專(zhuān)利名稱(chēng)：濕式清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種濕式清洗設(shè)備，特別是有關(guān)于一種能使基板各部位得到良好 清潔效果的濕式清洗設(shè)備。
背景技術(shù)：
由于平面顯示技術(shù)的突飛猛進(jìn)，其應(yīng)用逐漸從電腦用屏幕延伸至家用電視等電子 產(chǎn)品。就薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)制程而言，清洗步驟經(jīng)常連接于鍍膜、微影及刻 蝕等步驟之前、中、后等時(shí)機(jī)，用以維持顯示器基板在生產(chǎn)過(guò)程中的表面潔凈度。已知的濕式清洗設(shè)備是在基板搬運(yùn)裝置上方設(shè)置清洗液供應(yīng)裝置?；灏徇\(yùn)裝置 以一行進(jìn)方向搬運(yùn)待清洗的基板。當(dāng)進(jìn)行清潔程序時(shí)，基板是置于基板搬運(yùn)裝置上傳輸，而 清洗液供應(yīng)裝置則是噴灑清洗液至基板上以進(jìn)行清潔程序。然而，隨著基板的尺寸逐漸加大，為了提高對(duì)大面積的基板的清潔效果，有一種使 用傾斜清洗的方式進(jìn)行基板的清潔程序已被提出。然而，此種傾斜清洗方式在對(duì)應(yīng)于基板 的較高部位與基極的較低部位處受到清洗液的液壓或流量會(huì)有分布不均的情形，因而使得 基板整體的清潔效果不均勻，導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量受到影響。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種濕式清洗設(shè)備，能使基板上的各部位得到 良好清潔效果。本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種濕式清洗設(shè)備，該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜 角度，因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承 載面實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位 的該些噴嘴的分布密度大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的分布密度。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，該傾斜角度為2 8度。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位與第二部位之間 的該些噴嘴的分布密度介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些噴嘴的分布密度以 及對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的分布密度之間。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，該些噴嘴的分布密度是自對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載而的該 第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。
在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的 行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，位于該清洗液供應(yīng)管路兩端的噴嘴分別與該承載面 的該第一部位以及該第二部位對(duì)應(yīng)。本發(fā)明的目的還可以這樣實(shí)現(xiàn)，一種濕式清洗設(shè)備，該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜 角度，因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承 載面實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位 的該些噴嘴的清洗液噴出流速大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的清洗 液噴出流速。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位與該第二部位之 間的該些噴嘴的清洗液噴出流速介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些噴嘴的清 洗液噴出流速以及對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速之間。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，該些噴嘴的清洗液噴出流速是自對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載 面的該第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。本發(fā)明的目的還可以這樣實(shí)現(xiàn)，一種濕式清洗設(shè)備，該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜 角度，因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承 載面實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位 的該些噴嘴的出口面積大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的出口面積。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的較第一位與第二部位之間的 該些噴嘴的出口面積介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些噴嘴的出口面積以及 對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的出口面積之間。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，該些噴嘴的出口面積是自對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該 第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。本發(fā)明的目的還可以這樣實(shí)現(xiàn)，一種濕式清洗設(shè)備，該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜 角度，因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承 載面實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位 的該些噴嘴的流量大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的流量。
在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的第一部位與第二部位之間的 該些噴嘴的流量介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些噴嘴的流量以及對(duì)應(yīng)設(shè)置 于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的流量之間。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，該些噴嘴的流量是自對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第一 部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低?；谏鲜?，本發(fā)明所提出的濕式清洗設(shè)備，可由調(diào)整清洗液供應(yīng)管路上噴嘴設(shè)置 的密度、噴嘴面積、清洗液的流速或流量，使清洗液在承載面較高部份有較多的噴出量，因 此可使基板上的各部位得到良好清潔效果。


