專利名稱：清洗基板的設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明所描述的涉及一種半導(dǎo)體制造儀器，尤其涉及一種用激光沖擊波清 洗基板的設(shè)備和方法。
背景技術(shù)：
通常，半導(dǎo)體基板通過(guò)薄膜沉積過(guò)程、蝕刻過(guò)程和清洗過(guò)程制造。特別地， 清洗過(guò)程移除在半導(dǎo)體基板制造過(guò)程中產(chǎn)生的殘留物質(zhì)或微粒。
所述清洗過(guò)程可以分為濕清洗和干清洗。濕清洗利用化學(xué)試劑清洗基板。 在濕清洗中使用的大量化學(xué)試劑引起了環(huán)境污染。另外，濕清洗具有作業(yè)速度 低和設(shè)備體積大的局限。
同時(shí)，干清洗用等離子或激光清洗基板而不損壞基板。利用等離子的干清 洗是通過(guò)使得自由基(radical )與基板表面的污染物相作用而清洗基板。利用
更詳細(xì)的，利用激光的干清洗聚焦激光束以在基板上面產(chǎn)生沖擊波，并且 外來(lái)物質(zhì)被沖擊波移除。然而，當(dāng)產(chǎn)生沖擊波的時(shí)候，氣化物質(zhì)(pl腿es)或 殘留光束也隨著沖擊波一起產(chǎn)生。氣化物質(zhì)或者殘留光束造成了對(duì)基板的損害。
為了避免上述限制，將防護(hù)罩部署在基板上面以防止氣化物質(zhì)或殘留光束 入射到基板上。然而，在清洗基板時(shí)，僅是基板隨著激光的焦點(diǎn)旋轉(zhuǎn)而防護(hù)罩是固定的，因此，這樣氣化物質(zhì)和殘留光束不斷的入射到防護(hù)罩上的特定部分。 這就導(dǎo)致了防護(hù)罩的損壞并且防護(hù)罩的碎片落到基板上而污染基板。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了 一種基板清洗設(shè)備，該基板清洗設(shè)備能夠防止基板清洗過(guò)程 中的基板再污染。
本發(fā)明還提供了 一種利用基板清洗設(shè)備的基板清洗方法。
本發(fā)明的實(shí)施例提供的基板清洗設(shè)備，包括支撐板，光束發(fā)生器，透鏡和 防護(hù)單元。
所述支撐板支撐基板并且能夠旋轉(zhuǎn)。所述光束發(fā)生器發(fā)射光，該光用于生 成清洗基板用的沖擊波。所述透鏡將從光束發(fā)生器發(fā)射的光聚焦到基板上面。 所述防護(hù)單元在透鏡的焦點(diǎn)和基板之間保護(hù)基板。所述防護(hù)單元鄰近焦點(diǎn)的一 部分被切換。
在一些實(shí)施例中，所述防護(hù)單元可以包括防護(hù)罩和移動(dòng)單元。所述防護(hù)罩 可以相對(duì)地部署在基板上面，并且當(dāng)從頂面觀察時(shí)，覆蓋了基板的一部分。所 述移動(dòng)單元可以與防護(hù)罩嚙合并且移動(dòng)該防護(hù)罩。
在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，基板清洗設(shè)備包括支撐單元和清洗單元。 所述支撐單元支撐基板。所述清洗單元產(chǎn)生用于清洗基板的沖擊波并將所 述沖擊波集中到基板。這樣，所述清洗單元可以包括沖擊波發(fā)生器和防護(hù)罩。 所述沖擊波發(fā)生器利用激光束在基板上面產(chǎn)生沖擊波。所述防護(hù)罩在激光束集 中的焦點(diǎn)和基板之間面向基板。
在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，基板清洗方法包括在支撐板上部署基板；在 基板上面部署防護(hù)罩；在鄰近所述防護(hù)罩的點(diǎn)上聚焦光來(lái)在基板上面產(chǎn)生沖擊 波；利用所述沖擊波清洗基板，同時(shí)切換防護(hù)罩臨近光聚焦的聚焦點(diǎn)的部分。


在此包括相關(guān)附圖用以提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且所述附圖結(jié)合到
本發(fā)明中，組成本il明書的一部分。所述附圖顯示了本發(fā)明示范性的實(shí)施例，
并且結(jié)合說(shuō)明書，用來(lái)解釋本發(fā)明的原理。在這些圖中 圖l是依照本發(fā)明實(shí)施例的基板清洗設(shè)備的示意圖； 圖2是圖1中所描述的防護(hù)部件的頂部平面視圖； 圖3是顯示圖1的基板清洗設(shè)備清洗基板的過(guò)程的示意圖； 圖4和圖5是顯示切換圖3中所述防護(hù)罩的防護(hù)位置的過(guò)程的頂部平面視
