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      元件清洗機的制作方法

      文檔序號:1414277閱讀:176來源:國知局
      專利名稱:元件清洗機的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明涉及一種可全面性導引元件旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑排出,而使元件迅速干燥,以提升干燥效能及縮短作業(yè)時間的元件清洗機。
      背景技術
      在現(xiàn)今,半導體晶圓、鏡片、玻璃、印刷電路板、面板或醫(yī)療儀器等元件,在制作過程或使用一段時間后,元件的表面均會附著有雜質(zhì)、污垢等,而影響元件的潔凈度及品質(zhì),為避免影響元件的制作合格率及品質(zhì),業(yè)者以清洗機清洗附著于元件表面的雜質(zhì)等,以晶圓為例,必須歷經(jīng)多道制程,導致晶圓的表面會附著雜質(zhì)、微?;蚧衔锏?,因此,晶圓于不 同制程的前后,必須執(zhí)行清洗表面作業(yè),例如晶圓在進入熱爐管(furnace)以進行擴散或氧化制程前、進行薄膜沈積前或蝕刻程序后,均需以晶圓清洗機清洗晶圓,以去除晶圓表面的雜質(zhì)、微?;蚧衔锏?,再將晶圓除濕干燥,使得晶圓的表面具有高潔凈度,以提升晶圓制作品質(zhì)。請參閱圖I,是一種晶圓清洗機,是在機臺11上設有一上方具開口 121的清洗槽12,該清洗槽12的底面一側(cè)設有排放管13,用來排出清洗流體,一裝配于機臺11上的承載裝置14,設有一凸伸于清洗槽12內(nèi)的轉(zhuǎn)軸141,并于轉(zhuǎn)軸141上裝配有可承載待清洗晶圓的旋轉(zhuǎn)臺142,一位于清洗槽12上方的噴管15,用來噴灑清洗流體(如離子水或氣體等),另于清洗槽12的外部設有一連通排放管13的抽風裝置16 ;于執(zhí)行清洗晶圓17作業(yè)時,可將待清洗的晶圓17放置于旋轉(zhuǎn)臺142上,該旋轉(zhuǎn)臺142即真空吸附待清洗的晶圓17定位,接著承載裝置14的轉(zhuǎn)軸141帶動旋轉(zhuǎn)臺142及待清洗的晶圓17旋轉(zhuǎn)作動,而噴管15則將清洗流體噴灑于待清洗的晶圓17上,進而清洗附著于晶圓17表面的雜質(zhì)、微?;蚧衔锏龋⒗眯D(zhuǎn)臺142旋轉(zhuǎn)的離心力將晶圓17表面的清洗流體向外甩出,此時,抽風裝置16可利用排放管13而抽取清洗槽12內(nèi)部的空氣,以使晶圓17旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體可流入于排放管13排出,于清洗完畢后,該噴管15停止噴灑清洗流體而改以噴灑氣體,由于旋轉(zhuǎn)臺142仍帶動晶圓17旋轉(zhuǎn),而可持續(xù)利用旋轉(zhuǎn)臺142旋轉(zhuǎn)的離心力將晶圓17表面干燥,達到清洗及干燥晶圓17的目的;然而,該排放管13位于清洗槽12的一側(cè),導致抽風裝置16僅可于清洗槽12 —側(cè)靠近排放管13的區(qū)域產(chǎn)生較大的吸力,而使晶圓17旋轉(zhuǎn)甩出到靠近排放管13區(qū)域的清洗流體迅速流入于排放管13,但清洗槽12另一側(cè)的區(qū)域則會因吸力變小,以致晶圓17旋轉(zhuǎn)甩出至該區(qū)域的清洗流體會撞擊到清洗槽12的內(nèi)壁面,而此一撞擊,又會噴濺回晶圓17的表面,致使晶圓17無法迅速旋干表面,不僅干燥效率不佳,也增加干燥作業(yè)時間,造成降低生產(chǎn)效能的缺失。因此,如何設計一種可使元件迅速干燥,而提升干燥效能及縮短作業(yè)時間的元件清洗機,即為業(yè)者研發(fā)的標的。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于提供一種元件清洗機,使元件迅速干燥,提升干燥效能。
      為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術方案是一種元件清洗機,其特征在于,包含清洗槽設有排放口;
