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      一種碳纖維復(fù)合材料工件表面真空鍍鈦膜的方法

      文檔序號(hào):1555377閱讀:342來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:一種碳纖維復(fù)合材料工件表面真空鍍鈦膜的方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明屬于表面工程技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種碳纖維復(fù)合材料工件表面真空鍍鈦膜的方法,即為了減少了復(fù)合材料工件的真空出氣量,在碳纖維復(fù)合材料工
      件表面制備Ti薄膜的一種方法。
      背景技術(shù)
      隨著空間飛行器向輕量化方向發(fā)展,碳纖維復(fù)合材料被廣泛應(yīng)用于空間飛行器的結(jié)構(gòu)件。碳纖維復(fù)合材料在空間使用過(guò)程中,會(huì)由于材料本身出氣對(duì)周圍的器件造成污染,從而導(dǎo)致其性能下降甚至功能喪失。采用電弧離子鍍技術(shù)在碳纖維復(fù)合材料表面鍍Ti膜,可以減少了復(fù)合材料工件的真空出氣量,滿足其

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明要解決的問(wèn)題是通過(guò)在碳纖維復(fù)合材料工件表面鍍Ti薄膜,減少碳纖維復(fù)合材料工件的真空出氣量,從而滿足該類材料在空間飛行器結(jié)構(gòu)件上的應(yīng)用。
      本發(fā)明主要采用化學(xué)試劑超聲波清洗結(jié)合離子束清洗相結(jié)合的方法,提高
      了碳纖維復(fù)合材料工件表面Ti薄膜的附著力;通過(guò)合理選擇脈沖偏壓參數(shù),控制鍍膜時(shí)碳纖維復(fù)合材料工件表面溫度不高于IO(TC;通過(guò)工件旋轉(zhuǎn),確保碳
      纖維復(fù)合材料工件表面全部被Ti薄膜覆蓋。
      本發(fā)明的技術(shù)解決方案是采用電弧離子鍍技術(shù),在碳纖維復(fù)合材料工件表面制備Ti薄膜,包括下列步驟
      (1)化學(xué)清洗依次采用分析純丙酮和無(wú)水乙醇對(duì)碳纖維復(fù)合材料工件進(jìn)行超聲波清洗,超聲頻率為40kHz,清洗時(shí)間均為10min 30min;
      (2) 離子束清洗在真空室通入Ar,保持真空室真空度為3.2X10—2Pa 4. 9X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為5轉(zhuǎn)/min 10轉(zhuǎn)/min,在工件上加一80V 一200V的脈沖偏壓,脈沖頻率為lkHz 10kHz,占空比為10% 20%,打開(kāi)離子源,離子源的工作電壓為2.0kV 3.0kV,離子束清洗時(shí)間為30min 50min;
      (3) 沉積Ti薄膜在真空室通入Ar,保持真空室真空度為1.0X10—2Pa 4. 9X 10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為5轉(zhuǎn)/min 10轉(zhuǎn)/min,在工件上加一80V 一200V的脈沖偏壓,脈沖頻率為lkHz 10kHz,占空比為10% 20%,打開(kāi)Ti電弧源,調(diào)節(jié)Ti電弧源的工作電流為45A 80A,沉積Ti薄膜,沉積為2 4個(gè)小時(shí)。
      本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的有益效果是
      (1) 減小了碳纖維復(fù)合材料工件的真空出氣量,進(jìn)一步拓寬了碳纖維復(fù)合材料在空間飛行器上的應(yīng)用范圍。
      (2) 相對(duì)于其它復(fù)合材料表面金屬化技術(shù),本發(fā)明沉積的薄膜附著力高,薄膜厚度均勻。
      (3) 可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜曲面碳纖維復(fù)合材料工件鍍Ti薄膜需求。
      (4) 本發(fā)明易于重復(fù),適用于規(guī)模生產(chǎn)。
      具體實(shí)施例方式
      本發(fā)明采用電弧離子鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn),采用的原材料主要有高純Ti耙、高純Ar氣體、分析純丙酮、分析純無(wú)水乙醇和碳纖維復(fù)合材料工件等。實(shí)施例1
      (1)化學(xué)清洗將準(zhǔn)備好的碳纖維復(fù)合材料工件依次采用分析純丙酮和無(wú)水乙醇對(duì)碳纖維復(fù)合材料工件進(jìn)行超聲波清洗,超聲頻率為40kHz,清洗時(shí)間分別為20min和10min;(2) 離子束清洗在真空室通入Ar,保持真空室真空度為3.2X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為5轉(zhuǎn)/min,在工件上加一160V的脈沖偏壓,脈沖頻率為8kHz,占空比為10%,打開(kāi)離子源,離子源的工作電壓為2. 3kV,離子束清洗時(shí)間為30min;
      (3) 沉積Ti薄膜在真空室通入Ar,保持真空室真空度為1.0X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為5轉(zhuǎn)/min,在工件上加一160V的脈沖偏壓,脈沖頻率為2kHz,占空比為10%,打開(kāi)Ti電弧源,調(diào)節(jié)Ti電弧源的工作電流為80A,沉積Ti薄膜,顆粒的最大尺寸約為5,。
      實(shí)施例2
      (1) 化學(xué)清洗將準(zhǔn)備好的碳纖維復(fù)合材料工件依次采用分析純丙酮和無(wú)水乙醇對(duì)碳纖維復(fù)合材料工件進(jìn)行超聲波清洗,超聲頻率為40kHz,清洗時(shí)間均為25min;
