專利名稱：半自動晶片后洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及石英晶體振蕩器、諧振器加工設(shè)備中的石英晶片后洗裝置，特別 是一種半自動晶片后洗裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的石英晶片后洗裝置，采用的是單個(gè)超聲波清洗槽逐個(gè)進(jìn)行手動超聲波清 洗，這樣的手動操作強(qiáng)度增大、出錯(cuò)幾率大，同時(shí)由于不易控制清洗液體的流量造成了很大 的資源浪費(fèi)或者影響了清洗效果。甚至有的工廠鑒于手動操作的復(fù)雜性直接取消了這一個(gè) 加工流程，引起了后幾道工序的良率偏低。目前國內(nèi)尚無一種專門用于此加工工藝的設(shè)備。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型旨在解決上述晶片后洗工序存在的技術(shù)問題，而提供一種在降低員工 操作強(qiáng)度和避免資源浪費(fèi)的同時(shí)，又能提升生產(chǎn)效率和加工良率的半自動晶片后洗裝置。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題采用的技術(shù)方案是一種半自動晶片后洗裝置，包括 超聲波清洗槽，所述超聲波清洗槽至少包括依次排列布置的初洗槽、噴淋槽、凈洗槽、甩干 槽和脫水槽，該初洗槽配置有初洗水存儲箱，該噴淋槽配置有噴淋水存儲箱，該脫水槽分別 配置有脫水液體存儲箱和脫水液體回收箱，清洗水分別引入凈洗槽和噴淋水存儲箱，該凈 洗槽通過其上部的溢流管道與該初洗水存儲箱連接，該初洗水存儲箱通過供水管路與該初 洗槽連接，該噴淋水存儲箱的供水管路與設(shè)置在該噴淋槽上方的噴頭連接；脫水液體輸入 管路與該脫水液體存儲箱連接，該脫水液體存儲箱的供液管路與該脫水槽連接，該脫水槽 與該脫水液體回收箱之間分別通過輸液管路和溢流管路連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是既能更換清洗液體又不浪費(fèi)資源，同 時(shí)在脫水液體脫水前設(shè)置有將被清洗的晶片高速旋轉(zhuǎn)甩干的工序，提高了脫水液體的脫水 效果，脫水后的液體自動回收，可以用于其它方面，節(jié)省了資源。本裝置便于員工操作，員工 只需將上一槽位的晶片移到下一槽位同時(shí)打開相應(yīng)的電源開關(guān)即可，降低了員工的操作難 度和強(qiáng)度。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中初洗槽1，噴淋槽2，凈洗槽3，甩干槽4，脫水槽5，初洗水存儲箱6，噴淋水存 儲箱7，脫水液體回收箱8，脫水液體存儲箱9，水泵10，過濾器11，供水管路12，電磁閥13， 手動排液閥14，排液管路15，溢流管道16，噴頭17，脫水液回收桶18，脫水液體輸入管路 19，清洗水供水管路20。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
3[0009]見圖1，本實(shí)施例所述半自動晶片后洗裝置，其超聲波清洗槽由依次排列布置的初 洗槽1、噴淋槽2、凈洗槽3、甩干槽4和脫水槽5組成，該初洗槽1配置有初洗水存儲箱9， 該噴淋槽配置有噴淋水存儲箱8，該脫水槽4分別配置有脫水液體存儲箱6和脫水液體回 收箱7，清洗水分別引入凈洗槽3和噴淋水存儲箱8，該凈洗槽3通過其上部的溢流管道16 與該初洗水存儲箱9連接，該初洗水存儲箱9通過供水管路12與該初洗槽1連接，該噴淋 水存儲箱8的供水管路12與設(shè)置在該噴淋槽2上方的噴頭17連接；脫水液體輸入管路19 與該脫水液體存儲箱6連接，該脫水液體存儲箱6的供液管路與該脫水槽5連接，該脫水槽 5與該脫水液體回收箱7之間分別通過輸液管路和溢流管路連接。本實(shí)施例中，該初洗槽1內(nèi)設(shè)置有放置晶片的清洗支架。本實(shí)施例中，該初洗水存儲箱9內(nèi)裝有加熱管。