圖6依照本發(fā)明另 一實(shí)施例的基板清洗設(shè)備的示意圖7是圖6中所描述的防護(hù)單元的頂部平面^^圖8是顯示圖6的基板清洗設(shè)備清洗基板的過(guò)程的示意圖；以及
圖9是圖8中所描述的防護(hù)單元的頂部平面視圖。 優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)描述
本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例將在下面參照相應(yīng)附圖進(jìn)行更詳細(xì)地描述。
圖1是依照本發(fā)明實(shí)施例的基板清洗設(shè)備的示意圖，圖2是圖1中所描述 的防護(hù)部件的頂部平面一見(jiàn)圖。
參照?qǐng)D1，依照本發(fā)明實(shí)施例的基板清洗設(shè)備301包括用于支撐基板的支撐 單元100和利用沖擊波清洗基板的清洗單元201。
更詳細(xì)的，所述支撐單元100可以包括支撐板110,轉(zhuǎn)軸120和固定軸130。 所述支撐板11G形成于圓盤狀，并且基板部署在所述支撐板11G的頂部表面。 這樣，基板的背面面對(duì)支撐板110。此外，支撐板110可以包括多個(gè)卡盤銷111 和多個(gè)支撐銷113。所述卡盤銷111設(shè)置在支撐板110的頂面來(lái)固定地支撐基板的外部周邊。所述支撐銷113放置在相對(duì)于所述卡盤銷111的內(nèi)側(cè)來(lái)支撐基板 的底面邊緣。
所述轉(zhuǎn)軸120和固定軸130安裝在支撐板11G的下面。轉(zhuǎn)軸120與支撐板 110嚙合并且連接到外部驅(qū)動(dòng)單元(未示出)來(lái)旋轉(zhuǎn)。轉(zhuǎn)軸120的轉(zhuǎn)矩(旋轉(zhuǎn)力) 傳送給支撐板，并且所述支撐板110與轉(zhuǎn)軸12 0 —起旋轉(zhuǎn)。所述轉(zhuǎn)軸12 0與固 定軸130嚙合。所述固定軸130的第一末端部分與轉(zhuǎn)軸120嚙合并且支撐所述 轉(zhuǎn)軸120。然而，固定軸130不與轉(zhuǎn)軸120 —起旋轉(zhuǎn)。
同時(shí)，所述清洗單元201在支撐板110上產(chǎn)生沖擊波(SW)清洗基板。
參照?qǐng)D1和圖2，所述清洗單元201包括光束產(chǎn)生單元210，透鏡220,和 防護(hù)單元230。所述光束產(chǎn)生單元210產(chǎn)生激光束并且將所述激光束集中到透鏡 220。所述透鏡220把激光束LB聚焦到支撐板11Q上。從而，在支撐板110上 面產(chǎn)生沖擊波。所述沖擊波在參照激光束聚焦的焦點(diǎn)FP的各個(gè)方向傳播，并且 與基板10的表面相碰撞來(lái)從基板移除外部物質(zhì)。
在一實(shí)施例中，所述透鏡220的焦點(diǎn)FP定位于支撐板110的中心部位并且 在基板清洗的過(guò)程中固定。
同時(shí)，所述防護(hù)單元230設(shè)置在支撐板11Q的上面。所述防護(hù)單元230保 護(hù)基板免受與沖擊波SW —起產(chǎn)生的氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB的污染。
更詳細(xì)的，所述防護(hù)單元230可以包括防護(hù)罩231，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233,和 連接單元235。所述防護(hù)罩231安裝在支撐板110的上面并且空間上遠(yuǎn)離所述支 撐板IIO。這樣，所述防護(hù)罩231的背面面對(duì)支撐板110的頂面。所述防護(hù)罩 231設(shè)置在支撐板11G和焦點(diǎn)FP之間來(lái)保護(hù)基板免受來(lái)自氣化物質(zhì)/殘留光束 P/RB的污染。
在一實(shí)施例中，所述防護(hù)罩231可以可位于焦點(diǎn)FP的一側(cè)并且成形于圓盤狀。此外，所述防護(hù)罩231可以由硅制成。
在此實(shí)施例中，所述防護(hù)罩231成形于圓狀。然而，本發(fā)明并不受此結(jié)構(gòu) 的限制。例如，所述防護(hù)罩231可以成形于橢圓形。