      承載裝置設有一個由驅(qū)動源驅(qū)動的轉(zhuǎn)軸,該轉(zhuǎn)軸的一端凸伸于清洗槽內(nèi),用來裝配能夠承載待清洗元件的旋轉(zhuǎn)臺;導流盤裝配于清洗槽的內(nèi)部,該導流盤在靠近轉(zhuǎn)軸的中間位置開設有匯流孔,該導流盤并與承載裝置的旋轉(zhuǎn)臺的外側(cè)緣間形成有第一導流通道,而匯流孔與清洗槽的排放口之間則設有第二導流通道;抽風裝置連通于導流盤的第二導流通道,用來在旋轉(zhuǎn)臺的四周產(chǎn)生導引氣流,而導引旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑排出。其中,該清洗槽在頂面設有具有通風口的上蓋。其中,該承載裝置的驅(qū)動源是馬達,該馬達用來驅(qū)動一傳動組,并以傳動組帶動轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn),該傳動組為皮帶輪組。其中,該承載裝置在旋轉(zhuǎn)臺的周側(cè)設有復數(shù)個定位件,該定位件為扣具。其中,該第二導流通道在匯流孔與清洗槽的排放口之間設有通道件。其中,該第二導流通道是在導流盤下方裝配一通道件,該通道件為排水盤。其中,該抽風裝置是風扇,該風扇裝配于承載裝置的轉(zhuǎn)軸上,并位于第二導流通道內(nèi)。其中,該抽風裝置是抽風機,該抽風機裝配在清洗槽的外部,該抽風機并連通第二導流通道。其中,更包含設有一個噴灑吹干裝置,用來噴灑清洗流體。其中,該噴灑吹干裝置設有噴管,用來噴灑清洗流體。與現(xiàn)有技術相比較,采用上述技術方案的本發(fā)明具有的優(yōu)點在于本發(fā)明可有效導引元件于旋轉(zhuǎn)清洗干燥中甩出的清洗流體向下流動排出,使元件迅速清洗干燥,而提升干燥效能及縮短作業(yè)時間,實為一深具實用性及進步性的設計。


      圖I是現(xiàn)有晶圓清洗機的不意圖;圖2是本發(fā)明元件清洗機的示意圖;圖3是本發(fā)明元件清洗機的局部零件分解圖;圖4是本發(fā)明的使用示意圖(一);圖5是本發(fā)明的使用示意圖(二);圖6是本發(fā)明的使用示意圖(三);圖7是本發(fā)明的使用示意圖(四);圖8是本發(fā)明另一實施例的示意圖;圖9是本發(fā)明另一實施例的使用示意圖(一);圖10是本發(fā)明另一實施例的使用示意圖(二);圖11是本發(fā)明另一實施例的使用示意圖(三)。附圖標記說明
      現(xiàn)有技術部分機臺11 ;清洗槽12 ;開口 121 ;排放管13 ;承載裝置14 ;轉(zhuǎn)軸141 ;旋轉(zhuǎn)臺142 ;噴管15 ;抽風裝置16 ;晶圓17 ;本發(fā)明部分機臺20 ;;清洗槽30 ;上蓋31 ;通風口 311 ;排放口 32 ;承載裝置40 ;馬達41 ;皮帶輪組42 ;轉(zhuǎn)軸43 ;旋轉(zhuǎn)臺44 ;扣具441 ;噴灑吹干裝置50 ;噴管51 ;導流盤60 ;匯流孔61 ;第一導流通道62 ;排水盤63 ;;第二導流通道64 ;風扇71 ;套接部711 ;抽風機72 ;晶圓80。
      具體實施例方式為使貴審查委員對本發(fā)明作更進一步的了解,茲舉一較佳實施例并配合圖式,詳述如后請參閱圖2、圖3,該元件清洗機于機臺20上配置有清洗槽30、承載裝置40、噴灑吹干裝置50、導流盤60及抽風裝置,該清洗槽30是一內(nèi)部具容置空間的容器,于本實施例中,該清洗槽30的頂面設有一具有通風口 311的上蓋31,以供外部空氣由通風口 311流入 于清洗槽30內(nèi),又清洗槽30可于側(cè)面或底面開設有用來排放清洗流體的排放口 32,在本實施例中,在清洗槽30的側(cè)面靠近底部開設有排放口 