者更換。圖2和圖3中所示實施例特別適合于在能夠單手操作的手持清 潔裝置中使用。由于這樣的裝置比現(xiàn)有技術(shù)中的清潔裝置使用更少 的能量，所以它能夠例如裝配有電池運行的小型電動機。在這一情 況下基本上所有組件或者至少較大組件能夠容納于對應殼體內(nèi)。優(yōu) 選地，殼體在這一情況下具有基本上圓形的形狀。殼體外徑的典型尺寸在10cm至25cm的范圍中。這樣的清潔設(shè)備的典型重量在200g 到1500g的范圍中。優(yōu)選材料是塑料如聚丙烯(PP)、丙烯腈-丁二 烯-苯乙烯共聚物(ABS)或者聚碳酸酯(PC)。另外優(yōu)選的是，氣流生成表面在形狀上基本上是圓形的并且在 殼體內(nèi)旋轉(zhuǎn)。氣流生成表面優(yōu)選地至少在正常運行狀態(tài)之下以基本 上恒定的旋轉(zhuǎn)速度運動。然而，作為輸送帶型構(gòu)造的一部分的氣流 生成表面也是可能的。如果目的是將顆粒運送到兩個彼此相對側(cè)， 則即使是在帶有顆粒的區(qū)域上方執(zhí)行往復運動的表面或者板也將起 作用。為了易于操縱，可以優(yōu)選地借助鉸接連接來將長手柄連接到殼 體。另外，由此能夠在殼體上施加向下力，這尤其是在沒有擋板的 實施例中有利于防止空氣從殼體中泄漏。通常，灰塵收集器將設(shè)置于殼體內(nèi)，正如圖2和圖3中所示的 實施例中那樣。然而可以在殼體以外設(shè)置灰塵收集器。例如，可以 使用具有開口的殼體，這些開口與灰塵收集器連通。例如可選地可 以使用在形狀上基本上為圓形并且相互連接成一行的兩個或者更多 殼體，相應氣流彼此連通，而只有中央殼體包括灰塵收集器。雖然上文已經(jīng)描述了優(yōu)選實施例，但是許多修改對于本領(lǐng)域技 術(shù)人員而言是不言而喻的。例如，圖2中所示實施例也可以不構(gòu)造 有擋板29而是構(gòu)造有如圖3中所示的周向邊緣48。這些修改落入如 所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍內(nèi)。也可以組合已經(jīng)分別圖示和 描述的許多技術(shù)特征，這些組合也落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。例如可將 圖3實施例中的圓形壁42與圖2的收集室22和環(huán)形導管20相組合。
權(quán)利要求
1.一種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運走顆粒的清潔裝置(10，30)，包括-殼體(6，32)，具有將要定位在待清潔的區(qū)域(1)上的開口(8，34)；-可在所述裝置內(nèi)運動的部件(36)，用于生成用以從所述區(qū)域釋放和運走顆粒的氣流；其特征在于所述部件包括設(shè)置于所述殼體(6，32)內(nèi)的氣流生成表面(12，40)，所述氣流生成表面在運行狀態(tài)下面向待清潔的所述區(qū)域(1)并且具有與所述區(qū)域基本上平行的運動方向以便造成平行于所述區(qū)域的氣流。
2. 如權(quán)利要求1所述的清潔裝置(10, 30),其特征在于所述 氣流生成表面(12， 40)可在所述殼體(6， 32)內(nèi)旋轉(zhuǎn)以便造成與 待清潔的所述區(qū)域(1 )平行的旋轉(zhuǎn)氣流。
3. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所述 氣流生成表面(12, 40)設(shè)置于可旋轉(zhuǎn)盤(16, 38)上。
4. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于所述 氣流生成表面(12, 40)設(shè)置于在運行狀態(tài)下朝著待清潔的所述區(qū) 域(l)延伸的轉(zhuǎn)子葉片(14, 46)上。
5. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10, 30),其特征在于設(shè)置 有顆粒收集器，用于在所述顆粒從待清潔的所述區(qū)域釋放之后收集 所述顆粒。
6. 如權(quán)利要求5所述的清潔裝置(10， 30)，其特征在于所述 顆粒收集器包括圍繞所述氣流生成表面的壁(42),所述壁在運行 狀態(tài)下在與所述氣流生成表面(40)相同的方向上旋轉(zhuǎn)。