所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233和連接單元235安裝在防護(hù)罩231上面。所述旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動(dòng)單元233是提供轉(zhuǎn)矩給防護(hù)罩231的步進(jìn)電機(jī)。所述連接單元235與防護(hù) 罩231的頂面嚙合，并且將防護(hù)罩231連接到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233。
所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233的轉(zhuǎn)矩經(jīng)過(guò)連接單元2 35傳送給防護(hù)罩231。所述防 護(hù)罩231在所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233的轉(zhuǎn)矩的作用下反向旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中， 所述防護(hù)罩231的旋轉(zhuǎn)角度小于180° 。
更詳細(xì)的，所述防護(hù)罩231包括第一到第四防護(hù)區(qū)域231a, 231b， 231c和 231d。所述第一到第四防護(hù)區(qū)域231a， 231b， 231c和231d通過(guò)^黃越所述防護(hù) 罩231的中心點(diǎn)的線定義。例如，所述防護(hù)區(qū)域231a， 231b, 231c和231d成 形于弧狀。
在這個(gè)實(shí)施例中，第一到第四防護(hù)區(qū)域231a， 231b， 231c和231d具有相 同的中心角e,該中心角6與防護(hù)罩231的旋轉(zhuǎn)角是相同的。因此，第一到第 四防護(hù)區(qū)域231a, 231b， 231c和231d的數(shù)量會(huì)#4居防護(hù)罩231的旋轉(zhuǎn)角6而 變化。所述防護(hù)罩231的旋轉(zhuǎn)角6由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)所決定。也 就是說(shuō)，如圖2中所示，當(dāng)防護(hù)罩231的旋轉(zhuǎn)角是45。時(shí)，所述防護(hù)罩被分為 四個(gè)防護(hù)區(qū)域231a， 231b, 231c和231d并且每個(gè)防護(hù)區(qū)域231a， 231b， 231c 和231d的中心角是45° 。
在基板清洗過(guò)程中，所述45。，第一到第四防護(hù)區(qū)域231a, 231b, 231c和 231d之一》文置在鄰近焦點(diǎn)的位置。在一實(shí)施例中，/人頂面7見(jiàn)察時(shí)，鄰近焦點(diǎn)FP 的防護(hù)區(qū)域被部署，這樣一條把中心角6對(duì)分的線被定位在與焦點(diǎn)相同的線上。由于在基板清洗過(guò)程中，防護(hù)罩231在旋轉(zhuǎn)角6的作用下反向旋轉(zhuǎn)，氣化
物質(zhì)/殘留光束P/RB主要入射在鄰近焦點(diǎn)FP的防護(hù)區(qū)域。如上所述，鄰近焦點(diǎn) 的防護(hù)區(qū)域可能被損壞。為了防止此現(xiàn)象，防護(hù)罩2 31周期性地變換鄰近焦點(diǎn) 的防護(hù)區(qū)域。
如上所述，由于鄰近焦點(diǎn)的防護(hù)區(qū)域周期性地變換，防止了防護(hù)罩231上 氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB在特定部分的集中。結(jié)果，清洗單元201阻止了防護(hù) 罩231的損壞，并且阻止了基板的再污染。因此，提高了清洗效率。
在這個(gè)實(shí)施例中，在基板清洗過(guò)程中防護(hù)罩231在旋轉(zhuǎn)角6的作用下反向 旋轉(zhuǎn)。然而，防護(hù)區(qū)域可以周期性地變換而不反向旋轉(zhuǎn)防護(hù)罩231。例如，第一 防護(hù)區(qū)域231a第一個(gè)部署在鄰近焦點(diǎn)FP的位置并且執(zhí)行基板的清洗。當(dāng)預(yù)定 的時(shí)間到時(shí)，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233旋轉(zhuǎn)防護(hù)罩231,這樣第二防護(hù)區(qū)域231b在基 板清洗被執(zhí)行后被部署在鄰近焦點(diǎn)FP的位置。如上所述，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233僅 在鄰近焦點(diǎn)的防護(hù)區(qū)域變換時(shí)旋轉(zhuǎn)。