32,用來排出清洗流體,該承載裝置40于機臺20上設有驅(qū)動源,用來驅(qū)動一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動,于本實施例中,該驅(qū)動源是馬達41,馬達41則驅(qū)動一為皮帶輪組42的傳動組,使皮帶輪組42帶動轉(zhuǎn)軸43旋轉(zhuǎn),該轉(zhuǎn)軸43的頂端則凸伸于清洗槽30內(nèi),以供裝配一可承置待清洗元件(如晶圓)的旋轉(zhuǎn)臺44,于本實施例中,該旋轉(zhuǎn)臺44可真空吸附待清洗的元件定位,并于頂面的周側(cè)設有復數(shù)個定位件,用來定位待清洗的元件,于本實施例中,該旋轉(zhuǎn)臺44的周圍設有復數(shù)個為扣具441的定位件,用來扣掣待清洗的元件定位,該噴灑吹干裝置50設有一可噴灑清洗流體的噴管51,用來清洗及吹干元件,一裝配于清洗槽30內(nèi)部的導流盤60,該導流盤60于靠近轉(zhuǎn)軸43的中間位置開設有匯流孔61,并與旋轉(zhuǎn)臺44的外側(cè)緣間形成有第一導流通道62,另于匯流孔61與清洗槽30的排放口 32間設有第二導流通道,該第二導流通道可為于導流盤60本體下方直接成型有通道件,或于導流盤60的下方裝配一為排水盤63的通道件,于本實施例中,于導流盤60下方裝配一排水盤63,該排水盤63固設于清洗槽30內(nèi),而使得排水盤63與匯流孔61間形成第二導流通道64,該抽風裝置可為風扇71,風扇71設有套接部711,用來套置連結(jié)于承載裝置40的轉(zhuǎn)軸43上,并位于第二導流通道64內(nèi),使得風扇71可由轉(zhuǎn)軸43驅(qū)動而與旋轉(zhuǎn)臺44同步旋轉(zhuǎn)。請參閱圖4,該元件清洗機可應用于清洗半導體晶圓、鏡片、玻璃、印刷電路板、面板或醫(yī)療儀器等元件,于本實施例中,該清洗機應用于清洗晶圓80,于執(zhí)行清洗作業(yè)時,可將待清洗的晶圓80放置于旋轉(zhuǎn)臺44上,并以旋轉(zhuǎn)臺44的復數(shù)個扣具441將待清洗的晶圓80扣掣定位;請參閱圖5,該承載裝置40的馬達41利用皮帶輪組42驅(qū)動轉(zhuǎn)軸43轉(zhuǎn)動,該轉(zhuǎn)軸43則帶動旋轉(zhuǎn)臺44、風扇71及待清洗的晶圓80同步旋轉(zhuǎn),風扇71即利用清洗槽30的通風口 311抽取外部空氣,由于導流盤60于底面靠近轉(zhuǎn)軸43的中間位置開設有匯流孔61,而可使自通風口 311流入至旋轉(zhuǎn)臺44四周的空氣沿第一導流通道62匯流至中間位置的匯流孔61,以于旋轉(zhuǎn)臺44的四周產(chǎn)生一全罩式向下吸入流動的導引氣流;請參閱圖6,當旋轉(zhuǎn)臺44帶動待清洗的晶圓80旋轉(zhuǎn)時,該噴灑吹干裝置50的噴管51可對旋轉(zhuǎn)中的待清洗晶圓80噴灑清洗流體(如清洗用的離子水),以清洗附著于晶圓80表面上的雜質(zhì)、微粒或化合物等,并使晶圓80利用旋轉(zhuǎn)的離心力將雜質(zhì)等由清洗流體噴流向外甩出,此時,可利用風扇71于旋轉(zhuǎn)臺44四周形成全罩式向下吸入流動的導引氣流,以全面性導引晶圓80旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑,而由第一導流通道62及匯流孔61流入至第二導流通道64,又部份被甩出的清洗流體穿過導引氣流而撞擊至導流盤60的內(nèi)壁面時,由于導引氣流位于晶圓80與導流盤60之間,此時,也可利用導引氣流直接導引反彈噴濺的清洗流體向下流動,并不會使撞擊導流盤60的清洗流體噴濺回晶圓80上,使得清洗流體依導引氣流流動路徑,而由第一導流通道62及匯流孔61流入至第二導流通道64,第二導流通道64內(nèi)的清洗流體則可由清洗槽30的排放口 32排出;請參閱圖7,于清洗晶圓80完畢后,可控制噴灑吹干裝置50的噴管51停止噴灑清洗流體,而改以噴灑另一種清洗流體(如干燥用的氣體),由于承載裝置40的轉(zhuǎn)軸43仍帶動旋轉(zhuǎn)臺44及風扇71同步轉(zhuǎn)動,旋轉(zhuǎn)臺44可帶動晶圓80旋轉(zhuǎn),并利用離心力將表面的清洗流體向外甩出,此時,相同的可利用風扇71于旋轉(zhuǎn)臺44四周形成全罩式向下吸入流動的導引氣流,導引晶圓80旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑,而由第一導流通道62及匯流孔61流入至第二導流通道64,第二導流通道64內(nèi)的清洗流體則可由清洗槽30的排放口 32排出,進而使晶圓80迅速將清洗流體甩 干,以縮短干燥作業(yè)時間,達到提升干燥效能的實用效益。