專利名稱：表面清潔裝置及遠(yuǎn)紫外線設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶顯示技術(shù)，尤其涉及一種表面清潔裝置及遠(yuǎn)紫外線設(shè)備。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡(jiǎn)稱LCD)陣列基板的制造工藝中 所采用一些設(shè)備中的某些表面經(jīng)常會(huì)附著一些雜質(zhì)，這些雜質(zhì)如果落到陣列基板上，會(huì) 引起嚴(yán)重不良。舉例來(lái)說(shuō)，在濕法刻蝕和清洗工程之前，需要采用遠(yuǎn)紫外線(Extreme Ultraviolet，簡(jiǎn)稱EUV)設(shè)備對(duì)玻璃基板進(jìn)行紫外燈照射，生成臭氧，用以去除玻璃基板 上的有機(jī)物。在照射過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生一些白色粉末狀的氧化物附著在EUV設(shè)備的金屬網(wǎng)上， 長(zhǎng)時(shí)間使用會(huì)積累更多的氧化物。當(dāng)采用這種EUV設(shè)備對(duì)玻璃基板進(jìn)行紫外燈照射時(shí)，白 色粉末狀的氧化物會(huì)掉落在玻璃基板上。如果將這種玻璃基板送去進(jìn)行濕法刻蝕，會(huì)造成 工藝不良。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種表面清潔裝置及EUV設(shè)備，避免產(chǎn)生不良，減少工藝不良率。本實(shí)用新型提供一種表面清潔裝置，包括清理裝置和驅(qū)動(dòng)裝置；用于驅(qū)動(dòng)所述清理裝置的所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述清理裝置連接；所述清理裝置用于 清理待清潔表面。上述清理裝置可以包括粘塵輥、粘塵輥軸和兩個(gè)軸承；所述粘塵輥套設(shè)在所述 粘塵輥軸上，所述兩個(gè)軸承分別套設(shè)在所述粘塵輥軸的兩端；所述粘塵輥用于清理所述 待清潔表面。上述驅(qū)動(dòng)裝置可以包括兩個(gè)電磁鐵輪和兩根電磁條；所述兩個(gè)電磁鐵輪分別與 對(duì)應(yīng)的電磁條接觸；所述兩個(gè)電磁鐵輪套設(shè)在所述粘塵輥軸上，且分別位于所述粘塵輥和 所述軸承之間。上述驅(qū)動(dòng)裝置也可以包括伺服馬達(dá)、兩個(gè)滑塊、兩個(gè)皮帶、兩個(gè)主導(dǎo)向齒輪和兩 個(gè)從導(dǎo)向齒輪；所述伺服馬達(dá)與所述兩個(gè)主導(dǎo)向齒輪連接；所述皮帶套在所述主導(dǎo)向齒輪 和從導(dǎo)向齒輪上，所述滑塊與所述皮帶固接，所述滑塊與所述軸承固接。進(jìn)一步的，表面清潔裝置還包括用于對(duì)所述清理裝置進(jìn)行清洗的清洗室。上述清洗室內(nèi)部設(shè)置有至少一排噴嘴。上述粘塵輥為無(wú)塵布輥筒，或者表面能撕掉的粘塵輥筒。本實(shí)用新型還提供了一種包括上述表面清潔裝置的EUV設(shè)備，包括金屬網(wǎng)；所述 清理裝置與所述金屬網(wǎng)接觸。所述EUV設(shè)備還包括粘塵輥取放口，所述粘塵輥取放口與所述EUV設(shè)備殼體的槽 相通。本實(shí)用新型提供的表面清潔裝置及EUV設(shè)備可以對(duì)待清潔表面進(jìn)行清理，去除附 著在待清潔表面上的雜質(zhì)，避免了因雜質(zhì)掉落在玻璃基板上產(chǎn)生的不良，減少了工藝不良率。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的表面清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的EUV設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的EUV設(shè)備中清理裝置及電磁鐵輪的安裝結(jié)構(gòu)分 解示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的EUV設(shè)備中清洗室的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例三提供的EUV設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例三提供的EUV設(shè)備中清理裝置及滑塊的安裝結(jié)構(gòu)剖面 圖。
具體實(shí)施方式
