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      用于半導(dǎo)體元件的清洗架的制作方法

      文檔序號:1396425閱讀:106來源:國知局
      專利名稱:用于半導(dǎo)體元件的清洗架的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種用于半導(dǎo)體元件的清洗架,屬于半導(dǎo)體二極管的清洗技術(shù)領(lǐng) 域。
      背景技術(shù)
      在半導(dǎo)體二極管的制作過程中,需要對半導(dǎo)體二極管進(jìn)行酸洗,半導(dǎo)體二極管是 否干凈,直接影響半導(dǎo)體二極管的性能。在酸洗過程中,通常將半導(dǎo)體二極管插裝在清洗盤 的插孔內(nèi),將腐蝕性的含硫酸的酸洗液到入清洗盤內(nèi)對半導(dǎo)體二極管進(jìn)行短時間的浸泡, 再用去離子水對半導(dǎo)體二極管進(jìn)行沖洗。清洗盤通常采用四個耐腐蝕的支腿支承,在酸洗 液倒入清洗盤時需保持清洗盤水平,通過酸洗液浸泡半導(dǎo)體二極管,當(dāng)用去離子水沖洗時, 由于清洗盤為平置,雖然通過一定流速去離子水半導(dǎo)體二極管對進(jìn)行沖洗,但清洗盤內(nèi)還 有極少量殘留的金屬離子無法沖掉,而影響半導(dǎo)體二極管清洗效果。
      發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單,裝卸清洗盤方便、便于沖洗干凈的用于 半導(dǎo)體元件的清洗架。本實(shí)用新型為達(dá)到上述目的的技術(shù)方案是一種用于半導(dǎo)體元件的清洗架,其特 征在于包括底板、上支架、兩個以上的支座和下?lián)鯄K,底板中部具有開口,所述上支架為前 端開口的槽形支架,平行斜置的兩個以上支座其兩側(cè)分別固定在底板和上支架的兩側(cè),兩 個以上的下?lián)鯄K分別固定在底板上并位于各支座的前部,且下?lián)鯄K與支座之間為安裝清洗 盤的插槽。本實(shí)用新型通過兩個以上的支座連接在底板和上支架的兩側(cè),以形成框架結(jié)構(gòu), 結(jié)構(gòu)簡單,底板上固定有下?lián)鯄K,使各支座與下?lián)鯄K之間形成安裝清洗盤的插槽,由于安裝 清洗盤的插槽為斜槽,清洗盤插裝在插槽內(nèi),分別由支座和下?lián)鯄K限位,裝卸方便快捷,尤 其用去離子水沖洗時,由于清洗盤均為傾斜設(shè)置,使位于清洗盤底部的重金屬離子能隨去 離子沖掉,而能確保半導(dǎo)體二極管清洗效果。本實(shí)用新型采用兩個以上的支座,一次可以將 兩個以上的清洗盤內(nèi)的半導(dǎo)體二極管沖洗,能提高沖洗效率。
      以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的實(shí)施例作進(jìn)一步的描述描述。


      圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是
      圖1的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。其中1-下?lián)鯄K,2-底板,3-支座,4-插槽,5-上支架,6-清洗盤。
      具體實(shí)施方式

      圖1、2所示,本實(shí)用新型用于半導(dǎo)體元件的清洗架,包括底板2、上支架5、兩個以上的支座3和下?lián)鯄K1,底板2中部具有開口,上支架5為前端開口的槽形支架,平行斜 置的兩個以上支座3其兩側(cè)分別固定在底板2和上支架5的兩側(cè),兩個以上的下?lián)鯄K1分 別固定在底板2上并位于各支座3的前部,下?lián)鯄K1與支座3之間為安裝清洗盤的插槽4, 見圖2所示,可將清洗盤6插裝在該插槽4內(nèi),清洗盤6的前下部由下?lián)鯄K1限位,清洗盤 6的后側(cè)則由支座3的斜側(cè)面限位,由于清洗盤是斜置,裝卸方便快捷,能將清洗盤6底部 的重金屬離子能隨去離子沖掉,而能確保半導(dǎo)體二極管清洗效果,本實(shí)用新型為使清洗盤6 分別靠在支座3和下?lián)鯄K1上,下?lián)鯄K1與上支座3平行。
      權(quán)利要求一種用于半導(dǎo)體元件的清洗架,其特征在于包括底板(2)、上支架(5)、兩個以上的支座(3)和下?lián)鯄K(1),底板(2)中部具有開口,所述上支架(5)為前端開口的槽形支架,平行斜置的兩個以上支座(3)其兩側(cè)分別固定在底板(2)和上支架(5)的兩側(cè),兩個以上的下?lián)鯄K(1)分別固定在底板(2)上并位于各支座(3)的前部,且下?lián)鯄K(1)與支座(3)為安裝清洗盤的插槽(4)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體元件的清洗架,其特征在于所述的下?lián)鯄K(1) 與上支座(3)平行。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于半導(dǎo)體元件的清洗架,包括底板、上支架、兩個以上的支座和下?lián)鯄K,底板中部具有開口,所述上支架為前端開口的槽形支架,平行斜置的兩個以上支座其兩側(cè)分別固定在底板和上支架的兩側(cè),兩個以上的下?lián)鯄K分別固定在底板上并位于各支座的前部,且下?lián)鯄K與支座之間為安裝清洗盤的插槽。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單,裝卸清洗盤方便,由于清洗盤為傾斜設(shè)置在清洗架內(nèi),能將清洗盤底部的重金屬離子能隨去離子沖掉,能確保半導(dǎo)體二極管清洗效果,提高半導(dǎo)體二極管的成品率。
      文檔編號B08B3/02GK201655761SQ20102014257
      公開日2010年11月24日 申請日期2010年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月26日
      發(fā)明者張心波 申請人:張心波
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