此外，在這個(gè)實(shí)施例中，防護(hù)罩231可以由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元233旋轉(zhuǎn)或者線 性移動(dòng)。
同時(shí)，所述清洗單元201進(jìn)一步包括吸收單元240,用于吸引基板上的外來(lái) 物質(zhì)并且將所吸引的外來(lái)物質(zhì)排放到外側(cè)。所述吸收單元240部署在支撐板110 上面來(lái)吸收被沖擊波SW從基板分離的外來(lái)物質(zhì)(例如，微粒)。
下面將參照相應(yīng)附圖描述用所述清洗單元201的基板清洗方法。
圖3是顯示圖1的基板清洗設(shè)備清洗基板的過(guò)程的示意圖，圖4和圖5是 顯示切換圖3中所述防護(hù)罩的防護(hù)位置的過(guò)程的頂部平面視圖。
參照?qǐng)D3和圖4，首先將基板10放置在支撐板110上，并且在支撐板110 上的基板10通過(guò)旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸120而旋轉(zhuǎn)。所述光束發(fā)生器210產(chǎn)生激光束LB并且將所述激光束LB集中到透鏡220。 所述透鏡220把激光束LB聚焦在基板10的頂面來(lái)產(chǎn)生沖擊波SW。當(dāng)從頂面觀 察時(shí)，所述透鏡220的焦點(diǎn)FP位于中心點(diǎn)。
所述沖擊波與基板10的表面相碰撞以將外來(lái)物質(zhì)從基板10分離。吸收單 元2 4 0吸引在用沖擊波SW清洗基板10的過(guò)程中被分離成4鼓粒形式的外來(lái)物質(zhì) PC,并且將所吸引的外來(lái)物質(zhì)排放到外側(cè)。
在基板10的清洗過(guò)程中，防護(hù)罩231保護(hù)基板10免受氣化物質(zhì)/殘留光束 P/RB的污染。
更詳細(xì)的，當(dāng)從頂部觀察時(shí)，當(dāng)覆蓋基板IO的一部分時(shí)，防護(hù)罩231部署 在焦點(diǎn)FP的一側(cè)。此外，防護(hù)罩231空間上遠(yuǎn)離所述支撐板10,并且該防護(hù)罩 的背面背對(duì)基板IO。在清洗基板的過(guò)程中，防護(hù)罩231以預(yù)定的旋轉(zhuǎn)角度6反 向旋轉(zhuǎn)，以保護(hù)基板10免受氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB的污染。這樣，臨近焦點(diǎn) FP的防護(hù)區(qū)域周期性的相繼轉(zhuǎn)換。
例如，當(dāng)要被清洗的基板被替換時(shí)，防護(hù)罩231可轉(zhuǎn)換臨近焦點(diǎn)FP的防護(hù) 區(qū)域。也就是說(shuō)，如圖4所示，清洗單元201利用臨近焦點(diǎn)FP設(shè)置的防護(hù)罩231 的防護(hù)區(qū)域231a執(zhí)行放置于支撐板110上的基板10的清洗過(guò)程。然后，如圖5 所示，當(dāng)新基板20放置于支撐板110上時(shí)，清洗單元201利用臨近焦點(diǎn)FP設(shè) 置的防護(hù)罩231的防護(hù)區(qū)域231b執(zhí)行放置于支撐板110上的基板20的清洗過(guò) 程。
防護(hù)區(qū)域的轉(zhuǎn)換，可在同一基板的清洗過(guò)程中通過(guò)預(yù)定定時(shí)單元執(zhí)行，或 是根據(jù)累積的清洗的基板數(shù)量執(zhí)行。
圖6依照本發(fā)明另一實(shí)施例的基板清洗設(shè)備的示意圖，圖7是圖6中所描 述的防護(hù)單元的頂部平面視圖。參考圖6和圖7，本發(fā)明實(shí)施例的基板清洗設(shè)備302可包括用于支撐基板的 支撐單元IOO,以及用于產(chǎn)生清洗基板的沖擊波SW的清洗單元202。由于支撐 單元100具有與圖1所示的支撐單元IOO相同的結(jié)構(gòu)，為它們指定了相同的附 圖標(biāo)記，并且在此省略詳細(xì)的描述。
清洗單元202利用激光束LB產(chǎn)生沖擊波。清洗單元202可包括用于產(chǎn)生激 光束LB的光束發(fā)生器210，用于聚焦來(lái)自于光束發(fā)生器210的激光束的透鏡 220，以及用于保護(hù)基板免受氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB的污染的防護(hù)單元。
