專利名稱：清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型有關(guān)于一種清洗設(shè)備，尤指一種可一次性清洗多個物件的清洗設(shè)備。
背景技術(shù)：
工業(yè)發(fā)展持續(xù)進步，然而各式電路基本元件，仍然是利用人力清洗。如目前電路板 的清洗，是在電板路上噴灑清潔劑并使用人力，逐片加以擦拭，以去除殘留于電路板上的松 香。然而在生產(chǎn)在線，往往受限于人力不足的限制，造成其清洗效率低，而遲遲無法突破。有鑒于此，此產(chǎn)業(yè)的制造商無不盡力便利化電路板的清洗，因此，提供一種能夠一 次性清洗多片電路板的清洗設(shè)備，以加速生產(chǎn)作業(yè)流程，是業(yè)界所企求的目標。

實用新型內(nèi)容本實用新型解決的技術(shù)問題在于提供一種清洗設(shè)備，其利用清潔裝置可裝載至少 一清潔組件，以及第一載臺可同時裝載至少一待清洗物件，藉以達到使用機器清洗的目的。 再者，亦可同時裝載多個清潔組件及多個待洗物件，以達到一次性清洗多個物件的目的。為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種清洗設(shè)備，用以清洗至少一物件，該 清洗設(shè)備包括機體、清潔裝置、第一載臺及第二載臺。該機體具有一容置空間，且包括一軌 道，該軌道設(shè)置于該容置空間，而該清潔裝置可套設(shè)于該軌道上，沿該軌道作一位移。且該 清潔裝置包括至少一清潔組件。該第一載臺設(shè)置于該容置空間，該第一載臺包括一基板，且 該基板承載該至少一物件，該第二載臺鄰接于該第一載臺。其中，該清潔裝置通過該軌道位 移至該基板上方，使該至少一清潔組件適以與該至少一物件對位，并作清洗。本實用新型具有以下有益的效果本實用新型的清洗設(shè)備通過裝置于清潔裝置的 至少一清潔組件，對承載于第一載臺上的至少一物件作一清洗動作，以達到利用機器執(zhí)行 清洗動作的目的。再者，于清潔裝置可裝載多個清潔組件，以及第一載臺可同時裝載多個待 清洗物件，藉此，可一次性清洗多個物件，以提高清洗效率。為使能更進一步了解本實用新型的特征及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本實用新型 的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本實用新型加以限制。

圖1為本實用新型清洗設(shè)備的前視圖(一)；圖2為本實用新型清洗設(shè)備的前視圖(二)；圖3為本實用新型清洗設(shè)備的前視圖(三)；圖4為本實用新型清洗設(shè)備的前視圖(四)；圖5為本實用新型清洗設(shè)備的前視圖(五)；圖6為本實用新型清洗設(shè)備的部分俯視圖。
具體實施方式
請參閱圖1至圖4，分別為本實用新型清洗設(shè)備1進行清洗動作時的四個分解動作 的前視圖。本實用新型提供一種清洗設(shè)備1，用以清洗至少一物件4。合并參考圖6所示， 至少一物件4設(shè)置于一基板150上，且至少一物件4可以是至少一電路板。其中，清洗設(shè)備 1包括機體11、清潔裝置13、第一載臺15及第二載臺17。機體11具有一容置空間114，且 包括一軌道110，軌道110設(shè)置于容置空間114，較佳地，軌道110為水平設(shè)置，以使套設(shè)于 軌道110上的清潔裝置13，可沿軌道110水平位移。再者，清潔裝置13包括至少一清潔組 件131，用以清洗至少一物件4。第一載臺15設(shè)置于容置空間114，且包括一基板150，且清 潔裝置13通過軌道110位移至基板150上方，使至少一清潔組件131適以與至少一物件4 對位，以開始作一清洗。然而，于執(zhí)行清洗動作時，清潔裝置13亦可維持適當?shù)耐鶑?fù)水平移 動，以提高清洗范圍及效率。而至少一物件4于接受至少一清潔組件131清洗時，使至少一 物件4通過基板150承載固定于第一載臺15上，免于受至少一清潔組件131對其刷洗動作 而造成移動。再者，清潔組件131更包括一軸件及一彈性組件134，該軸件沿垂直方向設(shè)置，且 彈性組件134套設(shè)于一清潔組件131上，故于執(zhí)行清洗動作時，清潔組件131可通過彈性組 件134的設(shè)置，而沿該軸件產(chǎn)生一緩沖的作用，以盡量避免清潔組件131于執(zhí)行清洗動作 時，因載臺過度的抵壓清潔組件131，而導(dǎo)致清潔組件131毀損。