專利名稱：光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，屬于光掩模清洗機(jī) 技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
光掩模在清洗和甩干的過程中，為避免產(chǎn)生顆粒污染，通常是將光掩 模放在一個相對封閉的工藝處理艙內(nèi)。在處理過程中，光掩模處于旋轉(zhuǎn)狀 態(tài)。為避免工藝處理艙外的塵埃顆粒對正在清洗及甩干的光掩模產(chǎn)生污染， 通常在工藝處理艙上方安裝有空氣過濾器以過濾空氣中的塵埃，過濾后的 空氣被送入工藝處理艙內(nèi)，以維護(hù)工藝處理艙內(nèi)的潔凈氛圍?，F(xiàn)有工藝處 理艙均為直桶形結(jié)構(gòu)， 一方面工藝處理艙內(nèi)的體積較大，造成工藝處理艙 內(nèi)抽入的潔凈空氣流較為紊亂，使艙內(nèi)的微粒會對光掩模造成交叉污染。 另外，工藝處理艙采用直桶形的內(nèi)壁，從光掩模上甩出的液滴會反濺回光 掩模上造成二次污染，而影響光掩模的清洗效果。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的上提供一種能減少對光掩模交叉污染，提高光掩模 清洗效率的工藝處理艙。
本實用新型為達(dá)到上述目的的技術(shù)方案是 一種光掩模清洗機(jī)的工藝 處理艙，包括外罩、內(nèi)套和頂蓋，其特征在于所述的外罩由從上到下依 次密封連接的上罩、中罩和底罩構(gòu)成，上罩具有圓錐形的罩壁，中罩的罩 壁上設(shè)有一個抽氣口，且中罩內(nèi)具有一個倒錐形的擋流圈，擋流圈延伸并 超過抽氣口，具有排液口的底罩與內(nèi)套的下部密封連接，頂蓋密封安裝在 內(nèi)套的上部。
本實用新型工藝處理艙的抽風(fēng)口設(shè)在中罩的罩壁，因此能保證工藝處 理艙底部的積液不會被抽到排風(fēng)管中，加之中罩內(nèi)設(shè)置一個倒錐形的擋流 圈， 一方面能減少工藝處理艙的有效體積，另一方面，在該擋流圈的作用 下，使抽入工藝處理艙內(nèi)的潔凈空氣能形成垂直向下的氣流，以維護(hù)工藝 處理艙內(nèi)均勻垂直向下的空氣流的氣體氛圍，避免了工藝處理艙內(nèi)微粒交 叉而污染芯片。本實用新型采用圓錐形的上罩，也使得從光掩模上甩出的 液滴彈到工藝處理艙的下方，而非反濺回光掩模上造成二次污染，故能大 幅度減少光掩模被二次污染幾率，而提高光掩模清洗效率。本實用新型工 藝處理艙的外罩采用上罩、中罩和底罩的組裝式結(jié)構(gòu)，不僅能減小了工藝 處理艙的制造成本和加工難度，同時，組裝式結(jié)構(gòu)的外罩為工藝處理艙內(nèi) 的部件維修提供了方便。
以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中1—上罩，2—頂蓋，21—第二流道，22—第一流道，3—底座， 4一內(nèi)套，5—中罩，51—擋流圈，52—抽氣口， 6—底罩，61—排液口。
具體實施方式
見
圖1所示，本實用新型光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，包括外罩、內(nèi) 套4和頂蓋2，該外罩由從上到下依次密封連接的上罩1、中罩5和底罩6 構(gòu)成，該上罩1具有圓錐形的罩壁，使從光掩模上甩出的液滴彈到工藝處 理艙的下方，該上罩1最好是中上部為圓錐形的罩壁，而中下部為直桶形 的罩壁，該圓錐形的錐角控制在30。 60°之間。本實用新型中罩5的罩 壁上設(shè)有一個抽氣口 52，中罩5內(nèi)具有一個倒錐形的擋流圈51，該擋流圈 51的罩壁與中罩5的罩壁之間的夾角A可控制在10。 30°之間，且擋流 圈51延伸并超過抽氣口 52，通過該擋流圈51使抽入工藝處理艙內(nèi)的空氣 流能形成垂直向下的氣流，再通過抽氣口 52經(jīng)出氣管將工藝處理艙內(nèi)空氣 抽出，有效避免工藝處理艙內(nèi)微粒的交叉污染。見