透鏡將激光束LB聚焦到支撐單元100上，因此沖擊波SW就可在所述支撐 單元100上生成。在一實(shí)施例中，透鏡220的焦點(diǎn)位于支撐單元100的支撐板 110的中部。在利用沖擊波SW進(jìn)行基板沖洗的過(guò)程中，焦點(diǎn)是固定的。
防護(hù)單元250保護(hù)基板免受與沖擊波一起生成的氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB 的污染。更詳細(xì)的，防護(hù)單元250可包括防護(hù)罩251,旋轉(zhuǎn)單元253，固定單元 255以及驅(qū)動(dòng)單元257。
防護(hù)罩251設(shè)置在支撐板110上，并且所述防護(hù)罩251的背面背對(duì)支撐板 110。所述防護(hù)罩251設(shè)置在支撐板110和焦點(diǎn)FP之間。在一實(shí)施例中，防護(hù) 罩251位于焦點(diǎn)的一側(cè)并且成型于盤狀。所述防護(hù)罩251可由硅制成。所述防 護(hù)罩251成形于圓形?？墒?，本發(fā)明并不受此結(jié)構(gòu)的限制。例如，所述防護(hù)罩 251可成形于橢圓形。
所述防護(hù)罩251阻止氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB入射到支撐板110上的基板 上。也就是說(shuō)，氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB參考焦點(diǎn)分布并且向支撐板110移動(dòng)， 從而向臨近支撐板的防護(hù)罩251移動(dòng)。
所述旋轉(zhuǎn)單元253嚙合到防護(hù)罩251的頂部，并且進(jìn)一步的嚙合到固定單 元255以能夠旋轉(zhuǎn)。所述旋轉(zhuǎn)單元253連接到驅(qū)動(dòng)單元257并且將來(lái)自于驅(qū)動(dòng)
12單元257的轉(zhuǎn)矩傳送到防護(hù)罩251。這樣，固定單元255并不與旋轉(zhuǎn)單元253 — 起旋轉(zhuǎn)。因此，可防止氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB在防護(hù)罩251的特定區(qū)域的集 中。
也就是it氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB主要地入射到臨近焦點(diǎn)FP的防護(hù)罩251 的 一部分。因此，當(dāng)清洗基板而旋轉(zhuǎn)防護(hù)罩251時(shí)，臨近焦點(diǎn)FP的防護(hù)罩2 51 的一部分不斷的變化，因此，氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB入射的部分可被分散。
如上所述，防護(hù)單元通過(guò)旋轉(zhuǎn)防護(hù)罩251而防止了氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB 在防護(hù)罩251的特定區(qū)域的集中。相應(yīng)地，防護(hù)單元250防止了防護(hù)罩251的 損壞，并且因此阻止了由基板的損壞而引起的基板的再污染。因此，提高了清 洗效率。
在此實(shí)施例中，在基板的清洗過(guò)程中，防護(hù)罩保持在一個(gè)方向上的旋轉(zhuǎn)。 可是，在基板的清洗過(guò)程中，這是可能的，即驅(qū)動(dòng)單元257不是連續(xù)的旋轉(zhuǎn)防 護(hù)罩251,而是以小于360。的角度在每一預(yù)定單元時(shí)間旋轉(zhuǎn)防護(hù)罩，以周期性 的變換臨近焦點(diǎn)FP的防護(hù)罩。
同時(shí)，清洗單元202可進(jìn)一步包括用于吸收被沖擊波由基板分離的外來(lái)物 質(zhì)的吸收單元240。由于吸收單元240與圖1中的吸收單元240相同，為它們分 配了相同的附圖標(biāo)記，并且在此省略詳細(xì)的描述。
下面將結(jié)合相應(yīng)附圖描述利用清洗單元202的基板清洗方法。
圖8是顯示圖6的基板清洗設(shè)備清洗基板的過(guò)程的示意圖，圖9是圖8中 所描述的防護(hù)單元的頂部平面視圖。