圖1 為本發(fā)明實(shí)施例1的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。
圖2:為本發(fā)明實(shí)施例1的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。
圖3:為本發(fā)明實(shí)施例2的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。
圖4:為本發(fā)明實(shí)施例2的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。
圖5:為本發(fā)明實(shí)施例3的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。
附圖標(biāo)號(hào)
200、300、400 濕式清洗設(shè)備
210 基板搬運(yùn)裝置
210a 承載面
220 清洗液供應(yīng)裝置
222 清洗液供應(yīng)管路
224a、224b 噴嘴
C 清洗液
D 延伸方向
H 第一部位
L 第二部位
M 行進(jìn)方向
S:基板
θ 傾斜角度
具體實(shí)施例方式為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合附圖詳細(xì) 說(shuō)明如下。實(shí)施例1圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1，在本實(shí)施例中， 濕式清洗設(shè)備200包括基板搬運(yùn)裝置210以及清洗液供應(yīng)裝置220?；灏徇\(yùn)裝置210具 有承載面210a，其中基板搬運(yùn)裝置210的承載面210a具有傾斜角度θ，因此承載面210a 具有第一部位H以及第二部位L。清洗液供應(yīng)裝置220設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置210的上方 其 中清洗液供應(yīng)裝置220包括至少一清洗液供應(yīng)管路222以及多個(gè)噴嘴224a。清洗液供應(yīng)管路222的延伸方向D與基板搬運(yùn)裝置210的承載面210a實(shí)質(zhì)平行。多個(gè)噴嘴224a裝設(shè) 于清洗液供應(yīng)管路222上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H的噴嘴224a的清洗 液C噴出量總合，大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出 量總合，以達(dá)到良好的洗凈效果。針對(duì)上述的濕式清洗設(shè)備200，所要說(shuō)明的是，其中承載面210a所具有的傾斜角 度θ，其范圍可以在2 8度之間，在此范圍內(nèi)可使清洗液C有效帶走基板S上的懸浮粒 子(未繪示)或其它臟污以避免殘留，且基板S也不致于在承載面210a上滑動(dòng)。此外，上 述清洗液供應(yīng)管路222的延伸方向D與基板搬運(yùn)裝置210的行進(jìn)方向M實(shí)質(zhì)上是可彼此垂 直的。而位于清洗液供應(yīng)管路222兩端的噴嘴224a，則可分別與承載面210a的第一部位H 以及第二部位L對(duì)應(yīng)，其可以與承載面210a的第一部位H以及第二部位L對(duì)齊設(shè)置或是略 超出承載面210a的第一部位H以及第二部位L的位置，以確?；錝容置于洗凈范圍內(nèi)。 另外，本發(fā)明不限制清洗液供應(yīng)管路222的數(shù)量，本實(shí)施例的圖式所繪示的清洗液供應(yīng)管 路222僅是用以說(shuō)明本發(fā)明。請(qǐng)繼續(xù)參照?qǐng)D1，在本實(shí)施例中特別要注意的是，上述對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的 第一部位H的噴嘴224a，其分布密度可大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二部位L的噴嘴 224a分布密度。而對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H與第二部位L之間的噴嘴224a的 分布密度，則可介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H的噴嘴224a的分布密度，以及對(duì) 應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二部位L的噴嘴224a的分布密度之間。然而，本發(fā)明并不以此 為限，對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H與第二部位L之間的噴嘴224a的分布密度，可 視承載面210a的傾斜角度θ、承載面210a所搬運(yùn)的基板S尺寸及擺放位置、或是其它考 慮而作調(diào)整。換言之，本實(shí)施例的噴嘴224a的分布密度是以三種密度分布于對(duì)應(yīng)在承載面 210a的第一部位H、第二部位L以及位于第一部位與第二部位L之間的中間部位。然而，在 其它的實(shí)施例中，也可以?xún)H設(shè)計(jì)兩種噴嘴密度，或是設(shè)計(jì)四種或以上的噴嘴密度，但不限于 此，可依實(shí)際需求調(diào)整。圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D2，除了上述可在對(duì) 應(yīng)承載面210a的不同部作分段式的噴嘴分布密度外，在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，噴嘴224a 的分布密度還可以自對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第一部位H逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a 的第二部位L降低。在上述實(shí)施例中，由于清洗液C由噴嘴224a噴灑至承載面210a上的基板S，而此 時(shí)第一部位H的噴嘴224a分布密度較大，其意味著在第一部位H中會(huì)有較多的清洗液C被 噴灑至基板S上，因此可以改善基板S在對(duì)應(yīng)第一部位H所被噴灑的清洗液C與于第二部 位L所被噴灑的清潔液C不均所導(dǎo)致基板整體清潔不均勻的問(wèn)題，而使基板S的整體清洗 效果得到提高。實(shí)施例2圖3為本發(fā)明實(shí)施例2的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D3，本發(fā)明實(shí)施例2 的濕式清洗設(shè)備300，其設(shè)置大致和實(shí)施例1相同，其主要的差異在于，本實(shí)施例是通過(guò)調(diào) 整噴嘴224b的出口面積，而達(dá)到使對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H的噴嘴224b的清 洗液C噴出量總合大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二部位L的噴嘴224b的清洗液C噴出 量總合的效果。如圖3所示，在對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面S的第一部位H的噴嘴224b，可各具有相同大小的出口面積，且此出口面積大于對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第二部位L的噴嘴224b 的出口面積。至于對(duì)應(yīng)設(shè)置在第一與第二部位H、L之間的噴嘴224b，其出口面積的大小則 可介于高低兩部位H、L的噴嘴224b出口面積之間。類(lèi)似地，此處僅為舉例說(shuō)明，上述對(duì)應(yīng)設(shè) 置在第一與第二部位H、L之間噴嘴224b的出口面積還可以根據(jù)實(shí)際情況加以設(shè)計(jì)，只要能 使第一部位H的清洗液C噴出量總和大于第二部位L，皆在本發(fā)明所涵蓋的范圍。換言之， 本實(shí)施例的噴嘴224b的出口面積是以三種出口面積于對(duì)應(yīng)在承載面210a的第一部位H、第 二部位L以及位于第一部位H與第二部位L之間的中間部位。然而，在其它的實(shí)施例中，也 可以?xún)H設(shè)計(jì)兩種出口面積，或是設(shè)計(jì)四種或以上的出口面積，但不限于此，可依實(shí)際需求調(diào)
