專利名稱：口腔衛(wèi)生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種口腔衛(wèi)生裝置，該裝置特別是用于從口腔的內(nèi)部 空間清除污垢顆粒和沉積物構(gòu)成。此外設(shè)計有可插入到口腔內(nèi)的頂端 件，其具有基本上平面的基面，在基面上設(shè)置有凸起的清潔元件。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，口腔衛(wèi)生裝置作為這種例如采用與舌清潔器組合
的牙刷的方式的口腔衛(wèi)生裝置由US 2006/0026784 Al有所公開。在牙 刷頭遠離牙刷刷毛的背側(cè)的面上設(shè)置多個凸起的元件，如大致長條構(gòu) 成的刮舌元件，但也設(shè)置有單個離散的粒結(jié)狀凸起部。
橫向地在刷頭的背側(cè)分布的刮舌元件在此由相對硬的材料(例如 聚丙烯)制成，而離散的凸起部則優(yōu)選由相對軟的材料(如熱塑性彈 性體)組成。
長條構(gòu)成和由硬材料組成的刮舌元件在其側(cè)壁方面相對于基面可 以具有不同的坡度，以便如果口腔衛(wèi)生裝置的頂端件由使用者沿舌表
面運動的話，由此得到更加主動的刮板性能。
舌表面典型地具有大量不同的凸出部和凹陷部，例如像線狀突出 (Papillen)、菌狀突出、葉狀突出或者壁狀突出。此外這些以不同的 幾何形狀不同構(gòu)成的突出不是均勻地、而是優(yōu)選以不同的平面段設(shè)置 在舌表面上。
現(xiàn)有技術(shù)中所公開的清潔結(jié)構(gòu)對所要清潔的舌表面這種錯綜復(fù)雜和不合常規(guī)的特性大多考慮不足。此外，清潔元件的結(jié)構(gòu)和造型僅為 了從待清潔的表面清除舌苔和沉積物而設(shè)計。
這些具有良好清潔性能的清潔結(jié)構(gòu)大多具有高密度的單個清潔元 件和凸起部，但只是它們在口腔衛(wèi)生裝置使用之后很難清洗和清洗不 足。因此對口腔衛(wèi)生裝置本身的清洗方面考慮不足。但這一點恰恰是 在該裝置的反復(fù)使用情況下具有重要意義。因為恰恰是這些在清潔過 程之后附著在裝置上的和大多是細菌性的沉積物是進一步傳染的來 源。除此之外恰恰是反復(fù)或者說經(jīng)常使用口腔衛(wèi)生裝置會導(dǎo)致污染并 導(dǎo)致細菌和病菌在口腔內(nèi)部傳播。

發(fā)明內(nèi)容
與此相對，本發(fā)明的目的在于，提供一種特別是為了清潔舌而設(shè) 計的口腔衛(wèi)生裝置，該口腔衛(wèi)生裝置一方面關(guān)于無刺激和有效地接收 污垢顆粒以及另一方面對于簡單和快速清潔所清除的污垢顆粒和沉積 物有所改善。
因此利用本發(fā)明提供一種舌清潔器，其在使用之后本身更容易清 潔所接收的污垢顆粒、細菌、病菌以及諸如此類物質(zhì)。
本發(fā)明涉及一種口腔衛(wèi)生裝置，其具有手柄件和頂端件，在頂端 件上設(shè)計有基本上平面的基面。在該基面上設(shè)計有多個垂直的、然而 至少相對于基面傾斜凸起的清潔元件，這些清潔元件具有至少兩種不 同的基本幾何形狀。
至少這種清潔元件中的幾個構(gòu)成為長條的清潔小棒，其在與基面 平行的平面上延伸。此外，設(shè)計有至少一個橫向于清潔小棒的縱向方 向分布并由直接相鄰設(shè)置的清潔元件之間的間隙所形成的通道。該通 道用于運輸由口腔衛(wèi)生裝置從所要清潔的組織表面接收的沉積物。同 時這種橫向于清潔小棒分布的通道可以在使用之后簡單和有效清潔口腔衛(wèi)生裝置。
構(gòu)成至少一個橫向于清潔小棒分布的通道，特別是對沉積物通過 口腔衛(wèi)生裝置的基面均勻分配具有優(yōu)點，并因此可以更加有效地充分 利用整個清潔面。通過清潔小棒被至少一個通道在橫向方向上穿過， 由口腔衛(wèi)生裝置接收的污垢顆粒和沉積物不僅可以沿清潔小棒，而且 還可以橫向于清潔小棒分配。
當要清除的沉積物和污垢顆粒例如由于舌表面錯綜復(fù)雜的特性而 不均勻地且不同地積聚在基面的不同平面段上時，上面所述特別是在 使用口腔衛(wèi)生裝置的情況下具有優(yōu)點。例如在使用時，處于清潔元件 之間口腔衛(wèi)生裝置確定平面段內(nèi)的幾個間隙已經(jīng)完全填充沉積物或者 污垢顆粒，由此其清潔效果受到不利地受到損害。而相反另一平面段 的清潔元件上沉積物。
特別地，如果觀察到口腔衛(wèi)生裝置由使用者利用設(shè)置在牙刷頭背 側(cè)上的清潔元件優(yōu)選沿唯一的運動方向在舌表面上運動，那么由舌清 潔器接收的污垢顆粒例如優(yōu)選積聚在頂端件的直接連接到手柄件的平 面段上。
與此相對，依據(jù)本發(fā)明并相對于長條的清潔小棒傾斜分布的通道 一方面可以使污垢顆粒在口腔衛(wèi)生裝置的整個清潔面上均勻分配，而 此外另一方面可以使口腔衛(wèi)生裝置在使用之后便于清洗和清潔。因此 可以達到在整個基面上盡可能均勻程度的沉積物，從而減少對單個清 潔元件功能性的損害。
按照優(yōu)選的第一實施方式，作為不同基本幾何形狀的清潔元件至 少設(shè)計有長條構(gòu)成的清潔小棒和粒結(jié)狀構(gòu)成的清潔粒結(jié)。清潔小棒具 有沿基面基本上直線的長條分布，而與此相反清潔粒結(jié)則具有在基面 的平面上較小的側(cè)向伸長。粒結(jié)在基面的平面上的這種側(cè)向伸長典型
13地基本上相應(yīng)于清潔小棒的寬度。
與其幾何形狀相應(yīng)，清潔小棒和清潔粒結(jié)在清潔舌表面方面滿足 不同的功能。于是特別地設(shè)計為，清潔粒結(jié)用于分離附著在舌上的沉 積物和污垢顆粒(例如細菌、食物殘渣或者諸如此類)而構(gòu)成。
與此相對，清潔小棒這樣構(gòu)成，使其沿清潔方向運動和移動由清 潔粒結(jié)分離的污垢顆粒和沉積物。清潔小棒因此主要用于從口腔中排 出分離的污垢顆粒和沉積物而構(gòu)成。
按照另一種實施方式設(shè)計為，至少一個通道與各自鄰接到通道上 的清潔小棒的縱向方向基本上垂直分布。那么這種設(shè)置特別具有優(yōu)點 的是，清潔小棒借助其縱向方向與口腔衛(wèi)生裝置的運動方向垂直地設(shè) 置，從而由清潔小棒運輸?shù)某练e物和污垢顆?？梢酝ㄟ^基面上的至少 一個通道分配。按照這種方式和方法，可以有效地抵抗由清潔小棒形 成的凸出部被污垢顆粒完全填充。
此外設(shè)計有至少兩個分布在直接相鄰設(shè)置的清潔元件的間隙內(nèi)的 通道，它們至少彼此區(qū)域式地傾斜分布。實現(xiàn)多個和彼此區(qū)域式傾斜 分布的通道特別是對污垢顆粒在整個基面上的均勻分配具有優(yōu)點。由 此以相同的方式和方法也使常規(guī)的使用之后清潔基面的污物變得容 易。
此外設(shè)計為，至少一個通道基本上直線分布。此外具有優(yōu)點的是， 至少一個通道具有發(fā)散、也就是擴散或者成錐形的斷面。通過這種在 通道的分布上改變的通道寬度能夠以多種方式優(yōu)化運輸機理。變化的 通道寬度在此通過形成通道的、直接相鄰的清潔元件連續(xù)變化的間距 實現(xiàn)。
此外設(shè)計為，至少一個通道彎曲分布。為此特別是可以考慮圓弧
14形的分布或者螺旋形的分布。按照這種方式和方法，沉積物沿基面的 運輸也可相對于口腔衛(wèi)生裝置的清理或者說清潔方向傾斜分布。
通過單個清潔元件之間的間隙形成的通道的分布和構(gòu)造方式特別 是取決于設(shè)置在基面上的清潔元件的基本幾何形狀。對材料運輸起決 定性作用的因素特別是各個清潔元件的間距和面密度以及口腔衛(wèi)生裝 置在清潔過程中優(yōu)選的運動方向和所要清潔的表面(例如舌表面)的 具體構(gòu)造方式。
按照另一種實施方式設(shè)計為，至少兩個清潔小棒借助其縱向側(cè)端 段處于通道的對置的面上。這樣通道在盡管沒有完全由這些間隙形成 的情況下主要由這些間隙形成，所述間隙處于清潔小棒之間的縱向方 向上。
因此設(shè)置在基面上的清潔小棒中的至少幾個這樣彼此設(shè)置和取 向，與清潔小棒各自的縱向延伸基本上垂直形成用于排出沉積物的通
道。直接借助其縱向側(cè)端段對置地鄰接到通道上的清潔小棒優(yōu)選彼此 平行取向。
作為對此的替代或者補充，設(shè)置在通道側(cè)向的清潔小棒也相對于 通道分布盡可能彼此鏡面對稱取向和設(shè)置。