進一步而言，清潔裝置13 更包括至少一傳動帶138，傳動帶138套接于清潔裝置13的第一驅(qū)動裝置132及至少一清 潔組件131上。藉此，第一驅(qū)動裝置132得以驅(qū)動傳動帶138傳動，且進一步利用傳動帶 138帶動清潔組件131轉(zhuǎn)動。因此，當至少一清潔組件131對至少一物件4作清洗時，通過 至少一清潔組件131可同時具備移動及轉(zhuǎn)動的動作，以顯著地提高清洗的效力。其中，第一 驅(qū)動裝置132可以設(shè)置為馬達或氣缸，視清洗環(huán)境的不同而可隨之選擇變換。而第一驅(qū)動 裝置132較佳為馬達，以提供較精確的位移，但不作限制。其中，第一載臺15更包括第一心軸件151及第二驅(qū)動裝置152，第一心軸件151與 機體11連接且沿垂直方向設(shè)置，且第一載臺15得以被第二驅(qū)動裝置152驅(qū)動，且第一載臺 15沿第一心軸件從第一位置(如圖2所示)位移至第二位置(如圖3所示)。其中，當?shù)?一載臺15位移至該第二位置時，承載于其上的至少一物件4可與清潔裝置13接觸，以執(zhí)行 清洗動作。第二驅(qū)動裝置152較佳為一氣缸。故當至少一物件4與至少一清潔組件131之 間距離過大時，可通過調(diào)整第一載臺15與至少一清潔組件131之間距離，而使至少一物件 4沿著第一心軸件151進入至可清洗距離內(nèi)。請再參照圖4，其中第二載臺17鄰設(shè)于第一載臺15旁，且第二載臺17包括托盤 176，容置有清潔液。第二載臺17更包括第二心軸件171及第三驅(qū)動裝置172，使第二心軸 件171與機體11連接且沿垂直方向設(shè)置，若清潔組件131上并未具有足夠的清潔液時，清 潔裝置13可移動至第二載臺17上方，且通過第三驅(qū)動裝置172驅(qū)動第二載臺17上升，并 使第二載臺17沿第二心軸件171從第一位置(如圖1所示)位移至第二位置(如圖4所 示)，使托盤176內(nèi)的清潔液與清潔組件131接觸。其中，第三驅(qū)動裝置152較佳為一氣缸， 但不作一限制。再者，通過清潔組件131上沾有足夠的清潔液，并得以位移至第一載臺15 上方，續(xù)作一清潔動作。進一步而言，第二載臺17更包括清潔液儲存槽177及流管178，清 潔液儲存槽177可設(shè)置于機體11上，且通過流管178輸送清潔液至托盤176，即清潔液儲存槽177、流管178及托盤176彼此流體連通。故當托盤176里的清潔液消耗完時，得以通過 清潔液儲存槽177內(nèi)的清潔液經(jīng)流管178加以補充。請再進一步參照圖5，其中，清潔裝置13更包括量測治具136，使用者可先通過量 測治具136量測清潔組件131的高度，再以相應(yīng)清潔組件131的高度而調(diào)整第一載臺15及 第二載臺171所欲到達的高度，以避免因載臺的過度上升而壓損清潔組件131。更進一步 地，機體11更包括風(fēng)扇119，設(shè)置于機體11的周緣，以協(xié)助機體11內(nèi)部的通風(fēng)及換氣，藉以 避免機體11于長時間處于運轉(zhuǎn)狀態(tài)而導(dǎo)致溫度過高。請參照圖6，本實用新型清洗設(shè)備1的部分俯視圖。清洗設(shè)備1的第一載臺15之 基板150較佳為一次性承載四物件4，且清潔裝置13包括四物件4。執(zhí)行清洗動作前，設(shè)置 于清潔裝置13的四清潔組件131，先位移至基板150上方，再開始執(zhí)行一次性地清洗四物件 4的動作。然而，物件4及清潔組件131的數(shù)量配置，可隨制造者的需求而任意作一變化，在 此我們不對其作一限制，此種等同性的變化均于本實用新型所主張的權(quán)利范圍中。綜上所述，本實用新型所提供的清洗設(shè)備1，通過裝置有至少一清潔組件131于清 潔裝置13上，搭配上承載有至少一物件4的第一載臺15，藉此以達到一次性清洗多個物件 4的目的。如此一來，本實用新型的清洗設(shè)備1不但可省卻人力成本，更是大幅地提升了清 洗效率。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并非因此局限本實用新型的專利保護范 圍，故舉凡運用本實用新型說明書及圖式內(nèi)容所做的等效變化，均包含于本實用新型的權(quán) 利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種清洗設(shè)備，用以清洗至少一物件，其特征在于，該清洗設(shè)備包括 機體，具有一容置空間，該機體包括一軌道，且該軌道設(shè)置于該容置空間； 清潔裝置，沿該軌道位移地套設(shè)于該軌道，該清潔裝置包括至少一清潔組件；第一載臺，設(shè)置于該容置空間，該第一載臺包括一基板，且該基板承載該至少一物件；以及第二載臺，鄰設(shè)于該第一載臺旁；其中，該清潔裝置通過該軌道位移至該基板上方，使該至少一清潔組件與該至少一物 件對位。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該至少一清潔組件更包括一軸件，且該 軸件沿垂直方向設(shè)置。