iF. ο圖4為本發(fā)明實(shí)施例2的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D4，承上述，噴嘴224b 除了可以在不同部位有不同的出口面積外，在另一實(shí)施例中，噴嘴224b的出口面積還可以 自對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第一部位H逐漸往承載面210a的第二部位L降低。實(shí)施例3圖5為本發(fā)明實(shí)施例3的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D5，本發(fā)明實(shí)施例3 的濕式清洗設(shè)備400，其設(shè)置大致和實(shí)施例1相同，其主要的差異在于，本實(shí)施例的濕式清 洗設(shè)備400是通過(guò)調(diào)整噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，而達(dá)到使對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面 210a的第一部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二 部位L的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合的效果。對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H 的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，可大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二部位L的 噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量。而對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H與第二部 位L之間的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，則可介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第 一部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量、以及對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第二部 位L的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量之間。同樣地，本發(fā)明也可使噴嘴224a在不 同部分可具有不同流速或流量。更詳細(xì)而言，本實(shí)施例的噴嘴224a的流速或流量是以三種 流速或流量于對(duì)應(yīng)在承載面210a的第一部位H、第二部位L以及位于第一部位與第二部位 L之間的中間部位。然而，在其它的實(shí)施例中，也可以?xún)H設(shè)計(jì)兩種流速或流量，或是設(shè)計(jì)四種 或以上的流速或流量，但不限于此，可依實(shí)際需求調(diào)整。此外，還可根據(jù)承載面210a的傾斜角度θ，或其它的考慮，使噴嘴224a在不同部 位具有不同的清洗液C噴出流速或流量。舉例來(lái)說(shuō)，在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述噴嘴 224a的清洗液C噴出流速或流量，也可以自對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面210a的第一部位H逐漸往承 載面210a的第二部位L降低。實(shí)際使用時(shí)，例如可加裝流速控制器420，使對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面210a的第一部位H 的噴嘴224a可具有較大流速或流量。當(dāng)然，其它還有許多可以控制噴嘴224a流速或流量 的方法，此處的流速控制器420僅為舉例說(shuō)明，并非用以限定本發(fā)明?；旧希灰軌蚴箤?duì)應(yīng)于承載面210a第一部分H的清洗液C噴出量總和，大于 對(duì)應(yīng)第二部分L的清洗液C噴出量總和，皆符合本發(fā)明的精神。綜上所述，本發(fā)明的濕式清洗設(shè)備至少具有下列優(yōu)點(diǎn)通過(guò)調(diào)整噴嘴設(shè)置的密度、出口面積、清洗液的流速或流量，可使清洗液在承載面 第一的位置有較多的噴出量，因而改善了第一部位清潔效果不佳的問(wèn)題，使基板整體有較佳的潔凈度。 雖然本發(fā)明已以具體實(shí)施例揭示，但其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù) 人員，在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和范圍的前提下所作出的等同組件的置換，或依本發(fā)明專(zhuān)利 保護(hù)范圍所作的等同變化與修飾，皆應(yīng)仍屬本專(zhuān)利涵蓋之范疇。
權(quán)利要求
一種濕式清洗設(shè)備，其特征在于該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜角度，因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承載面實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些噴嘴的分布密度大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的分布密度。
2.如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該傾斜角度為2 8度。
3.如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部 位與第二部位之間的該些噴嘴的分布密度介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些 噴嘴的分布密度以及對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的分布密度之間。
4.如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該些噴嘴的分布密度是自對(duì)應(yīng)設(shè) 置于該承載面的該第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。
5.如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與 該基板搬運(yùn)裝置的行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。
6.如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于位于該清洗液供應(yīng)管路兩端的噴 嘴分別與該承載面的該第一部位以及該第二部位對(duì)應(yīng)。