參考圖8和圖9，基板10首先放置在支撐板110上，并且支撐板110上的 基板10通過(guò)旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸120而旋轉(zhuǎn)。
光束發(fā)生器210產(chǎn)生激光束LB,并且將激光束LB集中到透鏡220上。所述透鏡220將光束LB聚焦到基板10上以生成沖擊波SW。當(dāng)從頂部觀察時(shí)，透鏡 220的焦點(diǎn)FP位于中點(diǎn)上。
沖擊波與基板10的表面相碰撞以從基板10上分離外來(lái)物質(zhì)。吸收單元240 吸收在基板清洗過(guò)程中用沖擊波SW分離的粒子形式的外來(lái)物質(zhì)PC，并且將吸收 的外來(lái)物質(zhì)排放到外側(cè)。
在基板IO的清洗過(guò)程中，防護(hù)罩251保護(hù)基板10免受氣化物質(zhì)/殘留光束 P/RB的污染。
更詳細(xì)的，當(dāng)^a貞部觀察時(shí)，當(dāng)覆蓋基板IO的一部分時(shí)，防護(hù)罩251設(shè)置 在焦點(diǎn)FP的一側(cè)。所述防護(hù)罩251空間上遠(yuǎn)離所述支撐板10,并且該防護(hù)罩的 背面背對(duì)基板10。在利用沖擊波清洗基板的過(guò)程中，防護(hù)罩251保持一個(gè)方向 上的旋轉(zhuǎn)，而防止氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB入射到基板10上。
如上所述，由于基板10的清洗是在防護(hù)罩251的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中實(shí)現(xiàn)，因此可 防止氣化物質(zhì)/殘留光束P/RB在特定區(qū)域的集中。相應(yīng)地，防護(hù)單元202防止 了防護(hù)罩251的損壞，并且因此阻止了由防護(hù)罩251的損壞而引起的基板的再 污染。
上述公開(kāi)的目標(biāo)應(yīng)被說(shuō)明性地考慮，并且不受限制，并且所附權(quán)利要求期 望覆蓋所有這種修改、改進(jìn)和其它實(shí)施例，其落入本發(fā)明的精神和范圍。因此， 對(duì)法律允許的最大范圍，本發(fā)明的范圍將由下述權(quán)利要求及其等價(jià)物的允許的 最寬泛說(shuō)明確定，并且不應(yīng)由前述詳細(xì)描述限制或局限。
權(quán)利要求
1、一種基板清洗設(shè)備，包括支撐板，用于支撐基板，所述支撐板可以旋轉(zhuǎn)；光束發(fā)生器，用于發(fā)射光，所述光用來(lái)生成清洗基板的沖擊波；透鏡，用于將由所述光束發(fā)生器發(fā)送的光聚焦到所述基板上；用于保護(hù)基板的防護(hù)單元，位于透鏡的焦點(diǎn)和基板之間，所述防護(hù)單元臨近焦點(diǎn)的一部分可以切換。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗設(shè)備，其中所述防護(hù)單元包括 相對(duì)的設(shè)置在所述基板上的防護(hù)罩，當(dāng)從頂部觀察時(shí)，所述防護(hù)罩覆蓋了基板的一部分；以及與所述防護(hù)罩嚙合并移動(dòng)所述防護(hù)罩的移動(dòng)單元。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清洗設(shè)備，其中所述防護(hù)罩成形于圓形或橢 圓形。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板清洗設(shè)備，其中所述防護(hù)罩被橫越所述防護(hù) 罩的中心點(diǎn)的至少一條線分成多個(gè)防護(hù)區(qū)域，所述防護(hù)區(qū)域的中心角彼此相 同，并且所述中心角與所述防護(hù)罩的旋轉(zhuǎn)角度相同。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述基板清洗設(shè)備，其中，所述移動(dòng)單元包括 與所述防護(hù)罩的頂部表面嚙合和的連接單元；以及 與所述連接單元嚙合并旋轉(zhuǎn)所述防護(hù)罩的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元。