按照另一種實施方式，清潔小棒的縱向延伸隨著通道的分布增加。 由此可以具有優(yōu)點的方式改善和優(yōu)化相對于清潔小棒的縱向方向傾斜
的材料運輸。單個清潔元件，特別是清潔小棒的設(shè)置和構(gòu)造方式在此 可與沉積物和污垢顆粒在口腔衛(wèi)生裝置的基面上本來不均勻的分配和
附著相配合。這樣例如特別是在上面優(yōu)選積聚與清潔粒結(jié)脫離的沉積 物的基面區(qū)域上清潔小棒可以更長和通道寬度可以逐漸更大地構(gòu)成。
但根據(jù)口腔內(nèi)部空間所要清潔的組織表面的構(gòu)造方式，單個清潔元件的替代性的和相反的構(gòu)造方式和設(shè)置也可以是具有優(yōu)點的。
按照另一具有優(yōu)點的實施方式，彎曲的通道的曲率半徑隨著通道 的分布減小，由此特別是生成一種具有螺旋形分布的通道。
按照本發(fā)明另一種優(yōu)選的實施方式，在清潔小棒的縱向延伸的延 長上設(shè)置至少一個清潔粒結(jié)。
特別地按照進一步的構(gòu)成方式設(shè)計為，清潔粒結(jié)特別是設(shè)置在外 部邊緣區(qū)域內(nèi)并且清潔小棒設(shè)置在基面的中心區(qū)域內(nèi)。這種設(shè)置特別 是對清潔不均勻地分配到舌上的不同構(gòu)造的突出具有優(yōu)點。此外，這 種設(shè)置負責將與清潔粒結(jié)分離的污垢顆粒和沉積物在清潔過程中優(yōu)選 積聚在位于中心的清潔小棒上。此外，通過僅沿粒結(jié)進行成角度的刮 動引導(dǎo)而可以提高效果。
因此可以由此支持或確定污垢顆粒和沉積物向基面中間的運輸方 向。這一點特別是對清潔舌的邊緣區(qū)域具有優(yōu)點，因為口腔衛(wèi)生裝置 基面的外置區(qū)域基本上僅用于分離，而不是用于排出污物和沉積物而 設(shè)計。由此可以有效避免舌的邊緣區(qū)域內(nèi)分離的顆粒從所要清潔的表 面?zhèn)认蛲峦埔啤Ｇ鍧嵭“舻闹行脑O(shè)置因此有助于改善接收脫離的污 始顆粒和沉積物。
按照另一種實施方式設(shè)計為，清潔小棒按照魚骨設(shè)置的方式交替 利用優(yōu)選基本相同的角度、但在相反的方向上關(guān)于頂端件的橫向方向 相關(guān)彼此取向。作為選擇，臂之間圍成的角度可以改變。此外，縱向 方向上相鄰放置的清潔小棒沿頂端件的縱軸線彼此相距并在頂端件的 橫向方向上區(qū)域式重疊設(shè)置。
單個清潔小棒關(guān)于頂端件的縱軸線傾斜的和不同的設(shè)置對口腔衛(wèi) 生裝置的單向運動方向情況下的多向清潔效果具有優(yōu)點。通過清潔小棒在頂端件的橫向方向上區(qū)域式重疊設(shè)置，特別是可以進行沉積物向 基面中間的運輸。
按照另一種實施方式，清潔小棒從頂端件的邊緣向中心并向頂端 件的自由端取向，其中，頂端件的自由端可以理解為這樣的端，即所 述端與手柄件對置或遠離手柄件設(shè)置。在考慮到口腔衛(wèi)生裝置在清潔 舌時單向運動方向的情況下，其中口腔衛(wèi)生裝置優(yōu)選從處于口腔深處
的后部的舌區(qū)域開始向前部舌區(qū)域運動，材料運輸向口腔衛(wèi)生裝置頂 端件自由端的方向進行。
按照本發(fā)明另一種具有優(yōu)點的實施方式，清潔元件在其自由的、 遠離基面的端段上倒圓并與基面基本上平行地展平構(gòu)成。清潔元件展 平構(gòu)成的端面在這此作為接觸面使用，其在清潔過程中基本上完全緊 貼在所要清潔的舌表面上。
此外設(shè)計為，倒圓的自由的端按照在側(cè)頰面與端側(cè)展平的接觸面 之間的圓弧的方式構(gòu)成。清潔小棒和清潔粒結(jié)這種倒圓的棱邊可以使 口腔衛(wèi)生裝置在所要清潔的表面上柔和順沿滑動，由此可以避免由于 清潔裝置的銳利的角與口腔內(nèi)部組織的不協(xié)調(diào)而出現(xiàn)突然的和過猛的 運動?？谇恍l(wèi)生裝置因此沒有主動的刮板性能，而是通過不同的清潔 元件、清潔小棒和清潔粒結(jié)功能合適的構(gòu)成方式，可以使舌表面得到 無刺激和同時最有效的清潔。
清潔元件倒圓的自由端特別設(shè)計為在60°到120°的角度范圍內(nèi) 的圓弧。
此外設(shè)計為，圓弧的半徑為各自清潔元件直徑或者寬度的10%到 50%，特別是在25%到40%之間。
此外設(shè)計為，清潔元件倒圓端區(qū)域的高度在各自清潔元件總高度的15%到40%之間。倒圓圓弧的半徑處于0.2mm到0.5 mm之間。全
部清潔元件的這種圓形和展平的構(gòu)造方式特別是用于減少清潔時受傷 的危險，但也是為了口腔衛(wèi)生裝置在所要清潔的表面上柔和并無剌激 地順沿滑動而構(gòu)成。
按照本發(fā)明的另一種觀點，清潔粒結(jié)中的至少幾個在與基面平行 的平面上具有圓形或者橢圓形的橫截面。圓柱體構(gòu)成的清潔粒結(jié)的直 徑或清潔粒結(jié)橫截面的橢圓度特別是與待清潔的突出的取向和大小相 配合。
此外設(shè)計為，清潔元件中的至少幾個在與基面垂直的平面上具有 四邊形的橫截面。在此特別地為清潔粒結(jié)設(shè)計有正方形基面和為清潔 小棒設(shè)計有矩形橫截面。
按照另一種實施方式，清潔粒結(jié)在與基面平行的平面上具有菱形 的橫截面，其中，菱形對角線的長度比在0.2與5之間，特別是在l與 3.5之間。
此外可以設(shè)計為，清潔粒結(jié)和/或者清潔小棒的側(cè)面或者側(cè)頰面中 的至少一個凸形和/或者凹形地彎拱。
此外，清潔元件的側(cè)向邊界或者側(cè)棱邊通過清潔元件的幾乎整個 高度倒圓構(gòu)成。這一點特別是在清潔元件的矩形或者三角形的基本幾 何形狀的情況下具有優(yōu)點，這是因為由此不僅清潔元件的自由端，而 且清潔元件的與基面的平面法線基本上平行分布的全部棱邊和角倒圓 構(gòu)成。這一點有助于進一步減少可能受傷的危險。
按照另一種實施方式，清潔元件中的至少幾個具有向著基面的平 面法線不同地傾斜的惻面。為此特別是設(shè)計有這樣構(gòu)成方式的清潔元 件，所述構(gòu)成方式具有在與基面垂直的平面上基本上三角形構(gòu)成的橫
18截斷面。在這種設(shè)置中，清潔元件遠離基面和尖端縮小的端區(qū)域優(yōu)選 同樣倒圓構(gòu)成。
此外設(shè)計為，清潔元件中的至少幾個，特別是清潔粒結(jié)截圓錐式 構(gòu)成。特別具有優(yōu)點的是，在此截圓錐式構(gòu)成的清潔粒結(jié)構(gòu)成為沿其 縱向方向剖切并借助該剖面處于基面上的截圓錐。由此形成一種具有 半圓形側(cè)面和尖端縮小的半錐形面的清潔元件。半錐形外表面和半圓 形側(cè)面的過渡在此同樣倒圓。
此外設(shè)計為，清潔粒結(jié)具有球形或半球形基本幾何形狀，所述基 本幾何形狀帶有相對于基面基本上傾斜分布和直接鄰接到基面上的凹 形彎拱的側(cè)面。在這里，凹形彎拱的側(cè)面向球形表面的過渡優(yōu)選也倒 圓構(gòu)成。凹形彎拱在此可以不同地構(gòu)成，例如構(gòu)成為以基面平面法線 作為中心的彎拱，但例如也可以與其垂直地構(gòu)成。
按照本發(fā)明的另一種優(yōu)選實施方式，清潔元件的寬度或者直徑小 于或者等于其高度。高度寬度比大于1特別是可以為清潔元件使用相 對軟的塑料材料，所述塑料材料對于無刺激和不費力清潔舌表面來說 具有優(yōu)點。
這樣特別地設(shè)計為，清潔元件的寬度至少為0.5mm，優(yōu)選至少為 0.6 mm。
按照另一種實施方式設(shè)計為，清潔元件的高度至少為0.6mm，優(yōu) 選至少為0.7 mm。
按照本發(fā)明另一種具有優(yōu)點的觀點，清潔粒結(jié)的基面積至少為0.2 mm2，然而優(yōu)選不少于0.25 mm2。清潔粒結(jié)的基面是指清潔粒結(jié)處于 頂端件基面上的那個橫截面。
19此外設(shè)計為，剖面上圓形的清潔粒結(jié)的最大橫截面積為0.8 mm2。 所有清潔元件/粒結(jié)具有最大4 mm2、特別是3 mm2的橫截面積。
按照另一種實施方式，在基面設(shè)置清潔粒結(jié)的那個平面節(jié)段上， 全部清潔粒結(jié)的(通過最外部的清潔粒結(jié)限制的)基面積的總和最高 為該平面節(jié)段面積的75%，特別是該平面節(jié)段面積的10-50%。因此單 個清潔粒結(jié)相當緊密并以例如0.2 mm到0.3 mm的這種與此相應(yīng)小的 間距彼此相距設(shè)置。