請參閱圖8,本發(fā)明元件清洗機的另一實施例,于機臺20上配置有清洗槽30、承載裝置40、噴灑吹干裝置50、導流盤60及抽風裝置,該清洗槽30的頂面設有一具有通風口311的上蓋31,以供外部空氣由通風口 311流入,清洗槽30的側(cè)面靠近底部開設有排放口32,用來排出清洗流體,該承載裝置40于機臺20上設有馬達41,馬達41經(jīng)皮帶輪組42帶動轉(zhuǎn)軸43旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)軸43的頂端則凸伸于清洗槽30內(nèi),以供裝配一可承置待清洗元件的旋轉(zhuǎn)臺44,該旋轉(zhuǎn)臺44的周圍設有復數(shù)個扣具441,用來扣掣待清洗的元件定位,該噴灑吹干裝置50設有一可噴灑清洗流體的噴管51,用來清洗元件,一裝配于清洗槽30內(nèi)部的導流盤60,該導流盤60于靠近轉(zhuǎn)軸43的中間位置開設有匯流孔61,并與旋轉(zhuǎn)臺44的外側(cè)緣間形成有第一導流通道62,又該導流盤60的下方裝配有排水盤63,該排水盤63固設于清洗槽30內(nèi),而使得排水盤63與匯流孔61間形成第二導流通道64,另該抽風裝置是抽風機72,抽風機72可裝配于清洗槽30的內(nèi)部或外部,并連通第二導流通道64,于本實施例中,該抽風機72裝配于清洗槽30的排放口 32外部,并連通導流盤60的第二導流通道64。請參閱圖9,于執(zhí)行清洗晶圓作業(yè)時,可將待清洗的晶圓80放置于旋轉(zhuǎn)臺44上,并以旋轉(zhuǎn)臺44的復數(shù)個扣具441將待清洗的晶圓80扣掣定位,該承載裝置40的馬達41即利用皮帶輪組42驅(qū)動轉(zhuǎn)軸43轉(zhuǎn)動,使轉(zhuǎn)軸43帶動旋轉(zhuǎn)臺44及待清洗的晶圓80同步旋轉(zhuǎn),此時,抽風機72可經(jīng)由第一、二通道62、64及匯流孔61而由通風口 311處抽取外部空氣,并使流入至旋轉(zhuǎn)臺44四周的空氣沿第一導流通道62匯流至中間位置的匯流孔61,以于旋轉(zhuǎn)臺44的四周產(chǎn)生一全罩式向下吸入流動的導引氣流;請參閱圖10,當旋轉(zhuǎn)臺44帶動待清洗的晶圓80旋轉(zhuǎn)時,該噴灑吹干裝置50的噴管51可對旋轉(zhuǎn)中的待清洗晶圓80噴灑清洗流體(如清洗用的離子水),以清洗附著于晶圓80表面上的雜質(zhì)、微粒或化合物等,并使晶圓80利用旋轉(zhuǎn)的離心力將雜質(zhì)等由清洗流體噴流向外甩出,此時,可利用抽風機72于旋轉(zhuǎn)臺44四周形成全罩式向下吸入流動的導引氣流,以全面性導引晶圓80旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑,而由第一導流通道62及匯流孔61流入至第二導流通道64,又部份被甩出的清洗流體穿過導引氣流而撞擊至導流盤60的內(nèi)壁面時,由于導引氣流位于晶圓80與導流盤60之間,此時,也可利用導引氣流直接導引反彈噴濺的清洗流體向下流動,并不會使撞擊導流盤60的清洗流體噴濺回晶圓80上,使得清洗流體依導引氣流流動路徑,而由第一導流通道62及匯流孔61流入至第二導流通道64,再由清洗槽30的排放口 32排出;請參閱圖11,于清洗晶圓80完畢后,可控制噴灑吹干裝置50的噴管51停止噴灑清洗流體,而改以噴灑另一種清洗流體(如干燥用的氣體),由于承載裝置40的轉(zhuǎn)軸43仍帶動旋轉(zhuǎn)臺44及晶圓80同步旋轉(zhuǎn),并利用離心力將表面的清洗流體向外甩出,此時,相同的可利用抽風機72于旋轉(zhuǎn)臺44四周形成全罩式向下吸入流動的導引氣流,導引晶圓80旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑,而由第一導流通道62及匯流孔61流入至第二導流通道64,再由清洗槽30的排放口 32排出,進而使晶圓80迅速將清洗流體甩干,以縮短干燥作業(yè)時間,達到提升干燥效能的實用效益。據(jù)此,本發(fā)明可有效導引元件于旋轉(zhuǎn)清洗干燥中甩出的清洗流體向下流動排出,使元件迅速清洗干燥,而提升干燥效能及縮短作業(yè)時間,實為一深具實用性及進步性的設計。以上說明對本發(fā)明而言只是說明性的,而非限制性的,本領域普通技術人員理解,在不脫離權利要求所限定的精神和范圍的情況下,可作出許多修改、變化或等效,但都將落入本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