圖1所示，本實用新型 的底罩6具有排液口61，底罩6與內(nèi)套4的一端密封連接，該內(nèi)套4具有 具有波紋狀的可伸縮外壁，因此能保證工藝處理艙的密封性的同時，可實 現(xiàn)光掩模上下運動的功能，頂蓋2密封安裝在內(nèi)套4的上部，或如
圖1所 示，頂蓋2的下部還密封連接一個底座3，并與內(nèi)套4的上部密封連接。
見
圖1所示，本實用新型的頂蓋2具有貫穿頂蓋2的安裝孔以及設(shè)置 在頂蓋2內(nèi)二個獨立的第一流道22和第二流道21，該第一流道22由與頂 蓋2底面相通的進(jìn)液流道、外環(huán)形道以及沿頂蓋2徑向分布并與頂蓋2外 周相通的八個以上的出液流道構(gòu)成，而第二流道21也由與頂蓋2底面相通的進(jìn)液流道、內(nèi)環(huán)形道以及沿頂蓋2軸向并與頂蓋2上端面相通的三個以 上出液流道構(gòu)成。當(dāng)電機(jī)帶動光掩模旋轉(zhuǎn)時，安裝在頂蓋2頂面出液流道 出口處的噴嘴對光掩模的背面進(jìn)行沖清，而頂蓋2徑向外周的八個出液出 流通口處的噴嘴則對工藝處理艙的內(nèi)壁進(jìn)行沖洗。
權(quán)利要求1、一種光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，包括外罩、內(nèi)套(4)和頂蓋(2)，其特征在于所述的外罩由從上到下依次密封連接的上罩(1)、中罩(5)和底罩(6)構(gòu)成，上罩(1)具有圓錐形的罩壁，中罩(5)的罩壁上設(shè)有一個抽氣口(52)，且中罩(5)內(nèi)具有一個倒錐形的擋流圈(51)，擋流圈(51)延伸并超過抽氣口(52)，具有排液口(61)的底罩(6)與內(nèi)套(4)的下部密封連接，頂蓋(2)密封安裝在內(nèi)套(4)的上部。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，其特征在于 所述中罩(5)內(nèi)的擋流圈(51)與中罩(5)的罩壁之間的夾角A在10° 30°之間。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，其特征在于 所述上罩(1)的中上部呈錐形，中下部為直桶形，且錐形的錐角在30。
60°之間。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，其特征在于 所述的內(nèi)套(4)具有波紋狀的可伸縮外壁。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，其特征在于所述頂蓋(2)具有貫穿頂蓋(2)的安裝孔以及設(shè)置在頂蓋(2)內(nèi)二個獨 立的第一流道(22)和第二流道(21)，該第一流道(22)由與頂蓋底面相 通的進(jìn)液流道、外環(huán)形道以及沿頂蓋徑向并與頂蓋外周相通的八個以上的 出液流道構(gòu)成，第二流道(21)也由與頂蓋底面相通的進(jìn)液流道、內(nèi)環(huán)形 道以及沿頂蓋軸向分布并與頂蓋上端面相通的三個以上出液流道構(gòu)成。
專利摘要本實用新型涉及一種光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，屬于光掩模清洗機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。主要包括外罩、內(nèi)套和頂蓋，所述的外罩由從上到下依次密封連接的上罩、中罩和底罩構(gòu)成，上罩具有圓錐形的罩壁，中罩的罩壁上設(shè)有一個抽氣口，且中罩內(nèi)具有一個倒錐形的擋流圈，擋流圈延伸并超過抽氣口，具有排液口的底罩與內(nèi)套的下部密封連接，頂蓋密封安裝在內(nèi)套的上部。本實用新型具有能減少對光掩模交叉污染，提高光掩模清洗效率的特點。
文檔編號B08B11/00GK201177730SQ20082003406
公開日2009年1月7日 申請日期2008年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月14日
發(fā)明者飛 徐, 金海濤 申請人:飛 徐