7. 如權(quán)利要求6所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所述 壁是圓形的并且包括凸緣(44),所述凸緣從所述壁(42)的下邊 緣位置朝著所述壁的旋轉(zhuǎn)軸延伸。
8. 如權(quán)利要求5所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于所述 顆粒收集器包括裝配到所述氣流生成表面(12)的室(22),所述 室的底表面(23)背向所述氣流生成表面，而且設(shè)置導管(20)， 所述導管包括引導裝置并且具有朝著所述室的開口 (24)和朝著所 述氣流生成表面的開口 (21)以便將顆粒運送到所述室。
9. 如權(quán)利要求8所述的清潔裝置(10， 30)，其特征在于所述 導管(20)是環(huán)形的，并且所述導管朝著所述氣流生成表面的所述 開口 (21 )是環(huán)形的且圍繞所述表面，其中所述導管還包括引導裝 置，該引導裝置包括沿著所述導管的外壁(25)螺旋延伸的伸長突 出物(26 )。
10，如權(quán)利要求8所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于所 述室(22)的底壁(16)包括柔性部分(28)，以及開口 (27)設(shè) 置于所述底壁中和所述氣流生成表面(12)中，其中所述柔性部分 允許所述底壁從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置，在所述保持位置，所述 室的所述底壁朝著用于收集和保持所述顆粒的開口在向上方向上延 伸，而在所述釋放位置，所述室的所述底壁朝著用于釋放所述顆粒 的開口在向下方向上延伸。
11. 如權(quán)利要求10所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所 述柔性部分(28)包括柔性材料的環(huán)。
12. 如權(quán)利要求10所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于設(shè) 置有操縱裝置，以便于從所述保持位置偏轉(zhuǎn)到所述釋放位置。
13. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所 述殼體(32)具有圍繞所述開口 (34)的周向邊緣(48)，所述邊 緣在運行狀態(tài)下接觸待清潔的所述區(qū)域(1 )的表面并且基本上閉合 所述殼體的開口 ，由此產(chǎn)生由所述殼體和待清潔的所述區(qū)域的表面 限定的基本上閉合的空間。
14. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10, 30),其特征在于所 述殼體(6)具有周向邊緣，所述周向邊緣包括沿著該邊緣的周界分 布的多個擋板(29, 52r52n)，其中各擋板背離該邊緣在向下方向 上延伸并且具有用于彈走所述氣流所攜帶的所述顆粒的彈起表面 (58r58n)，所述彈起表面相對于該邊緣的所述周界(56)來傾斜 地定位，用于防止顆粒從所述殼體漏出。
15.如權(quán)利要求14所述的清潔裝置(10， 30)，其特征在于各 彈起表面(58r58n)相對于與所述旋轉(zhuǎn)軸平行的垂直方向來傾殺牛地 定位，以便朝著所述殼體的內(nèi)部在向上方向上彈起撞擊所述擋板的 顆粒。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運走顆粒的清潔裝置(10)，包括殼體(6)，具有將要定位在待清潔的區(qū)域(1)上的開口(8)；可在裝置內(nèi)運動的部件，用于生成用以從該區(qū)域釋放和運走顆粒的氣流；其中該部件包括設(shè)置于殼體(6)內(nèi)的氣流生成表面(12)，所述氣流生成表面在其運行狀態(tài)下面向待清潔的區(qū)域(1)并且具有與所述區(qū)域基本上平行的運動方向以便造成平行于所述區(qū)域的氣流。根據(jù)本發(fā)明的該裝置需要較少能量用于從待清潔的區(qū)域釋放和運走顆粒。
文檔編號A47L5/22GK101155538SQ200680011133
公開日2008年4月2日 申請日期2006年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月1日
發(fā)明者F·R·沃爾霍斯特, F·莫斯, J·H·貝尼迪克塔斯, J·普拉格特, L·J·凱姆普萊 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司