下面通過(guò)附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的表面清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本 實(shí)用新型提供的表面清潔裝置包括清理裝置1和驅(qū)動(dòng)裝置2 ；其中，清理裝置1與驅(qū)動(dòng)裝 置2連接，清理裝置1用于清理待清潔表面，驅(qū)動(dòng)裝置2用于驅(qū)動(dòng)清理裝置，清理裝置1在 驅(qū)動(dòng)裝置2的驅(qū)動(dòng)下清理待清潔表面。本實(shí)用新型提供的表面清潔裝置可以對(duì)待清潔表面進(jìn)行清理，去除附著在待清潔 表面上的雜質(zhì)，避免了因雜質(zhì)掉落在玻璃基板上產(chǎn)生的不良，減少了工藝不良率。下面以表面清潔裝置應(yīng)用在EUV設(shè)備中為例說(shuō)明表面清潔裝置的具體結(jié)構(gòu)。圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的EUV設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型實(shí) 施例二提供的EUV設(shè)備中清理裝置及電磁鐵輪的安裝結(jié)構(gòu)剖面圖。如圖2和圖3所示，本 實(shí)施例中清理裝置包括粘塵輥10、粘塵輥軸11以及兩個(gè)軸承12和13，其中粘塵輥10套設(shè) 在粘塵輥軸11上，兩個(gè)軸承12和13分別套設(shè)在粘塵輥軸11的兩端。兩個(gè)軸承12和13 分別嵌入到EUV設(shè)備殼體14的槽15中，粘塵輥10與金屬網(wǎng)16接觸。圖2僅示出了一側(cè) 的結(jié)構(gòu)，另一側(cè)的結(jié)構(gòu)與之相同。驅(qū)動(dòng)裝置包括兩個(gè)電磁鐵輪17和18，及兩根電磁條(圖2中僅示出了電磁條 19)，兩個(gè)電磁鐵輪17和18分別與對(duì)應(yīng)的電磁條接觸，見(jiàn)圖2，電磁鐵輪17與電磁條19接 觸。見(jiàn)圖3，兩個(gè)電磁鐵輪17和18套設(shè)在粘塵輥軸11上，且分別位于粘塵輥10和軸承12、 13之間。本實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)裝置采用電磁作用驅(qū)動(dòng)清理裝置進(jìn)行清理工作。當(dāng)EUV設(shè)備停 止工作時(shí)，向兩根電磁條中輸入電流且兩根電磁條的電流方向相同。以電磁條19為例，當(dāng) 電磁條19中流經(jīng)電流，電磁條19產(chǎn)生磁力，吸引電磁鐵輪17向一個(gè)方向運(yùn)動(dòng)。兩個(gè)電磁 鐵輪向同一個(gè)方向運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，帶動(dòng)清理裝置向一個(gè)方向運(yùn)動(dòng)。因?yàn)檎硥m輥10與金屬網(wǎng)16 是接觸的，粘塵輥10在金屬網(wǎng)16上滾動(dòng)，使得金屬網(wǎng)16上的白色粉末狀的氧化物被粘連 在粘塵輥10上，從而達(dá)到清理的目的。進(jìn)一步的，兩根電磁條可以與外部的可編程邏輯控制器(Programmable Logic Controller，簡(jiǎn)稱PLC)連接，PLC對(duì)兩根電磁條上經(jīng)過(guò)的電流方向進(jìn)行控制，從而改變電磁條的南極和北極，也改變了電磁條對(duì)電磁鐵輪17所產(chǎn)生的吸引力的方向，這樣使得粘塵 輥10在金屬網(wǎng)16上來(lái)回滾動(dòng)，清理的效果更為良好。見(jiàn)圖2，本實(shí)施例提供的EUV設(shè)備還包括粘塵輥取放口 20，該粘塵輥取放口 20與 EUV設(shè)備殼體14上的槽15是相通的，粘塵輥取放口 20的長(zhǎng)度大于或等于軸承12和13的 直徑，這樣清理裝置可以順著槽15從粘塵輥取放口 20中取出來(lái)，便于對(duì)粘塵輥10進(jìn)行更 換和檢查。進(jìn)一步的，在粘塵輥取放口 20處可以設(shè)置固定擋板，該固定擋板可用螺絲固定， 用于封堵粘塵輥取放口 20，在使用清理裝置的過(guò)程中，防止清理裝置從EUV設(shè)備中掉出。進(jìn)一步的，本實(shí)施例還可以包括一清洗室，清洗室可設(shè)置在EUV設(shè)備的一端，具體 地可設(shè)置在與粘塵輥取放口 20所在端相對(duì)的一端，如圖2中的右端。圖4為本實(shí)用新型實(shí) 施例二提供的EUV設(shè)備中清洗室的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。