因此與清理方向無關(guān)產(chǎn)生清潔效果。
按照另一種實施方式，清潔元件中的至少幾個與手柄件的縱軸線 鏡面對稱地取向和/或者設(shè)置。
此外可以設(shè)置為，清潔元件，其中特別是清潔小棒和/或者清潔粒 結(jié)相對于基面的中心或相對于頂端件的平面中心點對稱設(shè)置。清潔元 件的鏡面對稱或點對稱設(shè)置不僅涉及其位置，而且主要還涉及清潔元 件關(guān)于手柄件或者頂端件的縱軸線的定向。
按照另一種實施方式設(shè)計為，清潔小棒至少區(qū)域式地具有相對于 基面的平面法線在-30° 、特別是10°至lj+60。(底切(Hinterschnitt))、
特別是45°的角度范圍內(nèi)傾斜的側(cè)頰面或者側(cè)面。因此清潔小棒不僅 可以構(gòu)成為矩形或者方形的小棒，而且也可以構(gòu)成為具有平行四邊形 或者梯形構(gòu)成的橫截斷面的結(jié)構(gòu)。
側(cè)面在此既可以相對于小棒的自由端成錐形，也可以加寬構(gòu)成。 在后一種構(gòu)造方式的情況下，清潔小棒的側(cè)頰面或者側(cè)面形成至少一 個底切，所述底切可以具有優(yōu)點地用于接收舌表面的沉積物和污垢顆 粒。在此優(yōu)選加寬。底切僅在與軟塑料材料的關(guān)聯(lián)的情況下需要。按照本發(fā)明的另一種觀點，在基面設(shè)置清潔小棒的那個平面節(jié)段上，與基面平行的全部清潔小棒橫截面積的總和在該平面節(jié)段面積的5%到50%之間。與清潔粒結(jié)的設(shè)置相比，清潔小棒優(yōu)選以彼此更大的間距設(shè)置在口腔衛(wèi)生裝置的基面上。因此一方面清潔小棒之間用于接收污物而設(shè)計的間隙變大了。另一方面，可以使污垢顆粒在基面上更好地分配和更好地運輸。由此以相同的方式也使完成口腔內(nèi)部空間清潔過程之后基面的清潔得到改善并變得容易。
按照另一種實施方式設(shè)計為，至少一個通道的最小寬度為0.5mm，特別是0.8 mm并且至少一個通道的最大平均寬度為2 mm，特別是1.5mm。
此外設(shè)計為，至少一個通道的縱向延伸至少為5mm。按照這種方式和方法，借助至少一個通道可以在至少5 mm的距離上與清潔小棒的縱向延伸基本上垂直進行材料運輸。
按照本發(fā)明的另一種觀點，在基面遠離手柄件的段內(nèi)設(shè)置至少一個具有兩個基本上彼此垂直取向的臂的彎折分布的清潔小棒。在此，
每個臂按照具有基本上矩形基本幾何形狀的直線分布的清潔小棒的方式構(gòu)成。兩個彼此直角設(shè)置的臂優(yōu)選在頂端件的縱軸線上相互整體連接。在此，兩個臂各自從中心地沿頂端件分布的縱軸線傾斜向外并向手柄件的方向上延伸。
按照本發(fā)明的另一種具有優(yōu)點的觀點，作為與基面平行平面上的清潔元件設(shè)計有彎曲分布的清潔圓弧。這種優(yōu)選同樣在清潔元件的自由端段上倒圓構(gòu)成的清潔圓弧具有特別是處于頂端件自由端區(qū)域內(nèi)刮舌元件的功能。這些有時壁形構(gòu)成的清潔圓弧利用其側(cè)面或者側(cè)頰面主要相對于基面的平面法線傾斜分布。
在此特別設(shè)計為，特別是清潔圓弧向著手柄件設(shè)置的側(cè)頰面以與
21基面成85°到100°的角度分布，從而清潔圓弧可以形成底切，沉積物和污垢顆粒在清潔過程期間可以集合在該底切內(nèi)。
此外設(shè)計為，至少兩個沿手柄件的縱軸線彼此相距的清潔圓弧和/或者至少兩個彎折分布的清潔小棒設(shè)置在口腔衛(wèi)生裝置的基面上。
在此特別設(shè)計為，弧形或彎折分布的清潔元件的高度不同并特別是向著頂端件的中心增加。這種不同高度構(gòu)成和在其功能上刮動的清潔元件出于這種考慮，即所要清潔的舌表面不是構(gòu)成為平坦的，而是構(gòu)成為區(qū)域式彎曲的表面。此外通過不同高度構(gòu)成的清潔元件，與舌結(jié)構(gòu)配合的和特別無刺激的清潔是可能的。
按照本發(fā)明的另一種觀點，全部清潔元件由熱塑性彈性體組成，
其具有30到70 A、特別是40到60 A的肖氏硬度。這種柔性的塑料材料使得可以以舒適的和受使用者歡迎的方式清潔舌或者還有牙齦。在彈性塑料材料方面，在這里需要注意單個清潔元件的幾何尺寸和設(shè)計尺寸。具有在亞毫米范圍內(nèi)的尺寸的高度寬度的比大于1和40到60 A
的肖氏硬度的組合預(yù)防受傷，并特別是通過實現(xiàn)具有不同幾何形狀和大小的清潔元件，同時提供口腔內(nèi)部空間柔軟身體組織的有效清潔效果。
按照本發(fā)明的另一種具有優(yōu)點的實施方式設(shè)計為，由熱塑性彈性體組成的清潔元件與設(shè)計在頂端件上的基面整體連接。此外在此具有優(yōu)點的是，由熱塑性彈性體形成的基面無縫地和整體地至少過渡到手柄件的背側(cè)內(nèi)。
按照另一種具有優(yōu)點的觀點，頂端件具有至少兩種優(yōu)選不同彈性的不同塑料材料。除了優(yōu)選由熱塑性彈性體形成的基面外，頂端件的芯優(yōu)選由較硬的塑料(例如聚丙烯)組成。口腔衛(wèi)生裝置由聚丙烯形成的芯元件因此基于其相對非柔性和剛性特性負責清潔過程期間同時以及直接控制口腔衛(wèi)生裝置。這樣由使用者施加的壓力基本上無變化并直接傳遞到口腔內(nèi)部空間所要清潔的面上。
按照另一種實施方式設(shè)計為，形成基面的塑料材料在其底側(cè)和側(cè)面上幾乎完全包圍頂端件。因為口腔衛(wèi)生裝置優(yōu)選利用其頂端件的底側(cè)來清潔舌而構(gòu)成，所以基本上封閉的并設(shè)有清潔元件的面與舌表面接觸。
這種實施方式就此而言具有優(yōu)點，因為牙刷頭的背側(cè)和側(cè)面可以在口腔內(nèi)更加舒適地運動。
此外設(shè)計為，頂端件區(qū)域內(nèi)較硬的塑料材料具有至少凸起部，所述凸起部表面齊平地嵌入由較軟塑料形成的基面內(nèi)。凸起部在此基本上與基面垂直延伸并因此在某種程度上可以說伸入到基面內(nèi)部。
此外設(shè)計為，伸入到基面內(nèi)的凸起部自身具有比基面更淺的著色和/或者光學(xué)上更小的吸收率。按照這種方式和方法，因此在清潔過程期間也可以由使用者無太大問題地直接目測和掌握頂端件基面的污染程度。
按照本發(fā)明的另一種具有優(yōu)點的觀點，在基面的中心設(shè)計有至少一個用于接收清潔介質(zhì)而構(gòu)成的平面段。為清潔介質(zhì)而設(shè)計的平面段基本上平面地和無凸起的清潔元件地構(gòu)成。
此外可以設(shè)計為，用于接收清潔介質(zhì)而設(shè)計的平面段具有用于清潔介質(zhì)的凹陷部或者完全構(gòu)成為相對于基面凹陷的段。用于接收清潔介質(zhì)而設(shè)計的平面段設(shè)置在基面的中間，這種設(shè)置特別適用于將清潔介質(zhì)均勻分配在所要清潔的舌表面上。
按照另一種獨立的觀點，本發(fā)明涉及一種口腔衛(wèi)生裝置，其中頂端件與基面對置的前側(cè)構(gòu)成為裝有牙刷刷毛的牙刷頭。就此而言，依據(jù)本發(fā)明特別是用于清潔舌而設(shè)計的口腔衛(wèi)生裝置可以與牙刷相組合或者與牙刷整體構(gòu)成。


本發(fā)明的其他目的、特征以及具有優(yōu)點的應(yīng)用可能性來自結(jié)合附圖的實施例的下列說明。在此，說明的和/或者圖示的全部特征本身或者任意適當?shù)慕M合形成本發(fā)明的主體，也獨立于權(quán)利要求或其引用的前述權(quán)利要求。其中
圖1以俯視圖示出口腔衛(wèi)生裝置實施方式的示意圖2示出依據(jù)圖1的口腔衛(wèi)生裝置的透視圖3示出依據(jù)圖1的口腔衛(wèi)生裝置的另一透視圖4示出依據(jù)圖1-3的實施方式的清潔小棒的透視圖5示出依據(jù)圖4的清潔小棒的橫截面；
圖6以另一透視圖示出依據(jù)圖4的清潔小棒；
圖7示出依據(jù)圖4的清潔小棒的縱向剖面；
圖8示出依據(jù)圖1的實施例清潔粒結(jié)的透視圖9以側(cè)視圖示出依據(jù)圖8的清潔粒結(jié)；