      (2) 離子束清洗在真空室通入Ar,保持真空室真空度為4.2X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為8轉(zhuǎn)/min,在工件上加一100V的脈沖偏壓,脈沖頻率為2kHz,占空比為15%,打開(kāi)離子源,離子源的工作電壓為3.0kV,離子束清洗時(shí)間為20min;
      (3) 沉積Ti薄膜在真空室通入Ar,保持真空室真空度為1.5X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為10轉(zhuǎn)/min,在工件上加一80V的脈沖偏壓,脈沖頻率為10kHz,占空比為20%,打開(kāi)Ti電弧源,調(diào)節(jié)Ti電弧源的工作電流為60A,沉積Ti薄膜,顆粒的最大尺寸約為2,。
      實(shí)施例3
      (1) 化學(xué)清洗將準(zhǔn)備好的碳纖維復(fù)合材料工件依次采用分析純丙酮和無(wú)水乙醇對(duì)碳纖維復(fù)合材料工件進(jìn)行超聲波清洗,超聲頻率為40kHz,清洗時(shí)間分別為30min和10min;
      (2) 離子束清洗在真空室通入Ar,保持真空室真空度為4.9X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為10轉(zhuǎn)/min,在工件上加一80V的脈沖偏壓,脈沖頻率為10kHz,占空比為20%,打開(kāi)離子源,離子源的工作電壓為2.0kV,離子束清洗時(shí)間為40min;
      (3)沉積Ti薄膜在真空室通入Ar,保持真空室真空度為4.9X10—2Pa,打開(kāi)工件架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度為8轉(zhuǎn)/min,在工件上加一100V的脈沖偏壓,脈沖頻率為6kHz,占空比為15%,打開(kāi)Ti電弧源,調(diào)節(jié)Ti電弧源的工作電流為50A,沉積Ti薄膜,顆粒的最大尺寸約為l,。
      權(quán)利要求
      1、一種碳纖維復(fù)合材料工件表面真空鍍鈦膜的方法,其特征在于包括下列步驟(1)化學(xué)清洗分別采用分析純丙酮和無(wú)水乙醇對(duì)工件進(jìn)行超聲波清洗;(2)離子束清洗采用Ar離子束對(duì)工件進(jìn)行離子束清洗;(3)沉積Ti膜導(dǎo)入Ar,打開(kāi)工件旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),打開(kāi)Ti電弧源,沉積Ti膜。
      2、 根據(jù)權(quán)利要求1中的制備方法,所述步驟(1)的特征在于依次采用分析純丙酮和無(wú)水乙醇對(duì)工件進(jìn)行超聲波清洗,超聲頻率為40kHz,清洗時(shí)間 分別為10min 30min。
      3、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(2)的特征在于通入真空 室Ar,保持真空度為3. 2X 10_2Pa 4. 9X 10—2Pa。
      4、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(2)的特征在于離子源的 工作電壓為2. 0kV 3. OkV,離子束清洗時(shí)間為30min 50min。
      5、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(2)的特征在于在工件上 加一80V 一200V的脈沖偏壓,脈沖頻率為lkHz 10kHz,占空比為10% 20Q/0。
      6、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(3)的特征在于導(dǎo)入Ar, 將真空室真空度保持在1. OX 10—2Pa 4. 9X 10—2Pa之間。
      7、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(3)的特征在于打開(kāi)工件 架旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),調(diào)節(jié)工件旋轉(zhuǎn)速度在5轉(zhuǎn)/min 10轉(zhuǎn)/min。
      8、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(3)的特征在于Ti電弧源 的工作電流為40A 100A。
      9、 根據(jù)權(quán)利要求l中的制備方法,所述步驟(3)的特征在于在工件上 加一80V 一200V的脈沖偏壓,脈沖頻率為lkHz 10kHz,占空比為10% 20%。。
      全文摘要
      本發(fā)明屬于表面工程技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種碳纖維復(fù)合材料工件表面真空鍍鈦膜的方法。該方法包括對(duì)工件化學(xué)清洗、真空出氣、離子束清洗、鍍Ti膜四個(gè)步驟;通過(guò)在工件表面鍍制Ti薄膜,減少了復(fù)合材料工件的真空出氣,避免復(fù)合材料工件在真空條件下使用過(guò)程中污染周圍的零部件,導(dǎo)致其性能下降甚至功能喪失。在鍍膜過(guò)程中,通過(guò)復(fù)合材料工件的旋轉(zhuǎn),實(shí)現(xiàn)工件表面薄膜均勻覆蓋,減少碳纖維復(fù)合材料工件的真空出氣量,從而滿足該類材料在空間飛行器結(jié)構(gòu)件上的應(yīng)用。
      文檔編號(hào)B08B7/00GK101597746SQ200810110530
      公開(kāi)日2009年12月9日 申請(qǐng)日期2008年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月2日
      發(fā)明者妮 任, 武生虎, 肖更竭, 趙棟才, 馬占吉 申請(qǐng)人:中國(guó)航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一○研究所
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