3.如權(quán)利要求2所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該至少一清潔組件更包括一彈性組件， 且該彈性組件套設(shè)于該至少一清潔組件。
4.如權(quán)利要求3所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該清潔裝置更包括至少一傳動帶，套接 于該至少一清潔組件。
5.如權(quán)利要求4所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該清潔裝置更包括第一驅(qū)動裝置，該至 少一傳動帶套接該第一驅(qū)動裝置。
6.如權(quán)利要求5所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該第一載臺更包括第一心軸件，該第一 心軸件與該機體連接且沿垂直方向設(shè)置。
7.如權(quán)利要求6所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該第一載臺更包括第二驅(qū)動裝置，該第 二驅(qū)動裝置用以驅(qū)動該第一載臺沿該第一心軸件位移。
8.如權(quán)利要求7所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該第二載臺包括托盤，容置有清潔液。
9.如權(quán)利要求8所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該第二載臺更包括第二心軸件，該第二 心軸件與該機體連接且沿垂直方向設(shè)置。
10.如權(quán)利要求9所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該第二載臺更包括第三驅(qū)動裝置，該 第三驅(qū)動裝置用以驅(qū)動該第二載臺沿該第二心軸件位移。
11.如權(quán)利要求10所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該第二載臺更包括清潔液儲存槽及 流管，且該清潔液儲存槽、該流管及該托盤彼此流體連通。
12.如權(quán)利要求11所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該清潔液儲存槽與該機體連接且容 置于該容置空間。
13.如權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該機體更包括風(fēng)扇，設(shè)置于該機體的周緣。
14.如權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該至少一物件為四物件，該至少一清 潔組件為四清潔組件。
15.如權(quán)利要求14所述的清洗設(shè)備，其特征在于，該四物件為四電路板。
專利摘要本實用新型提供一種清洗設(shè)備，用以清洗至少一物件，該清洗設(shè)備包括機體、清潔裝置、第一載臺及第二載臺。該機體具有一容置空間，且包括一軌道，該軌道設(shè)置于該容置空間，而該清潔裝置可套設(shè)于該軌道上，沿該軌道作位移。該清潔裝置包括至少一清潔組件。該第一載臺設(shè)置于該容置空間，該第一載臺包括基板，且該基板承載該至少一物件，該第二載臺鄰設(shè)于該第一載臺。其中，該清潔裝置通過該軌道位移至該基板上方，使該至少一清潔組件與該至少一物件對位，并作清洗。本實用新型可以達到利用機器執(zhí)行清洗動作的目的，再者，于清潔裝置可裝載多個清潔組件，以及第一載臺可同時裝載多個待清洗物件，藉此，可一次性清洗多個物件，以提高清洗效率。
文檔編號B08B1/04GK201889303SQ20102058789
公開日2011年7月6日 申請日期2010年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月20日
發(fā)明者陳忠賢 申請人:金寶電子(中國)有限公司, 金寶電子工業(yè)股份有限公司