圖IO示出圖8清潔粒結(jié)的橫截面圖11示出具有梯形構(gòu)成清潔元件的另一實施例的透視圖12示出圖11的清潔元件的放大透視圖13示出半圓錐形清潔粒結(jié)的透視圖14示出半球形清潔粒結(jié)的透視圖15示出依據(jù)圖14的半球形清潔粒結(jié)的側(cè)視圖16示出橫截面心形的清潔粒結(jié)的透視圖17示出依據(jù)圖16的清潔粒結(jié)從斜上面的另一透視圖18示出橢圓形構(gòu)成的清潔元件的透視圖19示出依據(jù)圖18具有橢圓形橫截面的清潔元件另一透視圖20示出菱形構(gòu)造的清潔元件的透視圖21示出依據(jù)圖20的清潔元件的另一透視24圖22示出在棱邊上倒圓的清潔元件四方形橫截面的透視圖23示出具有總計三個不同類型構(gòu)成的清潔元件的舌清潔器的另一實施例；
圖24示出依據(jù)圖23的清潔元件從斜上面的透視圖25示出依據(jù)圖23的舌清潔器從斜側(cè)面的另一透視圖26示出三個彎折的和成角度分布的清潔小棒的示意透視圖27示出具有刮舌元件的舌清潔器的另一實施例；
圖28示出依據(jù)圖27實施例的透視圖29示出依據(jù)圖27的實施例從斜側(cè)面的另一透視圖30示出舌清潔結(jié)構(gòu)的另一實施例；圖31示出依據(jù)圖30的舌清潔器的透視圖；圖32以俯視圖示出基面上清潔小棒和清潔粒結(jié)另一配置；圖33示出依據(jù)圖32的結(jié)構(gòu)的透視圖；圖34示出依據(jù)圖32的結(jié)構(gòu)從斜側(cè)面的另一透視圖；圖35以俯視圖示出帶有清潔小棒和清潔粒結(jié)的另一螺旋形設(shè)置的清潔結(jié)構(gòu)；
圖36示出具有以魚骨圖案類型設(shè)置的清潔小棒的舌清潔器配置；
圖37示出依據(jù)圖36的舌清潔器的透視圖38示出依據(jù)圖36的舌清潔器從斜側(cè)面的另一透視圖39以俯視圖示出另一清潔小棒配置的視圖40示出依據(jù)圖39的配置從斜上面的視圖；以及
圖41示出牙刷的側(cè)視圖42示出依據(jù)圖41的牙刷的俯視圖；以及
圖43示出依據(jù)圖41牙刷的后視圖。
具體實施例方式
圖1到3示出舌清潔器形式的口腔衛(wèi)生裝置10的第一實施例，舌清潔器具有頂端件12和鄰接到的頂端件上的手柄件14。頂端件12上
設(shè)計有基本上平面的基面18，上面設(shè)置至少兩個不同類型或方法的凸起清潔元件20、 22、 24、 25、 26、 28。
25作為清潔元件在該實施例中一方面可以考慮圓柱體構(gòu)成的清潔粒
結(jié)20和采用不同縱向延伸構(gòu)成的長條和直線分布的清潔小棒22、 24、25、 26、 28。
取決于其各自幾何形狀的構(gòu)造，單個清潔元件22、 24、 25、 26這樣設(shè)置在基面18上，即使得形成至少一個橫向于清潔小棒22、 24、 25、26的縱向方向分布的、并由直接相鄰放置的清潔元件22、 24、 25、 26之間的間隙所組成的通道。該通道特別是用于均勻分配和運輸清潔過程期間由舌清潔器IO接收的沉積物和污垢顆粒。
依據(jù)圖1和3的實施例具有多個橫向于清潔小棒22、 24、 25、 26的縱向方向分布的通道。于是例如，圖1中向右下彎曲分布的第一通道在清潔小棒26的高度上開始。該通道然后分布在清潔小棒24與25之間并最終在設(shè)置在手柄附近的清潔小棒22的高度上結(jié)束。
中心設(shè)置的凸起部30上面右側(cè)的另一清潔通道以類似的方法和方式同樣分布在小棒26的高度上并在其通道寬度加寬情況下向左上彎曲。
側(cè)面鄰接到通道上的單個清潔小棒隨著沿通道分布的增長具有增加的縱向延伸。此外，鄰接到通道上的相鄰清潔小棒22、 24、 26、 28的取向逐漸以確定變化的角度改變，從而最后清潔通道的第一清潔小棒26和最后的清潔小棒22以30°到80°彼此扭轉(zhuǎn)設(shè)置。也可以很容易地設(shè)想到略大于90?；蛘呱踔?80。的更大角度范圍。
通過單個清潔小棒22、 24、 25、 26、 28的不同取向，即使在單向清潔運動時，例如像直線的前后運動時，也能取得橫向于口腔衛(wèi)生裝置10的運動方向的清潔效果。圖1到3所示清潔元件20、 22、 24、 25、 26、 28的設(shè)置此外與中 心設(shè)置的凸起部30的中心基本上點對稱。與基面18整體構(gòu)成的該凸 起部30與頂端件12的芯材料13整體連接。而圖1到3所示頂端件 12的整個背側(cè)相反則采用一層軟塑料材料(如熱塑性彈性體)覆蓋， 其特別是也包圍頂端件12的側(cè)邊緣15。
形成基面18的彈性體層此外無縫過渡到手柄件14的背側(cè)內(nèi)。在 頸部13的區(qū)域內(nèi)，頂端件和手柄件14的較硬芯區(qū)域露在包圍頂端件 12的彈性體層18外面，該區(qū)域特別是由例如像聚丙烯這種硬塑料材料 制成。與芯材料13整體連接的凸起部30穿破基面18并與基面18表 面齊平封閉。凸起部30因此與基面18整體構(gòu)成并由單個清潔元件28 側(cè)向圍繞。
頂端件12與彈性體層惻面搭接以及由芯材料凸起構(gòu)成的凸起部 30嵌入基面18內(nèi)對不同塑料的接合和會合、特別是在考慮到基面18 與凸起部之間形成形狀配合的連接的情況下具有優(yōu)點。
圖1到3中未詳細示出的頂端件12的前側(cè)構(gòu)成為特別是可以用于 安裝大量的牙刷刷毛16，從而可以使口腔衛(wèi)生裝置具有作為牙刷和舌 清潔器的雙重功能。
圖4到6舉例以不同的視圖示出清潔小棒25。清潔小棒25在其 遠離基面18的自由端段上具有與基面基本上平行分布的展平接觸面36 以及倒圓的棱邊區(qū)域。此外，全部清潔小棒22、 24、 25、 26、 28的高 度31與寬度32之比大于或者等于1。
這樣特別地設(shè)計為，清潔小棒的高度至少為0.6mm，但優(yōu)選至少 為0.7mm，而清潔小棒22、 24、 25、 26、 28的寬度至少為0.5mm，優(yōu) 選至少為0.6mm。形成側(cè)面與端側(cè)的接觸面36之間過渡的倒圓區(qū)域用 于使口腔衛(wèi)生裝置沿所要清潔的面易于和平滑地滑動。幾乎在每個方向上均倒圓的清潔小棒主要用于運輸已經(jīng)與舌表面 分離的沉積物和污垢顆粒。按照這種方法和方式， 一方面可以將舌組 織受傷的危險降到最低限度以及優(yōu)化沉積物從口腔的排出。
圖8到IO示例示出圓柱體構(gòu)成的清潔粒結(jié)。清潔粒結(jié)在其遠離基 面18的端段上也倒圓地分布并具有鄰接到倒圓上的展平接觸面38。
清潔粒結(jié)20的曲率半徑40以及清潔小棒22、 24、 25、 26、 28的 曲率半徑33處于清潔小棒22、 24、 25、 26、 28寬度32的10%到50% 之間、特別是25%到40%之間的范圍內(nèi)，或處于圓柱體構(gòu)成的清潔粒 結(jié)20直徑41的10%到50%、特別是25%到40%之間的范圍內(nèi)。
清潔粒結(jié)20的高度39與直徑41之比基本上相當于清潔小棒22、 24、 25、 26、 28的高度與寬度比。
與清潔小棒22、 24、 25、 26、 28的功能相反，清潔粒結(jié)20用于 插入舌的表面凹陷部或者間隙內(nèi)而構(gòu)成，以便在那里分離污垢顆?；?者其他沉積物。不同地構(gòu)造的清潔元件，即清潔粒結(jié)20和清潔小棒22、 24、 25、 26、 28因此為不同的功能安設(shè)并具有與此相應(yīng)不同的幾何形 狀。
清潔小棒22、 24、 25、 26、 28和清潔粒結(jié)20的僅高度基本相同。 粒結(jié)20至少不超過清潔小棒22、 24、 25、 26、 28。
圖11示出具有扇形設(shè)置清潔元件42的另一實施例，清潔元件42 具有與基面18平行的大致三角形的橫截面。圖12中以透視詳圖示出 的基本上尖端縮小和在其自由端上倒圓構(gòu)成的清潔元件42特別地具有 不同傾向的側(cè)頰面或者側(cè)面50、 48。特別是彼此間銳角縮小的側(cè)面或者側(cè)頰面50、 48通過倒圓51、 52相互連接。
在圖11的實施例中，單個清潔元件42的縱向延伸隨著與手柄件 14間距的增加而擴大。此外，在頂端件12與手柄件14對置設(shè)置的自 由端段區(qū)域內(nèi)設(shè)置三個彎折和成角度分布的清潔小棒44、 45、 46。它 們此外各自設(shè)有兩個基本上彼此垂直取向的臂。該彎折分布的清潔小 棒用于收集此前在單個清潔元件42的清潔過程期間從舌表面分開的殘 渣、沉積物和污垢顆粒。