本實(shí)施例中，該初洗水存儲箱9與該初洗槽1之間的供水管路12上裝有水泵10、 過濾器11和電磁閥13，該初洗槽1底部的排液管路15上分別設(shè)置有電磁閥13和手動排液 閥14，所述電磁閥13與該初洗槽1的超聲波清洗定時(shí)器電連接。本實(shí)施例中，該凈洗槽3其清洗水供水管路20上裝有水泵10、過濾器11和電磁閥 13，其排液管路15上分別設(shè)置有電磁閥13和手動排液閥14，所述電磁閥13與該凈洗槽3 的超聲波清洗定時(shí)器電連接。本實(shí)施例中，該噴淋水存儲箱8與噴頭17之間的供水管路12上裝有水泵10和過 濾器Ilo本實(shí)施例中，該甩干槽4中裝有甩干裝置及凈化風(fēng)罩。本實(shí)施例中，該脫水槽5中設(shè)置有液位計(jì)。本實(shí)施例中，該脫水液體存儲箱6與該脫水槽5之間的供液管路上裝有水泵10和 過濾器11，該脫水槽5與該脫水液體回收箱7之間的輸液管路上裝有電磁閥13，該電磁閥 13與該脫水槽5的超聲波清洗脫水定時(shí)器電連接。本裝置的工作過程是晶片首先放置在初洗槽1內(nèi)的清洗支架上，然后打開超聲 波電源進(jìn)行超聲波清洗。超聲波內(nèi)有定時(shí)器可以設(shè)置超聲波開啟時(shí)間，同時(shí)加入定時(shí)器定 期排液時(shí)間(在底部排液，將清洗完成后殘留在槽內(nèi)密度大于去離子水的雜質(zhì)排出槽內(nèi))， 初洗槽1中的去離子水滿后會溢流到排水管路15中(將清洗完成后殘留在槽內(nèi)密度小于 去離子水的雜質(zhì)排出槽內(nèi))。其中初洗槽1中的去離子水是采用初洗水存儲箱9中存儲的 去離子水由水泵10抽取再經(jīng)過過濾器11得到的，初洗水存儲箱9中有加熱管對存儲的去 離子水進(jìn)行加熱。晶片在初洗槽1中超洗完成后，取出放入噴淋槽2，由噴頭17對其進(jìn)行噴淋，噴頭 17采用噴淋水存儲箱8中存儲的水由水泵10抽取再經(jīng)過過濾器11得到的，噴淋完成后，去 離子水落于槽底流入排水管路15中。噴淋完成后，將晶片從噴淋水存儲箱8中取出，放入凈洗槽3中，打開其超聲波電 源進(jìn)行超聲波清洗，超聲波內(nèi)有定時(shí)器可以設(shè)置超聲波開啟時(shí)間，同時(shí)加入定時(shí)器定期排 液時(shí)間(在底部排液，將清洗完成后殘留在槽內(nèi)密度大于去離子水的雜質(zhì)排出槽內(nèi))，凈洗 槽3中的去離子水滿后會溢流到初洗水存儲箱9中(將清洗完成后殘留在槽內(nèi)密度小于去 離子水的雜質(zhì)排出槽內(nèi))。其中凈洗槽3中的去離子水是直接從清洗水供水管路20由水泵 10抽取再經(jīng)過過濾器11得到的。
4[0021]晶片在凈洗槽3中超洗完成后，取出并放入甩干槽4中，打開甩干開關(guān)進(jìn)行甩干， 甩干時(shí)間由定時(shí)器控制。甩干前放下的凈化風(fēng)罩，以防晶片甩出，同時(shí)起到槽內(nèi)凈化、增強(qiáng) 清洗效果的作用。甩干槽4中的去離子水落于槽底流入排水管路15中。甩干完成后，將晶片取出放入脫水槽5內(nèi)進(jìn)行脫水，打開超聲波電源進(jìn)行超洗，增 加脫水效果。超聲波內(nèi)有定時(shí)器可以設(shè)置超聲波開啟時(shí)間與定期排液時(shí)間。脫水槽5內(nèi)的 脫水液體是采用脫水液體存儲箱6存儲的液體經(jīng)過過濾得到的，由于脫水液體一般容易揮 發(fā)，脫水槽5應(yīng)設(shè)計(jì)上蓋以減少脫水液體的揮發(fā)，同時(shí)由液位計(jì)檢測脫水槽5內(nèi)的液位，一 旦液位低于檢測位置，由水泵10直接從脫水槽5中補(bǔ)充液體。脫水槽5內(nèi)脫水液體到設(shè)定 時(shí)間后會自動排放到脫水液體回收箱7中進(jìn)行回收，排放完成后再由脫水液體存儲箱6補(bǔ) 充液體。脫水液體回收箱7液位滿后會報(bào)警提示操作員工回收至脫水液回收桶18。脫水槽 5內(nèi)的液體滿后會溢流到脫水液體回收箱7中回收。晶片在脫水槽5內(nèi)脫水完成后，再次取出放入甩干槽4中進(jìn)行甩干，防止在以后的 晶片烘干過程中有太多的脫水液體導(dǎo)致燃燒或者爆炸。由于脫水液體回收箱7中的液體能回收，同時(shí)初洗水存儲箱9中的液體實(shí)現(xiàn)二次 利用從而大大減少了資源的浪費(fèi)，降低了成本。
