專利名稱：一種清洗真空吸盤定位部件的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種集成電路制造過程中的清洗技術(shù)，特別是一種清洗真空吸盤定位部件的裝置。
背景技術(shù)：
如圖1所示，標線真空吸盤定位部件(reticle vacuum pad position)通常位于光罩薄膜面邊緣的4個角(corner)上，用于提供放置真空吸盤的位置。在光罩盒的開合過程中，光罩真空吸盤定位部件會經(jīng)常與光罩盒之間接觸，常時間使用就會形成對真空吸盤定位部件的臟污，進一步污染機臺的真空吸盤，從而對材料的品質(zhì)造成影響。因此，有必要定期對真空吸盤定位部件進行清洗。但是目前的清洗方法一般是將光罩盒的上蓋打開，并直接對光罩盒上方的真空吸盤定位部件進行擦拭。由于采用該方法擦拭時，光罩薄膜(pellicle)面直接向上放在光罩盒上，在擦拭真空吸盤定位部件的過程中有可能會刮傷光罩薄膜，從而對后續(xù)的工序造成影響。

實用新型內(nèi)容針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點和不足，本實用新型的目的是提供一種清洗真空吸盤定位部件的裝置，可以有效地清洗真空吸盤定位部件而不會刮傷光罩薄膜。本實用新型清洗真空吸盤定位部件的裝置，包括上蓋和基板，所述上蓋與基板通過合葉連接，上蓋沿合葉轉(zhuǎn)動，從而使上蓋與基板間開啟和閉合；其中，光罩薄膜和真空吸盤定位部件位于基板上方，并且在上蓋和基板閉合時，上蓋完全覆蓋光罩薄膜，而不覆蓋真空吸盤定位部件。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，上蓋和基板的閉合面均為矩形。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，在上蓋和基板上位于合葉相對面的位置，還包括相互配合的第一卡簧。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，在上蓋和基板上位于合葉兩個相鄰面的位置，還分別包括相互配合的第二卡簧。 作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，在所述第二卡簧上還設置有第一支撐。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，在基板的閉合面的四個頂角區(qū)域還設置有四個第二支撐。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述上蓋的閉合面的尺寸為12cmX15cm。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述四個第二支撐形成的面的尺寸為15cmX15cm。本實用新型清洗真空吸盤定位部件的裝置，在上蓋和基板閉合時，上蓋完全覆蓋光罩薄膜，而不覆蓋真空吸盤定位部件，因此在清洗基板上的真空吸盤定位部件時，可以直接將上蓋閉合，由于上蓋對被覆蓋的光罩薄膜具有保護作用，不會因擦拭真空吸盤定位部件而刮傷光罩薄膜，因此能夠更有效地清洗真空吸盤定位部件。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中真空吸盤定位部件的位置圖；圖2為本申請一實施例的立體圖；圖3為圖2所示實施例的平面圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖，對本實用新型的具體實施方式
作進一步的詳細說明。對于所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，從對本實用新型的詳細說明中，本實用新型的上述和其他目的、 特征和優(yōu)點將顯而易見。圖2所示為本申請清洗真空吸盤定位部件的裝置的一優(yōu)選實施例的立體圖。如圖所示，該裝置包括有上蓋10和基板20，所述上蓋10與基板20通過合葉2連接，上蓋10沿合葉2轉(zhuǎn)動，從而使上蓋10與基板20開合。上蓋10和基板20可以具有各種形狀。作為優(yōu)選，上蓋10和基板20的閉合面(在上蓋10閉合時，上蓋10與基板20相對的面)均為矩形。同時，為了使得上蓋10和基板20之間比較好的閉合，以及使位于基板20上方的光罩較好地被固定，從而使得上蓋10起到保護薄膜的作用，可以在矩形的上蓋10和基板20 上位于合葉2相對面的位置，包括相互配合的第一卡簧1。此外，在矩形的上蓋10和基板20上位于合葉2兩個相鄰面的位置，還分別包括相互配合的第二卡簧102。作為優(yōu)選，在第二卡簧102上還設置有第一支撐3，用于起加固光罩、防止光罩在光罩盒內(nèi)滑動的作用。此外，還可以在基板20的矩形的四個頂角區(qū)域設置有四個第二支撐302，用于進一步起加固光罩、防止光罩在光罩盒內(nèi)滑動的作用。光罩薄膜和真空吸盤定位部件位于基板20上方，并且在上蓋10和基板20閉合時，上蓋10完全覆蓋光罩薄膜，而不覆蓋真空吸盤定位部件。如圖3的平面圖所示，基板20 上的方框表示為光罩薄膜，在上蓋10和基板20閉合后，該光罩薄膜被上蓋10完全覆蓋，而第二支撐302所在的區(qū)域，以及真空吸盤定位部件所在區(qū)域不被上蓋10覆蓋。優(yōu)選上蓋的閉合面的尺寸為12cmX 15cm，四個第二支撐形成的面的尺寸為15cmX15cm。綜上所述，本實用新型清洗真空吸盤定位部件的裝置，在上蓋10和基板20閉合時，上蓋10完全覆蓋光罩薄膜，而不覆蓋真空吸盤定位部件，因此在清洗基板20上的真空吸盤定位部件時，可以直接將上蓋10閉合，由于上蓋10對被覆蓋的光罩薄膜具有保護作用，不會因擦拭真空吸盤定位部件而刮傷光罩薄膜，因此能夠更有效地清洗真空吸盤定位部件。還應當理解，本實用新型雖然已通過以上實施例及其附圖而清楚說明，然而在不背離本實用新型精神及其實質(zhì)的情況下，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員當可根據(jù)本實用新型作出各種相應的變化和修正，但這些相應的變化和修正都應屬于本實用新型的權(quán)利要求的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，包括上蓋和基板，所述上蓋與基板通過合葉連接，上蓋沿合葉轉(zhuǎn)動，從而使上蓋與基板間開啟和閉合；其中，光罩薄膜和真空吸盤定位部件位于基板上方，并且在上蓋和基板閉合時，上蓋完全覆蓋光罩薄膜，而不覆蓋真空吸盤定位部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，上蓋和基板的閉合面均為矩形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，在上蓋和基板上位于合葉相對面的位置，還包括相互配合的第一卡簧。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，在上蓋和基板上位于合葉兩個相鄰面的位置，還分別包括相互配合的第二卡簧。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，在所述第二卡簧上還設置有第一支撐。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，在基板的閉合面的四個頂角區(qū)域還設置有四個第二支撐。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-6任一項所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，所述上蓋的閉合面的尺寸為12cmX15cm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗真空吸盤定位部件的裝置，其特征在于，所述四個第二支撐形成的面的尺寸為15cmX15cm。
專利摘要一種清洗真空吸盤定位部件的裝置，包括上蓋和基板，所述上蓋與基板通過合葉連接，上蓋沿合葉轉(zhuǎn)動，從而使上蓋與基板間開啟和閉合；其中，光罩薄膜和真空吸盤定位部件位于基板上方，并且在上蓋和基板閉合時，上蓋完全覆蓋光罩薄膜，而不覆蓋真空吸盤定位部件。本實用新型由于上蓋對被覆蓋的光罩薄膜具有保護作用，不會因擦拭真空吸盤定位部件而刮傷光罩薄膜，因此能夠更有效地清洗真空吸盤定位部件。
文檔編號B08B13/00GK201950055SQ201020656029
公開日2011年8月31日 申請日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月10日
發(fā)明者何如兵, 凌成偉, 章進東, 馬如貴 申請人:和艦科技(蘇州)有限公司