7.—種濕式清洗設(shè)備，其特征在于該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜角度， 因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承載面 實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該 些噴嘴的清洗液噴出流速大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的清洗液噴 出流速。
8.如權(quán)利要求7所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該傾斜角度為2 8度。
9.如權(quán)利要求7所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部 位與該第二部位之間的該些噴嘴的清洗液噴出流速介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部 位的該些噴嘴的清洗液噴出流速以及對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的清 洗液噴出流速之間。
10.如權(quán)利要求7所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該些噴嘴的清洗液噴出流速是自 對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。
11.如權(quán)利要求7所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與 該基板搬運(yùn)裝置的行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。
12.如權(quán)利要求7所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于位于該清洗液供應(yīng)管路兩端的噴 嘴分別與該承載面的該第一部位以及該第二部位對(duì)應(yīng)。
13.—種濕式清洗設(shè)備，其特征在于該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜角度， 因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承載面 實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該 些噴嘴的出口面積大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的出口面積。
14.如權(quán)利要求13所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該傾斜角度為2 8度。
15.如權(quán)利要求13所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的較第一 位與第二部位之間的該些噴嘴的出口面積介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些 噴嘴的出口面積以及對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的出口面積之間。
16.如權(quán)利要求13所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該些噴嘴的出口面積是自對(duì)應(yīng) 設(shè)置于該承載面的該第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。
17.如權(quán)利要求13所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向 與該基板搬運(yùn)裝置的行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。
18.如權(quán)利要求13所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于位于該清洗液供應(yīng)管路兩端的 噴嘴分別與該承載面的該第一部位以及該第二部位對(duì)應(yīng)。
19.一種濕式清洗設(shè)備，其特征在于該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜角度， 因而該承載面具有一第一部位以及一第二部位，且該第一部位高于該第二部位；一清洗液供應(yīng)裝置，設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路，該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承載面 實(shí)質(zhì)平行；多個(gè)噴嘴，裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該 些噴嘴的流量大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的流量。
20.如權(quán)利要求19所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該傾斜角度為2 8度。
21.如權(quán)利要求19所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的第一部 位與第二部位之間的該些噴嘴的流量介于對(duì)應(yīng)設(shè)置在該承載面的該第一部位的該些噴嘴 的流量以及對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位的該些噴嘴的流量之間。
22.如權(quán)利要求19所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該些噴嘴的流量是自對(duì)應(yīng)設(shè)置 于該承載面的該第一部位逐漸往對(duì)應(yīng)設(shè)置于該承載面的該第二部位降低。
23.如權(quán)利要求19所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向 與該基板搬運(yùn)裝置的行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。
24.如權(quán)利要求19所述的濕式清洗設(shè)備，其特征在于位于該清洗液供應(yīng)管路兩端的 噴嘴分別與該承載面的該第一部位以及該第二部位對(duì)應(yīng)。
全文摘要
本發(fā)明為一種濕式清洗設(shè)備，包括基板搬運(yùn)裝置以及清洗液供應(yīng)裝置?；灏徇\(yùn)裝置具有承載面，且承載面具有傾斜角度，因而承載面具有第一部位以及第二部位。清洗液供應(yīng)裝置設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方，其中清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路以及多個(gè)噴嘴。清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與基板搬運(yùn)裝置的承載面實(shí)質(zhì)平行。多個(gè)噴嘴裝設(shè)于清洗液供應(yīng)管路上，其中對(duì)應(yīng)設(shè)置在承載面的第一部位的噴嘴的分布密度，大于對(duì)應(yīng)設(shè)置于承載面的第二部位的噴嘴的分布密度。
文檔編號(hào)B08B3/00GK101890412SQ20101022609
公開(kāi)日2010年11月24日 申請(qǐng)日期2009年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月6日
發(fā)明者林宗融, 蘇德修 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司