專利名稱：拋光后的磁盤清潔處理的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開總體上涉及一種制造用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的磁盤期間使用的清潔處理， 更具體地涉及在拋光電鍍磁盤之后使用的清潔處理。
背景技術(shù)：
在硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中使用的磁盤包括電鍍了諸如鎳的材料的襯底。電鍍磁盤隨后被使用化學(xué)機械拋光來拋光。磁盤的表面暴露于來自拋光漿料、拋光殘留物、制造設(shè)備和制造環(huán)境的污染物。具體地，拋光漿料具有結(jié)合到磁盤的表面的趨勢使得來自漿料的污染物顆粒很難去除。如果污染物顆粒不從電鍍拋光磁盤的表面去除，則包括磁盤的硬盤驅(qū)動器的工作和性能可能受到負面影響。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本公開的一個方面，提供一種清潔用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的電鍍拋光磁盤的方法。該方法包括將多個電鍍拋光磁盤定位在包括第一組多個刷子的第一批處理刷洗器中，其中多個電鍍拋光磁盤的每個定位在所述第一組多個刷子的兩個之間；以及用第一組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。該方法還包括將在第一批處理刷洗器中刷洗的多個電鍍拋光磁盤定位在包括第二組多個刷子的第二批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤的每個定位在第二組多個刷子的兩個之間；以及用所述第二組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。根據(jù)本公開的另一方面，提供一種清潔用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的電鍍拋光磁盤的方法。該方法包括將多個電鍍拋光磁盤浸泡在超聲波浴器中；將浸泡在超聲波浴器中的所述多個電鍍拋光磁盤定位在包括第一多個PVA刷子的第一批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤的每個定位在第一組多個PVA刷子的兩個之間；以及用第一組多個PVA刷子和液體清潔溶液刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。該方法還包括將在第一批處理刷洗器中刷洗的多個電鍍拋光磁盤定位在包括第二組多個PVA刷子的第二批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤的每個定位在第二組多個PVA刷子的兩個之間；以及用第二組多個PVA刷子和液體清潔溶液刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。被第一和第二組多個PVA刷子刷洗的多個電鍍拋光磁盤在沖洗罐中用去離子水沖洗；以及在干燥器中用氮氣干燥所述多個電鍍拋光磁盤。應(yīng)理解，通過以下詳細描述，主題技術(shù)的其它配置將對本領(lǐng)域技術(shù)人員變得明顯， 其中主題技術(shù)的各個配置通過圖示說明的方式被示出和描述。應(yīng)理解，主題技術(shù)能夠有其他不同配置并且能夠在各種其他方面修改主題技術(shù)的若干細節(jié)，而都不背離主題技術(shù)的范圍。因此，附圖和詳細描述應(yīng)認為本質(zhì)上是例示性而非限制的。


圖1是示出根據(jù)主題技術(shù)的一個方面的批處理刷洗器的部件的圖2是示出根據(jù)主題技術(shù)的一個方面的批處理刷洗器內(nèi)刷子和磁盤的布置的圖；圖3是示出根據(jù)主題技術(shù)的一個方面的模塊清潔系統(tǒng)的部件的框圖；圖4是示出根據(jù)主題技術(shù)的一個方面的清潔電鍍磁盤的處理的流程圖。