如圖4所示，清洗室內(nèi)部設(shè)置有至少 一排噴嘴21，這些排噴嘴21與外部的工藝?yán)鋮s水(Process Cooling Water，簡(jiǎn)稱PCW)提 供設(shè)備和清潔干燥空氣(Clean Dry Air，簡(jiǎn)稱CDA)提供設(shè)備連接，其中PCW提供設(shè)備提供 清洗用的水，CDA提供設(shè)備提供吹干用的氣體。在清理完畢后，清理裝置進(jìn)入到清洗室中，清洗室開始工作。首先，PCW提供設(shè)備 向噴嘴21提供清洗用的水，噴嘴21向粘塵輥10上噴灑清洗用水，清洗時(shí)間可以為60s ；然 后，CDA提供設(shè)備向噴嘴21提供吹干用的氣體，噴嘴21將粘塵輥10吹干，時(shí)間可以為60s。 如果EUV設(shè)備在正常工作，清理裝置也可以停放在清洗室內(nèi)，等待下一次清理工作。另外，清洗室設(shè)有一門，由PLC來(lái)控制門的打開和關(guān)閉。本實(shí)施例中，粘塵輥10可以為無(wú)塵布輥筒，這樣只需潤(rùn)濕無(wú)塵布輥筒，就能清理 掉它上面的氧化物，無(wú)需連接CDA提供設(shè)備。粘塵輥10也可以為表面能撕掉的粘塵輥筒， 清理完畢后可將粘塵輥筒的表面直接撕掉，即可再次使用，這樣無(wú)需設(shè)置上述清洗室。本實(shí)用新型提供的EUV設(shè)備采用電磁作用驅(qū)動(dòng)粘塵輥在金屬網(wǎng)上來(lái)回滾動(dòng)，對(duì)金 屬網(wǎng)進(jìn)行清理，去除附著在金屬網(wǎng)上的氧化物，避免了因氧化物掉落在玻璃基板上產(chǎn)生一 種不良，減少了工藝不良率。圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例三提供的EUV設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6為本實(shí)用新型實(shí) 施例三提供的EUV設(shè)備中清理裝置及滑塊的安裝結(jié)構(gòu)剖面圖。如圖5和圖6所示，本實(shí)施 例中清理裝置包括粘塵輥30、粘塵輥軸31以及兩個(gè)軸承22和23，其中粘塵輥30套設(shè)在粘 塵輥軸31上，兩個(gè)軸承22和23分別套設(shè)在粘塵輥軸31的兩端。粘塵輥30與金屬網(wǎng)24 接觸。圖5僅示出了一側(cè)的結(jié)構(gòu)，另一側(cè)的結(jié)構(gòu)與之相同。驅(qū)動(dòng)裝置包括伺服馬達(dá)(未示出)、兩個(gè)滑塊25和26、兩個(gè)皮帶(圖5中僅示出 了皮帶27)、兩個(gè)主導(dǎo)向齒輪(未示出)和兩個(gè)從導(dǎo)向齒輪(未示出)。其中伺服馬達(dá)與兩 個(gè)主導(dǎo)向齒輪連接，皮帶套在主導(dǎo)向齒輪和從導(dǎo)向齒輪上，滑塊與皮帶固接，滑塊與軸承固 接。本實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)裝置采用機(jī)械作用驅(qū)動(dòng)清理裝置進(jìn)行清理工作。當(dāng)EUV設(shè)備停 止工作時(shí)，伺服馬達(dá)帶動(dòng)主導(dǎo)向齒輪向一方向旋轉(zhuǎn)，主導(dǎo)向齒輪帶動(dòng)從導(dǎo)向齒輪旋轉(zhuǎn)，從而 帶動(dòng)皮帶27向一方向運(yùn)動(dòng)。因?yàn)榛瑝K25與皮帶27固接，皮帶27帶動(dòng)滑塊25運(yùn)動(dòng)。因?yàn)?滑塊25與軸承22固接，滑塊25帶動(dòng)清理裝置運(yùn)動(dòng)。因?yàn)檎硥m輥30與金屬網(wǎng)24是接觸的， 粘塵輥30在金屬網(wǎng)24上滾動(dòng)，使得金屬網(wǎng)24上的白色粉末狀的氧化物被粘連在粘塵輥30 上，從而達(dá)到清理的目的。進(jìn)一步的，伺服馬達(dá)也可以帶動(dòng)主導(dǎo)向齒輪向另一方向旋轉(zhuǎn)，使得粘塵輥30在金屬網(wǎng)24上來(lái)回滾動(dòng)，清理的效果更為良好。本實(shí)施例中，滑塊與軸承的連接是可拆卸的，或者滑塊與皮帶的連接是可拆卸的， 則本實(shí)施例提供的EUV設(shè)備還包括粘塵輥取放口 28，其結(jié)構(gòu)和功能可參見(jiàn)實(shí)施例二的相關(guān) 描述。進(jìn)一步的，本實(shí)施例還可以包括清洗室，其結(jié)構(gòu)和功能可參見(jiàn)實(shí)施例二的相關(guān)描 述。