圖13示出清潔粒結(jié)54的另一實施例，其按照分為兩半的截圓錐 方式構(gòu)成。半圓形的側(cè)頰面或者端面60與基面18基本上垂直設(shè)置， 而通過倒圓58與側(cè)頰面或者端面60毗連的錐形外表面56則利用逐漸 變小的高度過渡到基面18內(nèi)。于是證明這種平放和分為兩半方式的截 圓錐構(gòu)成的清潔粒結(jié)54具有的優(yōu)點是，僅需在口腔衛(wèi)生裝置10的運 動方向上對舌施以清潔效果。
例如，如果側(cè)頰面或者端面60在外表面56的清潔運動時超前， 那么分離的材料至少由端面60繼續(xù)推移或者分開。與此相反在清潔粒 結(jié)54運動方向相反時，則由于清潔粒結(jié)向著倒圓58持續(xù)上升而幾乎 沒有清潔效果。通過相對于縱軸線以不同角度設(shè)置清潔元件，特別是 在元件分為兩半的平放截圓錐形狀、截放棱錐形情況下可以形成不同 作用的清潔面。
圖14和15示出球形清潔粒結(jié)64的另一實施例。這種按照半球方 式構(gòu)成的清潔粒結(jié)64幾乎其最大橫截面平置于基面18上，從而僅向 上以減小的橫截面延伸的半球從基面18突出。
此外，半球形的清潔粒結(jié)64設(shè)有向內(nèi)彎拱的側(cè)頰面68，其從清 潔粒結(jié)64的根部幾乎一直延伸到基面18之上的清潔粒結(jié)的最高凸起部。就此而言，球形清潔粒結(jié)64也可以近似描述成四分之一球，其平
面的，也就是非球形的側(cè)具有凹形的彎拱。凹形彎拱68向凸形地構(gòu)成 的球表面的過渡也構(gòu)成為倒圓66，從而在這里也可以將可能受傷的危
險降到最低限度。
類似于圖13所示的實施例，半球形構(gòu)成的清潔粒結(jié)也提供一種基 本上單向的清潔效果。
圖16和17以不同的透視圖示出清潔粒結(jié)70的另一實施例。清潔 粒結(jié)70的基面類似于心形，其在第一近似中可以作為三角形描述，所 述三角形具有倒圓的角、兩個向外彎拱和一個向內(nèi)彎拱的側(cè)壁。
清潔粒結(jié)70凹形向內(nèi)彎拱的側(cè)頰面或者側(cè)面72以及兩個凸形向 外彎拱的側(cè)頰面或者側(cè)面76與基面18的平面基本上垂直分布。側(cè)面 72、 76向與基面18基本上平行分布的接觸面75的過渡也不是作為棱 邊，而是以倒圓74的方式實現(xiàn)。
圖18和19示出另一種清潔元件78，其在本發(fā)明的意義上既可以 描述成橢圓形的清潔元件，也可以描述成沿縱軸線對稱拱起的清潔小 棒。側(cè)面在這里類似于圖16和17中的三角形那樣，也與基面18基本 上垂直分布。但達到接觸面80的上部區(qū)域再次構(gòu)成為接觸面與側(cè)面之 間環(huán)繞上部邊緣區(qū)域的倒圓。
圖20和21此外以不同的透視圖示出清潔粒結(jié)84，其具有菱形構(gòu) 成基面。這種清潔粒結(jié)84能夠以不同的構(gòu)造方式和幾何形狀實現(xiàn)。兩 條對角線90、 92的長度比可以在0.2到5之間。
圖22此外示出立方體構(gòu)成的清潔粒結(jié)94的透視圖，清潔粒結(jié)94 在其遠離基面18的自由端上具有展平的接觸面96。此外，全部角和彼 此鄰接的側(cè)構(gòu)成為倒圓98、 99。
30圖23到25示出口腔衛(wèi)生裝置的另一實施例，其中設(shè)置三個不同
類型的清潔元件，即清潔粒結(jié)20、清潔小棒24、 26和三個具有不同高 度彎折分布的清潔小棒100、 102、 104。清潔元件20、 24、 26、 100、 102、 104的整個設(shè)置相對于手柄件或頂端件的縱軸線105鏡面對稱構(gòu) 成。
清潔粒結(jié)20沿縱向側(cè)以兩行彼此偏移設(shè)置，而向頂端件的橫軸線 傾斜分布的清潔小棒24、 26則成對設(shè)置在相同的高度上地向內(nèi)并向自 由頂端分布。單個清潔小棒26、 24的縱向延伸向著頂端件12的自由 端增加。
在頂端件12的上部端段上，沿頂端件12的縱軸線105彼此偏移 設(shè)置三個彎折分布的清潔小棒IOO、 102、 104。每個彎折分布的清潔小 棒IOO、 102、 104具有兩個彼此以約90°扭轉(zhuǎn)設(shè)置并相互在頂端件12 的縱軸線105高度上整體連接小棒式構(gòu)成的側(cè)臂。每個單個彎折分布 的清潔小棒IOO、 102、 104具有基本不變的垂直斷面。
三個彎折的清潔小棒100、 102、 104不同高度構(gòu)成。清潔小棒100 的具有比直接相鄰放置的清潔小棒102小的高度，清潔小棒102具有 比放置于最內(nèi)部的彎折的清潔小棒104還小的高度。與頂端件的芯材 料108整體連接的凸起部106在彎折分布的清潔小棒104的臂與直線 分布的清潔小棒24、 25之間與基面18平面齊平地放置。
除了具有優(yōu)點的固定可能性外，嵌入基面18的凸起部106在使用 例如白或者黃塑料的情況下，為頂端件的不同塑料材料提供的可能性 是，以簡單和可靠的方式目測檢查清潔應(yīng)用期間舌清潔器的污染程度。
此外，凸起部106所處的那個段形成基面18內(nèi)部的中心區(qū)域，中 心區(qū)域不具有清潔元件，而是僅由清潔元件圍繞。因此環(huán)繞凸起部設(shè)置的平面段也適用于接收清潔介質(zhì)。
圖26再次以放大圖和側(cè)向的透視圖示出依據(jù)圖23到25的實施例 的不同高度構(gòu)成的彎折或成角度分布的清潔小棒100、 102、 104。
圖27和28示出舌清潔器另一實施方式的俯視圖和透視圖。在這 里也使用總計三種不同類型地構(gòu)建的清潔元件20、 22、 26、 110、 112、 114。每個清潔小棒22、 26在這種情況下與各自兩個清潔粒結(jié)20配對， 其中，各自一個清潔粒結(jié)20以一定間距處于每個清潔小棒22、 26的 縱向延伸的延長上。
單個清潔小棒22、 26按照螺旋線的方式設(shè)置，其中，無論是相鄰 小棒22、 26的間距還是其定向，均隨著連續(xù)的延展的螺旋線增長。幾 乎在任何情況下，清潔小棒26、 22與各自在縱向方向上所配屬的清潔 粒結(jié)20之間的間隙也以類似的方式和方法加大。用于排出沉積在清潔 小棒22、 26上的污垢顆粒而設(shè)計的通道各自分布在清潔小棒22、 26 的縱向側(cè)端和與其在縱向方向上相距設(shè)置的清潔粒結(jié)20之間。
清潔粒結(jié)20和清潔小棒22、 26的整個設(shè)置基本上相對于在基面 18上整體構(gòu)成的凸起部30的中心點對稱地設(shè)置。凸起部30上部左側(cè) 開始的螺旋線從左上向右下彎曲，而由清潔小棒22、 26和清潔粒結(jié)20 形成的其他螺旋形設(shè)置則從右下向左上環(huán)繞平面上橢圓形構(gòu)成的凸起 部30分布。
在頂端件12的自由端上設(shè)置另外三個彎折分布的作為刮板或者 收集元件構(gòu)成的清潔小棒110、 112、 114。這些清潔小棒具有帶不同陡 峭側(cè)壁的不對稱橫截斷面。清潔小棒114、 112、 110朝向清潔粒結(jié)20 和直線分布的清潔小棒22、 26的那側(cè)與基面18幾乎垂直分布，而朝 向頂端件12自由端的側(cè)面或者側(cè)頰面則以相當平緩的角度向基面伸 展。這些基本上在整個頂端件12上橫向分布的清潔元件110、 112、 114特別是用于刮去和收集分離的顆粒而構(gòu)成。
圖30和31示出另一實施例，其與圖27到29的實施方式相比無 設(shè)置在頂端件12自由端上的清潔小棒110、 112、 114地構(gòu)成。取而代 之，對成對設(shè)計的清潔小棒24、 22和清潔粒結(jié)20的螺旋形設(shè)置在頂 端件12的縱向方向上，在長度上延長了。
圖32到34以不同的透視圖進一步給出清潔小棒24、 26和清潔粒 結(jié)20的另一種點對稱設(shè)置。在這種設(shè)置中，幾乎為每個清潔小棒24、 26配屬一個處于外面的清潔粒結(jié)20。在這里清潔小棒也沿一條螺旋線 設(shè)置，其中，通道要么設(shè)計在清潔粒結(jié)20與清潔小棒24、 26之間， 要么僅設(shè)計在在縱向方向上彼此相距的清潔小棒24、 26之間。
