專利名稱：一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及化學清洗裝置，特別是涉及一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前，硅材料的清洗過程中通常是將硅材料(棒材)放在一些支架上，然后把 它們放入相應的酸、堿、水槽中進行腐蝕和清洗，這些支架與硅材料接觸部分，由 于重力的作用往往很難得到腐蝕清洗，為了解決這個問題，有些設備會采用轉(zhuǎn)盤支 架的結(jié)構(gòu)，將圓柱形的硅芯、硅棒分別水平的穿入開有很多圓孔的轉(zhuǎn)盤支架，整個 轉(zhuǎn)盤支架在腐蝕清洗過程中進行旋轉(zhuǎn)，這樣圓柱形的硅芯、硅棒也隨之不斷的旋轉(zhuǎn)，
在重量作用下，接觸部分能夠不斷的移動位置，從而改善清洗效果。但這種形式也 存在一些問題
1、 首先結(jié)構(gòu)比較復雜，要制作一個轉(zhuǎn)盤支架，并且還有一套滾動的傳動機構(gòu)， 配有電機、鏈輪、鏈條，而且處于一個強酸環(huán)境，要對每個零部件都進行耐腐蝕處 理，不方便、成本高；
2、 其次操作麻煩， 一般的硅芯直徑8 10mm，長2.5m以上，要在一個轉(zhuǎn)盤支 架上穿入20多根是相當費力的一件事情，何況清洗完成后還要一個一個的抽出。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提 供一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)。
本實用新型的目的可以通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn): 一種硅材料無盲點化學清洗 機構(gòu)，其特征在于，包括至少一對靜橫梁和動橫梁、至少一對可交替接觸硅材料的 靜支架和動支架以及位于動橫梁兩側(cè)的驅(qū)動裝置，所述的靜支架、動支架分別固定 于靜橫梁、動橫梁上，所述的靜支架、動支架上均設有數(shù)個用于支撐硅材料的V 型槽，所述的驅(qū)動裝置與動橫梁傳動連接。所述的靜橫梁和動橫梁為兩對，所述的靜支架固定于兩根靜橫梁上，所述的動 支架固定于兩根動橫梁上。
所述的靜橫梁為金屬橫梁，其外設有耐腐蝕層。 所述的動橫梁為金屬橫梁，其外設有耐腐蝕層。 所述的靜支架和動支架均為耐腐蝕材料支架。 所述的驅(qū)動裝置為氣驅(qū)動裝置或電驅(qū)動裝置。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有以下優(yōu)點
1、 結(jié)構(gòu)簡單，利用原來的靜支架和橫梁，只是增加了一組動支架和相應橫梁， 各部件方便進行防腐蝕保護，傳動部分位于兩側(cè)，可以避開腐蝕性氣體，同時也便 于維護；
2、 操作方便，由于沒有轉(zhuǎn)盤支架，操作工只是需要把細長的工件依次放在水
平的靜支架的v型凹槽上就可以了，取出同樣方便。


圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實用新型的靜支架、動支架的示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。
如圖l、 2所示， 一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，包括至少一對靜橫梁l和 動橫梁2、至少一對可交替接觸硅材料的靜支架3和動支架4以及位于動橫梁兩側(cè) 的驅(qū)動裝置，所述的靜支架3、動支架4分別固定于靜橫梁1、動橫梁2上，所述 的靜支架3、動支架4上均設有數(shù)個用于支撐硅材料的V型槽5，所述的驅(qū)動裝置 與動橫梁2傳動連接。
所述的靜橫梁1和動橫梁2為兩對，所述的靜支架3固定于兩根靜橫梁1上， 所述的動支架4固定于兩根動橫梁2上，在腐蝕清洗的過程中，動、靜支架的輪流 錯位接觸，以達到無盲點的腐蝕清洗效果；所述的靜橫梁1為金屬橫梁，其外設有 耐腐蝕層；所述的動橫梁2為金屬橫梁，其外設有耐腐蝕層；所述的靜支架3和動 支架4均為耐腐蝕材料支架；所述的驅(qū)動裝置為氣驅(qū)動裝置或電驅(qū)動裝置。
本實施例的橫梁用于固定動、靜支架，該橫梁由外包耐腐蝕材料的金屬結(jié)構(gòu)件組成，既能夠承受較大的載荷，也能抵御腐蝕性氣體的腐蝕；動、靜支架用于放置 待清洗的材料，它們均由耐腐蝕材料制成；驅(qū)動裝置使動支架進行豎直方向的短行 程運動，使清洗的材料在動、靜支架之間交替接觸，這樣的豎直方向的傳動可以采 用氣動結(jié)構(gòu)，也可以采用電動驅(qū)動。
靜橫梁1上固定靜支架3，在腐蝕清洗過程中相對靜止，而細長工件(晶芯) 等在操作工操作時人工放置在靜支架的V型槽5內(nèi)。工作時，動橫梁2帶動動支 架4向上運動L行程，使得工件脫離靜支架3，這時工件與靜支架相接觸的那些部 分也能夠得到腐蝕或清洗，如此往復運動，實現(xiàn)整個工件的無盲點清洗。
權(quán)利要求1.一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，其特征在于，包括至少一對靜橫梁和動橫梁、至少一對可交替接觸硅材料的靜支架和動支架以及位于動橫梁兩側(cè)的驅(qū)動裝置，所述的靜支架、動支架分別固定于靜橫梁、動橫梁上，所述的靜支架、動支架上均設有數(shù)個用于支撐硅材料的V型槽，所述的驅(qū)動裝置與動橫梁傳動連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，其特征在于，所 述的靜橫梁和動橫梁為兩對，所述的靜支架固定于兩根靜橫梁上，所述的動支架固 定于兩根動橫梁上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，其特征在于， 所述的靜橫梁為金屬橫梁，其外設有耐腐蝕層。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，其特征在于，所 述的動橫梁為金屬橫梁，其外設有耐腐蝕層。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，其特征在于，所 述的靜支架和動支架均為耐腐蝕材料支架。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，其特征在于， 所述的驅(qū)動裝置為氣驅(qū)動裝置或電驅(qū)動裝置。
專利摘要本實用新型涉及一種硅材料無盲點化學清洗機構(gòu)，包括至少一對靜橫梁和動橫梁、至少一對可交替接觸硅材料的靜支架和動支架以及位于動橫梁兩側(cè)的驅(qū)動裝置，所述的靜支架、動支架分別固定于靜橫梁、動橫梁上，所述的靜支架、動支架上均設有數(shù)個用于支撐硅材料的V型槽，所述的驅(qū)動裝置與動橫梁傳動連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的一個優(yōu)點是結(jié)構(gòu)簡單，它利用原來的靜支架和橫梁，只是增加了一組動支架和相應橫梁，各部件方便進行防腐蝕保護，傳動部分位于兩側(cè)，可以避開腐蝕性氣體，同時也便于維護；第二個優(yōu)點是操作方便，由于沒有轉(zhuǎn)盤支架，操作工只是需要把細長的工件依次放在水平的靜支架的V型凹槽上就可以了，取出同樣方便。
文檔編號B08B3/08GK201394557SQ20092006961
公開日2010年2月3日 申請日期2009年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月30日
發(fā)明者倪黨生, 王亦天 申請人:上海思恩電子技術(shù)有限公司