6、 根據(jù)權(quán)利要求3所述基板清洗設(shè)備，其中，所述移動(dòng)單元包括 與所述防護(hù)罩的頂部表面嚙合并旋轉(zhuǎn)所述防護(hù)罩的旋轉(zhuǎn)單元；以及 與所述旋轉(zhuǎn)單元嚙合的固定單元。
7、 根據(jù)權(quán)利要求2所述基板清洗設(shè)備，其中，當(dāng)從頂部觀察時(shí)，所述防護(hù) 罩位于通過(guò)橫跨基板的中心點(diǎn)對(duì)分所述基板的線的一側(cè)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求2所述基板清洗設(shè)備，進(jìn)一步包括在所述基板上臨近所 述防護(hù)單元并用于吸收粒子的吸收單元。
9、 一種基板清洗設(shè)備，包括 支撐基板的支撐單元；以及生成用來(lái)清洗基板的沖擊波并將所述沖擊波集中到基板上的清洗單元，其 中，所述清洗單元包括利用激光束在基板上生成沖擊波的沖擊波生成器；以及 在激光束聚焦的焦點(diǎn)和基板之間面向基板的防護(hù)罩，所述防護(hù)罩可以旋轉(zhuǎn)。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述基板清洗設(shè)備，其中，當(dāng)從頂部觀察時(shí)，所述防 護(hù)罩覆蓋了基板的一部分，并且所述防護(hù)罩成形于圓形或橢圓形。
11、 根據(jù)權(quán)利要求9所述基板清洗設(shè)備，其中，當(dāng)從頂部觀察時(shí)，所述防 護(hù)罩位于通過(guò)橫跨基板的中心點(diǎn)對(duì)分所述基板的線的一側(cè)。
12、 根據(jù)權(quán)利要求9所述基板清洗設(shè)備，進(jìn)一步包括在所述基板上臨近 所述防護(hù)單元并用于吸收粒子的吸收單元。
13、 一種基板清洗方法，包括 將基板放置在支撐板上； 將防護(hù)罩放置在所述基板上；將光聚焦到臨近所述防護(hù)罩的點(diǎn)上以在基板上生成沖擊波；以及 當(dāng)變換所述防護(hù)罩的臨近光聚焦的焦點(diǎn)的部分時(shí)，利用所述沖擊波清洗所 述基板。
14、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板清洗方法，其中在基板的清洗過(guò)程中，所 述防護(hù)罩旋轉(zhuǎn)。
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板清洗方法，其中所述防護(hù)罩被橫越所述防護(hù)罩中心點(diǎn)的至少一條線分成多個(gè)防護(hù)區(qū)域，所述防護(hù)區(qū)域的中心角彼此相 同，并且所述中心角與所述防護(hù)罩的旋轉(zhuǎn)角度相同；以及所述基板的清洗過(guò)程中包括當(dāng)在每個(gè)預(yù)定單元時(shí)間切換臨近所述焦點(diǎn)的 防護(hù)區(qū)域時(shí)，以與所述防護(hù)區(qū)域的中心角相同的角度反向旋轉(zhuǎn)防護(hù)罩。
16、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板清洗方法，其中，在基板清洗的過(guò)程中， 所述防護(hù)罩保持在一個(gè)方向上旋轉(zhuǎn)。
17、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板清洗方法，其中，基板的清洗過(guò)程包括向 上吸收通過(guò)沖擊波由基板上分離的外來(lái)物質(zhì)，并將吸收到的外來(lái)物質(zhì)排放到外 側(cè)。
全文摘要
基板處理設(shè)備包括支撐基板的支撐板和設(shè)置在基板上用來(lái)保護(hù)基板的防護(hù)單元。所述防護(hù)單元臨近用于生成沖擊波的光聚焦的焦點(diǎn)的一部分被轉(zhuǎn)換。因此，所述基板清洗設(shè)備阻止了與沖擊波一起生成的氣化物質(zhì)/殘留光束在所述防護(hù)單元特定部分的集中，并且進(jìn)一步的防止了由防護(hù)單元的損壞而引起的基板再污染。
文檔編號(hào)B08B7/00GK101577214SQ20081017655
公開(kāi)日2009年11月11日 申請(qǐng)日期2008年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月6日
發(fā)明者李世原, 趙重根, 鄭載正 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司