圖35以俯視圖示出點對稱和螺旋形設(shè)置的清潔小棒26、 22和清 潔粒結(jié)20的另一實施例。圖36到38最后示出頂端件12的另一實施 方式，頂端件12設(shè)計有三種不同構(gòu)成的清潔元件20、 116、 118以及 124、 126、 128。清潔粒結(jié)20邊緣側(cè)地和彼此偏移地設(shè)置在朝向手柄 件14的下部區(qū)域內(nèi)。
在其之間具有總計設(shè)計有六個清潔小棒116、 118，它們按照魚骨 圖案的類型設(shè)置，其從下部的頂端件開始交替地從外向內(nèi)并始終向頂 端件的自由端分布設(shè)置。
與其取向相關(guān)鏡面對稱分布的清潔小棒118、 116在此不是處于頂 端件12的相同高度上，而是各自在縱向方向上彼此偏移。在頂端件12 的右側(cè)傾斜向內(nèi)和向上分布的清潔小棒116利用其內(nèi)置端在縱向方向 上區(qū)域式地與鏡面對稱和偏移設(shè)置在頂端件左側(cè)上的清潔小棒118重 疊放置。
33在頂端件自由端的區(qū)域內(nèi)，設(shè)計有三個片狀或者壁狀、略微彎曲
或尖端圓弧形構(gòu)成的清潔小棒128、 126、 124。這些清潔小棒向頂端件 的中間傾斜，從而各自指向頂端件12的中心的側(cè)頰面或側(cè)面具有優(yōu)點 地可以用于收集沉積物和污媚顆粒。
此外，特別是借助圖37的透視圖可以看出，清潔元件20、 116、 118以及在頂端件12中間片狀構(gòu)成的清潔元件124、 126、 128具有大 于左側(cè)和右側(cè)的邊緣的高度。這種設(shè)置考慮到這種觀點，即處于其下 面的基面18也不完全是平坦的，而是向頂端件12的側(cè)面邊緣略微向 下傾斜地分布。
圖39和40示出依據(jù)圖36到38的實施方式的清潔元件20、 116、 118的另一設(shè)置。在這里，清潔粒結(jié)形成環(huán)繞整個基面的邊緣，而按照 魚骨圖案的類型設(shè)置的清潔小棒116、 118則處于由清潔粒結(jié)20形成 的邊緣內(nèi)部。
在圖36到40的實施例中，鄰接到清潔小棒116、 118的通道S形 或者蛇形分布在單個清潔小棒118、 116的內(nèi)置端段之間。
這些實施例優(yōu)選具有這樣的清潔元件，其基本相對于基面垂直的 側(cè)面積在所有元件上的總體相加處于50 mm2到200 nun2之間，特別是 60mm2至U 180mm2之間并首先處于60mm2到120mm2之間，其中，上 下極限值也可以更換。情況表明，在該范圍內(nèi)所有垂直(有效)清潔 面積的總和的情況下，與其他情況下可能僅按摩效果或者較差的清潔 效率相比，可以取得最佳的清潔結(jié)果。
圖41到43示出牙刷200方式的口腔衛(wèi)生裝置的另一實施例。在 此，舌清潔器10如圖1中那樣設(shè)計在牙刷頭背側(cè)201上(參見圖43)。 選擇性地，牙刷可以設(shè)有此前介紹的其他舌清潔器或者其中所述的元件。圖42所示的牙刷頭前側(cè)204具有帶有大量絲束203的刷毛區(qū)202 并特別是在刷毛區(qū)202的側(cè)向具有牙齦按摩棒205、 206。牙齦按摩棒 或者說按摩凸緣205、 206優(yōu)選由TPE (熱塑性彈性體)塑料構(gòu)成并因 此優(yōu)選由與舌清潔器IO相同的材料噴涂注塑在PP(聚丙烯)牙刷基體 上。牙刷頭因此以2組分壓力注塑法制造，其中，需要時通過手柄區(qū) 域內(nèi)TPE軟組分補充進第三組分或者與頭部相同的軟組分。圖41到 43中硬組分采用A和軟組分采用B標注。因此具有優(yōu)點的是舌清潔器 10和牙齦按摩棒可以在一個注塑步驟中制造。在所示的實施方式中， 刷頭側(cè)頰上和/或者刷頭背側(cè)上選擇性設(shè)計有多個空隙207。這些空隙 207設(shè)置在縱向延長的牙齦按摩棒205、 206的下面或與其相鄰設(shè)置。 因此壓力注塑之后冷卻時TPE塑料收縮在空隙的區(qū)域內(nèi)由于更小的 TPE材料厚度而大大減少，從而按摩凸緣205、 206在壓力注塑之后保 持在所設(shè)計的(直立)位置上，正如在無空隙207的情況下那樣。具 有與按摩凸緣205、 206相鄰的空隙207的這種構(gòu)成也可以不依賴于舌 清潔器而設(shè)計，也在沒有該舌清潔器的情況下并且在所有牙刷類型中 設(shè)計。
權(quán)利要求
1. 口腔衛(wèi)生裝置，具有手柄件(14)和頂端件(12)，在所述頂端件上設(shè)計有基本上平面的基面(18)，在所述基面(18)上設(shè)置具有至少兩種不同基本幾何形狀的凸起的清潔元件(20、22、24、25、26、28；42；54；62；70；78；84；94；100、102、104；110、112、114；116、118；124；126；128)，在所述清潔元件中的至少幾個構(gòu)成為長條的清潔小棒(22、24、25、26、28、116、118)，其中，設(shè)計有至少一個橫向于清潔小棒(22、24、25、26、28、116、118)的縱向方向分布并由直接相鄰設(shè)置的清潔元件(20、22、24、25、26、28；42；54；62；70；78；84；94；100、102、104；110、112、114；116、118；124；126；128)之間的間隙形成的通道。
2. 按權(quán)利要求l所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，作為清潔元件至少設(shè)計有具有長條幾何形狀的清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28;116、 118)和粒結(jié)狀構(gòu)成的清潔粒結(jié)(20)。
3. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述至少一個通道基本上垂直于各自鄰接到所述通道上的所述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 116、 118)的所述縱向方向地分布。
4. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，至少兩個彼此至少區(qū)域式傾斜分布的通道設(shè)計在所述基面(18)上。
5. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述至少一個通道直線地分布。
6. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述至少一個通道發(fā)散或者逐漸變細地分布。
7. 按前述權(quán)利要求1到4之一或6所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述至少一個通道彎曲地分布。
8. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，至少兩個清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 116、 118)借助其縱向側(cè)端段處于所述至少一個通道的對置側(cè)上。
9. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述對置地處于所述至少一個通道邊上的清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28;116、 118)借助其縱向方向與鄰接的所述通道基本上垂直并且彼此大致平行地取向。
10. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 116、 118)的縱向延伸隨著通道的分布而增加。
11. 按前述權(quán)利要求1到4或6到IO之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述通道的曲率半徑隨著所述通道的分布而減小。
12. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，在清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 116、 118)的所述縱向延伸的延長上設(shè)置至少一個清潔粒結(jié)(20)。
13. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，清潔粒結(jié)(20)設(shè)置在外部邊緣區(qū)域內(nèi)，以及清潔小棒(22、 24、 25、26、 28; 116、 118)設(shè)置在所述基面(18)的中心區(qū)域內(nèi)。
14. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，清潔小棒(116、 118)按照魚骨圖案的方式交替地以不同的方向沿所述頂端件(12)的縱軸線(105)彼此相距地并在所述頂端件(12)的橫向方向上區(qū)域式地重疊地設(shè)置。
15. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 116、 118)從所述頂端件(12)的邊緣向中心并向所述頂端件(12)的自由端延伸。
16. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42; 54; 62; 70; 78; 84;94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118; 124; 126; 128)在其自由的、遠離所述基面(18)的端上倒圓，并與所述基面(18)基本上平行地展平構(gòu)成。
17. 按權(quán)利要求16所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，倒圓的自由的端按照在側(cè)向的側(cè)頰面與端側(cè)的展平的接觸面(36; 38)之間的圓弧的方式構(gòu)成。
18. 按前述權(quán)利要求16或17之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述圓弧在從60。到120°的角度范圍上延伸。
19. 按前述權(quán)利要求16到18之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述圓弧的半徑為所述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28;42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、118; 124; 126; 128)的直徑(41)或者寬度(32)的10%到50%。
20. 按前述權(quán)利要求16到19之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，倒圓的區(qū)域的高度在所述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28;42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、118; 124; 126; 128)總高度(31)的15%與40%之間。
21. 按前述權(quán)利要求2到20之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118; 124; 126; 128)中的至少幾個在與所述基面(18)平行的平面上具有圓形或者橢圓形的橫截面。
22. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(22、 24、 25、 26、 28; 84; 94)中的至少幾個在與所述 基面(18)平行的平面上具有基本上四邊形的橫截面。
23. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(84)中的至少幾個在與所述基面(18)平行的平面上具 有菱形構(gòu)成的橫截面，其中，菱形對角線(90、 92)的長度比在0.2與 5之間。
24. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(62; 70; 84)的側(cè)面(68; 72、 76)中的至少一個凸形 和/或者凹形彎拱。
25. 按前述權(quán)利要求22到24之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征 在于，所述清潔元件(22、 24、 25、 26、 28; 56; 62; 78; 84; 94) 的側(cè)向邊限(76; 66)或者側(cè)向棱邊(74; 88; 66; 58; 98、 99)在 所述清潔元件(22、 24、 25、 26、 28; 56; 62; 78; 84; 94)的幾乎整個高度上倒圓地構(gòu)成。
26. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，清 潔元件(42)具有相對于所述基面(18)的平面法線不同地傾斜的側(cè) 面(50、 48)。
27. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(54)中的至少幾個截圓錐式地構(gòu)成，特別是構(gòu)成為一分為二的、以剖面平躺的截圓錐。
28. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，清潔粒結(jié)(62)設(shè)計有有基本上半球形的基本幾何形狀并設(shè)計有基本上 相對于所述基面(18)傾斜分布的凹形彎拱的側(cè)面(68)。
29. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 116、 118)的所述寬度(32)或者所述直徑(41)小于或者等于 其高度(39)。
30. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 116、 118)的所述寬度(32)至少為0.5mm，優(yōu)選至少為0.6mm。
31. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118; 124; 126; 128)的 所述高度(39)至少為0.6mm，優(yōu)選至少為0.7mm。
32. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔粒結(jié)(20、 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94)的基面積至少為0.2mm2， 優(yōu)選不少于0.25mm2。
33. 按前述權(quán)利要求2到32之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在 于，剖面上圓形的所述清潔粒結(jié)(20、 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94) 的最大橫截面積為0.8mn^并且對于其他所有清潔粒結(jié)最大為4mm2。
34. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，在 所述基面(18)的設(shè)置所述清潔粒結(jié)(20、 42; 54; 62; 70; 78; 84;94)的那個平面節(jié)段上，全部清潔粒結(jié)(20、 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94)的橫截面積的總和最高為所述平面節(jié)段面積的75%。
35. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 42; 100、 102、 104; 110、 112、114; 116、 118; 124; 126; 128)中的至少幾個與所述頂端件(12)或者手柄件(14)的縱向方向(105)成角度地取向。
36. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42; 54; 62; 70; 78; 84; 94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118; 124; 126; 128)中 的至少幾個相對于所述手柄件(14)或者所述頂端件(12)的縱軸線(105)鏡面對稱地取向。
37. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 42; 100、 102、 104; 110、 112、114; 116、 118; 124; 126; 128)和/或者所述清潔粒結(jié)(20、 42; 54;62; 70; 78; 84; 94)在所述基面(18)上點對稱地設(shè)置。
38. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述清潔小棒(100、 102、 104; 110、 112、 114; 124; 126; 128)至少 區(qū)域式地具有相對于所述基面(18)的所述平面法線在從-30°至1」+60 °的角度范圍內(nèi)傾斜的側(cè)頰面。
39. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，在 所述基面(18)的設(shè)置所述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 42; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118; 124; 126; 128)的那個平面 節(jié)段上，所述清潔小棒(22、 24、 25、 26、 28; 42; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118; 124; 126; 128)的橫截面積的總和在所 述平面節(jié)段面積的5%到50%之間。
40. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述至少一個通道的最小寬度為0.8mm和所述通道的最大平均最大寬度 為1.5mm。
41. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述至少一個通道的縱向延伸至少為5mm。
42. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，在 所述基面(18)的遠離所述手柄件(14)的段內(nèi)設(shè)置至少一個具有兩 個基本上彼此垂直取向的臂的、彎折分布的清潔小棒(100、 102、 104; 110、 112、 114; 124、 126、 128)。
43. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，作 為清潔元件，在所述基面(18)的平面上設(shè)計有彎曲分布的清潔圓弧(110、 112、 114; 124、 126、 128)。
44. 按權(quán)利要求42或43之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于， 設(shè)計有至少兩個沿所述手柄件(14)的所述縱軸線(105)彼此相距設(shè) 置的清潔圓弧(110、 112、 114; 124、 126、 128)或者彎折分布的清 潔小棒(100、 102、 104)。
45. 按前述權(quán)利要求42到44之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征 在于，所述至少兩個清潔圓弧(110、 112、 114; 124、 126、 128)或 者清潔小棒(100、 102、 104)具有向著所述頂端件(12)的所述中心 下降的不同的高度。
46. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，由 熱塑性彈性體組成的所述清潔元件(20、 22、 24、 25、 26、 28; 42;54; 62; 70; 78; 84; 94; 100、 102、 104; 110、 112、 114; 116、 118;124; 126; 128)具有30到70 A的肖氏硬度。
47. 按權(quán)利要求46所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，由熱塑性 彈性體形成的所述基面(18)無縫地和整體地至少過渡到所述手柄件(14)的背側(cè)內(nèi)。
48. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 述頂端件(12)具有至少兩種塑料材料，特別是不同彈性或硬度的塑 料材料。
49. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，形 成所述基面(18)的塑料材料側(cè)向包圍所述頂端件(12)。
50. 按前述權(quán)利要求48或49之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征 在于，所述頂端件的區(qū)域內(nèi)的較硬的塑料材料具有至少一個凸起部(30)，所述凸起部(30)表面齊平地嵌入由較軟的塑料形成的所述 基面(18)內(nèi)。
51. 按權(quán)利要求50所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，伸入所述 基面(18)內(nèi)的所述凸起部(30)具有比所述基面(18)更淺的著色 和/或者更小的光學(xué)上的吸收率。
52. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，在 所述基面(18)的中心設(shè)計有至少一個平面段，所述平面段構(gòu)成為用 于接收清潔介質(zhì)。
53. 按權(quán)利要求52所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述用于 接收所述清潔介質(zhì)而設(shè)計的平面段具有用于所述清潔介質(zhì)的凹陷部。
54. 按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所述頂端件(12)的與所述基面(18)對置的前側(cè)構(gòu)成為裝有牙刷刷毛 (16)的牙刷頭。
55.按前述權(quán)利要求之一所述的口腔衛(wèi)生裝置，其特征在于，所 有清潔元件的相對于所述基面大致垂直豎立的所有面積的總和在 50mm2到200mm2之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種口腔衛(wèi)生裝置(10)，具有一個手柄件(14)和一個頂端件(12)，頂端件上設(shè)計有基本上平面的基面(18)，在基面上設(shè)置兩種不同幾何形狀的凸起的清潔元件(20、22、24、25、26、28；42；54；62；70；78；84；94；100、102、104；110、112、114；116、118；124；126；128)。這些清潔元件中至少幾個構(gòu)成為長條的清潔小棒(22、24、25、26、28、116、118)，其中，設(shè)計有至少一個橫向于清潔小棒(22、24、25、26、28、116、118)的縱向方向分布并由直接相鄰設(shè)置的清潔元件(20、22、24、25、26、28；42；54；62；70；78；84；94；100、102、104；110、112、114；116、118；124；126；128)之間的間隙形成的通道。
文檔編號A46B9/04GK101460074SQ200780020493
公開日2009年6月17日 申請日期2007年6月4日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月2日
發(fā)明者安德烈亞斯·伯克, 彼得拉·安薩里, 比約恩·科林, 瑟倫·沃索, 露西·齊默爾曼 申請人:布勞恩股份有限公司