      權利要求
      1.一種元件清洗機,其特征在于,包含 清洗槽設有排放口 ; 承載裝置設有一個由驅(qū)動源驅(qū)動的轉(zhuǎn)軸,該轉(zhuǎn)軸的一端凸伸于清洗槽內(nèi),用來裝配能夠承載待清洗元件的旋轉(zhuǎn)臺; 導流盤裝配于清洗槽的內(nèi)部,該導流盤在靠近轉(zhuǎn)軸的中間位置開設有匯流孔,該導流盤并與承載裝置的旋轉(zhuǎn)臺的外側(cè)緣間形成有第一導流通道,而匯流孔與清洗槽的排放口之間則設有第二導流通道; 抽風裝置連通于導流盤的第二導流通道,用來在旋轉(zhuǎn)臺的四周產(chǎn)生導引氣流,而導引旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑排出。
      2.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,該清洗槽在頂面設有具有通風口的上蓋。
      3.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,該承載裝置的驅(qū)動源是馬達,該馬達用來驅(qū)動一傳動組,并以傳動組帶動轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn),該傳動組為皮帶輪組。
      4.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,該承載裝置在旋轉(zhuǎn)臺的周側(cè)設有復數(shù)個定位件,該定位件為扣具。
      5.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,該第二導流通道在匯流孔與清洗槽的排放口之間設有通道件。
      6.根據(jù)權利要求5所述的元件清洗機,其特征在于,該第二導流通道是在導流盤下方裝配一通道件,該通道件為排水盤。
      7.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,該抽風裝置是風扇,該風扇裝配于承載裝置的轉(zhuǎn)軸上,并位于第二導流通道內(nèi)。
      8.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,該抽風裝置是抽風機,該抽風機裝配在清洗槽的外部,該抽風機并連通第二導流通道。
      9.根據(jù)權利要求I所述的元件清洗機,其特征在于,更包含設有一個噴灑吹干裝置,用來噴灑清洗流體。
      10.根據(jù)權利要求9所述的元件清洗機,其特征在于,該噴灑吹干裝置設有噴管,用來噴灑清洗流體。
      全文摘要
      本發(fā)明是一種元件清洗機,包含有具排放口的清洗槽、具轉(zhuǎn)軸及旋轉(zhuǎn)臺的承載裝置,以及可噴灑清洗流體的噴灑吹干裝置,其中,于清洗槽的內(nèi)部裝配有導流盤,該導流盤于靠近轉(zhuǎn)軸的中間位置開設有匯流孔,并與旋轉(zhuǎn)臺的外側(cè)緣間形成有第一導流通道,另于匯流孔與清洗槽的排放口間設有第二導流通道,并裝設有連通于該第二導流通道的抽風裝置;如此,于抽風裝置作動時,可利用第一導流通道導引旋轉(zhuǎn)臺四周的空氣向中間位置的匯流孔流動,而于旋轉(zhuǎn)臺的四周產(chǎn)生一全罩式導引氣流,以全面性導引旋轉(zhuǎn)甩出的清洗流體依導引氣流流動路徑而流入于第二導流通道,再由清洗槽的排放口排出,進而使元件迅速干燥,達到提升干燥效能及縮短作業(yè)時間的實用效益。
      文檔編號B08B13/00GK102652947SQ20111004966
      公開日2012年9月5日 申請日期2011年3月2日 優(yōu)先權日2011年3月2日
      發(fā)明者劉東波 申請人:承澔科技股份有限公司
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