權(quán)利要求一種半自動晶片后洗裝置，包括超聲波清洗槽，其特征在于，所述超聲波清洗槽至少包括依次排列布置的初洗槽、噴淋槽、凈洗槽、甩干槽和脫水槽，該初洗槽配置有初洗水存儲箱，該噴淋槽配置有噴淋水存儲箱，該脫水槽分別配置有脫水液體存儲箱和脫水液體回收箱，清洗水分別引入凈洗槽和噴淋水存儲箱，該凈洗槽通過其上部的溢流管道與該初洗水存儲箱連接，該初洗水存儲箱通過供水管路與該初洗槽連接，該噴淋水存儲箱的供水管路與設(shè)置在該噴淋槽上方的噴頭連接；脫水液體輸入管路與該脫水液體存儲箱連接，該脫水液體存儲箱的供液管路與該脫水槽連接，該脫水槽與該脫水液體回收箱之間分別通過輸液管路和溢流管路連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該初洗槽內(nèi)設(shè)置有放置 晶片的清洗支架。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該初洗水存儲箱內(nèi)裝有 加熱管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該初洗水存儲箱與該初 洗槽之間的供水管路上裝有水泵、過濾器和電磁閥，該初洗槽底部的排液管路上分別設(shè)置 有電磁閥和手動排液閥，所述電磁閥與該初洗槽的超聲波清洗定時(shí)器電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該凈洗槽其清洗水供水 管路上裝有水泵、過濾器和電磁閥，其排液管路上分別設(shè)置有電磁閥和手動排液閥，所述電 磁閥與該凈洗槽的超聲波清洗定時(shí)器電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該噴淋水存儲箱與噴頭 之間的供水管路上裝有水泵和過濾器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該甩干槽中裝有甩干裝 置及凈化風(fēng)罩。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該脫水槽中設(shè)置有液位計(jì)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半自動晶片后洗裝置，其特征在于，該脫水液體存儲箱與該 脫水槽之間的供液管路上裝有水泵和過濾器，該脫水槽與該脫水液體回收箱之間的輸液管 路上裝有電磁閥，該電磁閥與該脫水槽的超聲波清洗脫水定時(shí)器電連接。
專利摘要本實(shí)用新型涉及石英晶體振蕩器、諧振器加工設(shè)備中的石英晶片后洗裝置，特別是一種半自動晶片后洗裝置。該裝置包括初洗槽、噴淋槽、凈洗槽、甩干槽和脫水槽，初洗槽配置有初洗水存儲箱，噴淋槽配置有噴淋水存儲箱，脫水槽配置有脫水液體存儲箱和脫水液體回收箱，清洗水分別引入凈洗槽和噴淋水存儲箱，凈洗槽通過溢流管道與初洗水存儲箱連接，初洗水存儲箱通過供水管路與初洗槽連接，噴淋水存儲箱的供水管路與設(shè)置在噴淋槽上方的噴頭連接；脫水液體輸入管路與脫水液體存儲箱連接，脫水液體存儲箱的供液管路與脫水槽連接，脫水槽與脫水液體回收箱之間分別通過輸液管路和溢流管路連接。本裝置便于員工操作，降低了員工的操作難度和強(qiáng)度。
文檔編號B08B3/12GK201644439SQ20102018055
公開日2010年11月24日 申請日期2010年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月30日
發(fā)明者李軍, 袁永生, 郝建軍 申請人:唐山晶源裕豐電子股份有限公司