專利名稱：超聲循環(huán)硅片清洗機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種單晶硅生產過程中使用的超聲循環(huán)硅片清洗機。
背景技術：
在單晶硅生產過程中需使用超聲波清洗機對硅片進行超聲，清洗掉存在于硅片間 隙的殘留物及金屬雜質等。由于硅片的間隙很小，很難使殘留物和金屬雜質溢出，導致大量 油污片、花片等不合格品的出現，影響產品質量。此外，槽中的水不能流動，需要頻繁的換 水，浪費水資源，增加了生產成本。
發(fā)明內容本實用新型要解決的技術問題是提供一種可使硅片間隙的殘留物和金屬雜質溢 出，使硅片沖洗得更徹底、更干凈，提高產品質量，水可以循環(huán)使用，節(jié)約成本的超聲循環(huán)硅 片清洗機。本實用新型涉及的超聲循環(huán)硅片清洗機，包括超聲槽，在超聲槽一側設有排水閥 門，在超聲槽的槽口處搭接有用于放置硅片的支架，在超聲槽內設有收集網，其特殊之處 是在超聲槽上還設有循環(huán)水管路，循環(huán)水管路通過過濾裝置和抽水泵連接有條形噴頭。上述的超聲循環(huán)硅片清洗機，所述支架通過連接桿與收集網連接在一起。本實用新型與現有技術相比有如下優(yōu)點水可以循環(huán)利用，通過過濾裝置保證了循環(huán)水的清潔，節(jié)約生產成本；在超聲的同 時使水產生流動效應，硅片間隙的殘留物和金屬雜質隨水波由抽水泵抽走，以此產生循環(huán) 沖洗效果。通過條形噴頭產生的可流動水流解決了僅靠超聲不能使硅片間隙殘留物及金屬 雜質溢出的問題，使硅片沖洗得更徹底、更干凈，提高了產品質量。

圖1是本實用新型的結構示意圖。圖中注水閥門1，支架2，收集網3，連接桿4，排水閥門5，條形噴頭6，抽水泵7， 過濾裝置8，循環(huán)水管路9，超聲槽10。
具體實施方式
如圖所示，該超聲循環(huán)硅片清洗機有一個超聲槽10，在超聲槽10 —側設有排水閥 門5和循環(huán)水管路9，循環(huán)水管路9通過過濾裝置8和抽水泵7連接有條形噴頭6。在超聲 槽10的槽口處搭接有用于放置硅片的支架2，在超聲槽10內設有收集網3，用來接收超聲 時可能脫落的硅片。收集網3與支架2通過連接桿4連接在一起。水位不足時，開啟注水 閥門1，水位過高則開啟排水閥門5。當槽內的水逐漸清澈時，開啟抽水泵7，使清水經過濾 裝置8后通過人工操作條形噴頭6控制水流的位置和方向，將清水重新打入超聲槽10中以 便控制水流的位置和方向，在超聲的同時使水產生流動效應，硅片間隙的殘留物和金屬雜質隨水波由抽水泵7抽走，以此產生循環(huán)沖洗效果。
權利要求一種超聲循環(huán)硅片清洗機，包括超聲槽，在超聲槽一側設有排水閥門，在超聲槽的槽口處搭接有用于放置硅片的支架，在超聲槽內設有收集網，其特征是在超聲槽上還設有循環(huán)水管路，循環(huán)水管路通過過濾裝置和抽水泵連接有條形噴頭。
2.根據權利要求1所述的超聲循環(huán)硅片清洗機，其特征是所述支架通過連接桿與收 集網連接在一起。
專利摘要一種超聲循環(huán)硅片清洗機，解決了在單晶硅生產過程中硅片沖洗不徹底，硅片表面有砂漿殘留物和金屬雜質，從而導致硅片降低等級的問題。該超聲循環(huán)硅片清洗機包括超聲槽，在超聲槽一側設有排水閥門，在超聲槽的槽口處搭接有用于放置硅片的支架，在超聲槽內設有收集網，其特殊之處是在超聲槽上還設有循環(huán)水管路，循環(huán)水管路通過過濾裝置和抽水泵連接有條形噴頭。優(yōu)點是水可以循環(huán)利用，節(jié)約成本；通過條形噴頭產生的可流動水流解決了僅靠超聲不能使硅片間隙殘留物及金屬雜質溢出的問題，使硅片沖洗得更徹底、更干凈，提高了產品質量。
文檔編號B08B3/02GK201702135SQ20102016931
公開日2011年1月12日 申請日期2010年4月19日 優(yōu)先權日2010年4月19日
發(fā)明者劉雷, 唐迪, 羅貴實, 趙亮, 陳鵬 申請人:錦州日鑫硅材料有限公司