本實(shí)施例中，粘塵輥可以為無(wú)塵布輥筒，這樣只需潤(rùn)濕無(wú)塵布輥筒，就能清理掉它 上面的氧化物，無(wú)需連接CDA提供設(shè)備。粘塵輥也可以為表面能撕掉的粘塵輥筒，清理完畢 后可將粘塵輥筒的表面直接撕掉，即可再次使用，這樣無(wú)需設(shè)置上述清洗室。本實(shí)用新型提供的EUV設(shè)備采用機(jī)械作用驅(qū)動(dòng)粘塵輥在金屬網(wǎng)上來(lái)回滾動(dòng)，對(duì)金 屬網(wǎng)進(jìn)行清理，去除附著在金屬網(wǎng)上的氧化物，避免了因氧化物掉落在玻璃基板上產(chǎn)生一 種不良，減少了工藝不良率。最后所應(yīng)說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制，盡 管參照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以 對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和 范圍。
權(quán)利要求一種表面清潔裝置，其特征在于，包括清理裝置和驅(qū)動(dòng)裝置；用于驅(qū)動(dòng)所述清理裝置的所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述清理裝置連接；所述清理裝置用于清理待清潔表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述清理裝置包括粘塵輥、粘 塵輥軸和兩個(gè)軸承；所述粘塵輥套設(shè)在所述粘塵輥軸上，所述兩個(gè)軸承分別套設(shè)在所述粘 塵輥軸的兩端；所述粘塵輥用手清理所述待清潔表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括兩個(gè)電磁鐵 輪和兩根電磁條；所述兩個(gè)電磁鐵輪分別與對(duì)應(yīng)的電磁條接觸；所述兩個(gè)電磁鐵輪套設(shè)在 所述粘塵輥軸上，且分別位于所述粘塵輥和所述軸承之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括伺服馬達(dá)、 兩個(gè)滑塊、兩個(gè)皮帶、兩個(gè)主導(dǎo)向齒輪和兩個(gè)從導(dǎo)向齒輪；所述伺服馬達(dá)與所述兩個(gè)主導(dǎo)向齒輪連接；所述皮帶套在所述主導(dǎo)向齒輪和從導(dǎo)向齒 輪上，所述滑塊與所述皮帶固接，所述滑塊與所述軸承固接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的表面清潔裝置，其特征在于，還包括用于對(duì)所述清理 裝置進(jìn)行清洗的清洗室。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述清洗室內(nèi)部設(shè)置有至少一 排噴嘴。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述粘塵輥為無(wú)塵布輥筒，或者 表面能撕掉的粘塵輥筒。
8.一種包括上述權(quán)利要求1-7任一所述的表面清潔裝置的遠(yuǎn)紫外線設(shè)備，其特征在 于，包括金屬網(wǎng)；所述清理裝置與所述金屬網(wǎng)接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的遠(yuǎn)紫外線設(shè)備，其特征在于，還包括粘塵輥取放口，所述粘 塵輥取放口與所述遠(yuǎn)紫外線設(shè)備殼體的槽相通。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種表面清潔裝置及遠(yuǎn)紫外線設(shè)備，其中表面清潔裝置包括清理裝置和驅(qū)動(dòng)裝置；用于驅(qū)動(dòng)所述清理裝置的所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述清理裝置連接；所述清理裝置用于清理待清潔表面。本實(shí)用新型提供的表面清潔裝置及EUV設(shè)備可以對(duì)待清潔表面進(jìn)行清理，去除附著在待清潔表面上的雜質(zhì)，避免了因雜質(zhì)掉落在玻璃基板上產(chǎn)生的不良，減少了工藝不良率。
文檔編號(hào)B08B7/00GK201644445SQ20102019439
公開日2010年11月24日 申請(qǐng)日期2010年5月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月14日
發(fā)明者孫文昌 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司