具體實施例方式以下展開的細節(jié)描述意在描述主題技術(shù)的各個配置而不意在呈現(xiàn)其中可以實施主題技術(shù)的唯一配置。所附的附圖在此并入并且組成詳細描述的一部分。詳細描述包括具體細節(jié)，目的為了提供對主題技術(shù)的徹底理解。然而，對本領(lǐng)域技術(shù)人員明顯地可以無需這些具體細節(jié)來實施主題技術(shù)。在一些示例中，已知結(jié)構(gòu)和部件已經(jīng)從附圖中簡化或者省略以避免混淆主題技術(shù)的概念。主題技術(shù)提供一種用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的磁盤的拋光后清潔處理。用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的磁盤使用濺射處理用諸如鎳的材料電鍍。一旦磁盤已經(jīng)電鍍，磁盤被拋光以提供平坦均勻表面?？梢允褂没瘜W(xué)機械拋光來拋光電鍍磁盤。然而，化學(xué)機械拋光可能將多種污染物引入磁盤。例如，拋光漿料、拋光殘留物，并且暴露于制造環(huán)境和機械都在電鍍磁盤的表面潛在地留下嵌入的污染物顆粒。特別是拋光漿料可能與磁盤表面結(jié)合，即使不是不可能也導(dǎo)致難以使用現(xiàn)有的拋光后刷洗系統(tǒng)和處理去除拋光漿料。主題技術(shù)使用模塊清潔系統(tǒng)，其包括在磁盤被拋光之后清潔電鍍磁盤的雙批處理刷洗處理。根據(jù)主題技術(shù)的一個方面，一個或者更多個批處理刷洗器集成到模塊清潔系統(tǒng)以進行雙批處理刷洗處理。圖1是示出根據(jù)主題技術(shù)的一個方面的批處理刷洗器的部件的圖。如圖1所示，批處理刷洗器10包括刷子12、滾梳系統(tǒng)14、清潔溶液噴灑器16和去離子水噴灑器18、20、和22。滾梳系統(tǒng)14配置為以這樣一種布置支撐多個電鍍磁盤24，即保持它們彼此均勻間隔開并且與延伸通過每個電鍍磁盤M的中央開口且垂直于電鍍磁盤M的表面的公共軸對齊。除了保持電鍍磁盤M彼此分離，滾梳系統(tǒng)14允許電鍍磁盤M繞著公共軸旋轉(zhuǎn)。批處理刷洗器10和滾梳系統(tǒng)14可以配置為在單個批處理中支持25到50個電鍍磁盤M。然而，主題技術(shù)不限制于該范圍，并且批處理刷洗器10可以配置為支持大于50或者小于25 個磁盤的單個批處理。刷子12配置為定位在電鍍磁盤M之間并且與電鍍磁盤M的表面接觸。例如，每個刷子12可以是雙面的并且定位在兩個相鄰的電鍍磁盤M之間。圖2中示出該布置。如圖2所示，一對電鍍磁盤M和3個刷子12被定位為使得每個電鍍磁盤M定位在兩個相鄰的刷子12的清潔表面之間并與其接觸。刷子12配置為在圖2的箭頭所示的方向上被驅(qū)動和旋轉(zhuǎn)以刷洗電鍍磁盤對的表面。刷子12的旋轉(zhuǎn)造成電鍍磁盤M在滾梳系統(tǒng)14上旋轉(zhuǎn)， 這允許在任意給定時刻即使每個電鍍磁盤M的表面僅一部分與刷子12接觸，每個電鍍磁盤M的整個表面也被刷子12刷洗。刷子12的數(shù)量將取決于批處理刷洗器10配置在單個批處理中刷洗的電鍍磁盤M的數(shù)量而改變。每個刷子12可以是具有安裝在核心上并且被其支撐的相反刷子表面的PVA刷子。 核心提高刷子結(jié)構(gòu)的剛性由此允許刷子表面向電鍍磁盤的表面施加更穩(wěn)定的壓力。主題技術(shù)不限于該刷子結(jié)構(gòu)，并且可以使用其它刷子結(jié)構(gòu)實現(xiàn)。液體清潔溶液在刷洗循環(huán)的不同時刻被噴灑器16噴灑到刷子12上。盡管圖1中未示出，噴灑器16耦合到液體清潔溶液傳遞系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以包括包含液體清潔溶液的容器、連接容器到噴灑器16的傳遞管路、和經(jīng)過傳遞管路傳遞液體清潔溶液到噴灑器16的泵。液體清潔溶液包括稀釋到期望濃度的去污劑。濃度可以在3%到5%之間。主題技術(shù)不限于任何具體去污劑或者濃度。噴灑器18、20和22配置為在刷洗循環(huán)中在批處理刷洗器10的不同部分上噴灑去離子水。噴灑器18配置為在刷子12上噴灑去離子水以保持刷子12濕潤并且?guī)椭谒⑾囱h(huán)期間和刷洗循環(huán)之間從刷子12沖洗從電鍍磁盤M的表面去除的污染物。噴灑器20 配置為在電鍍磁盤M上噴灑去離子水以在電鍍磁盤M安裝在批處理刷洗器10中時保持它們濕潤。噴灑器22配置為在批處理刷洗器10內(nèi)部的下部噴灑去離子水以幫助消散在刷洗循環(huán)期間隨著液體清潔溶液和去離子水流過刷子12和電鍍磁盤M時可能形成并且堆積的任何氣泡。盡管圖1中未示出，噴灑器18、20、和22被耦合到用于向各自的噴灑器提供去離子水的一個或者更多個泵和傳遞管路。圖3是示出根據(jù)主題技術(shù)的一個方面的模塊清潔系統(tǒng)100的部件的框圖。模塊清潔系統(tǒng)100配置為用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中使用的電鍍磁盤的拋光后清潔。模塊清潔系統(tǒng) 100包括超聲波罐20、第一批處理刷洗器10a、第二批處理刷洗器10b、快速傾倒沖洗罐30、 溢流罐40和干燥器50。一批電鍍磁盤M可以定位在這些部件的每個之中并且在拋光后清潔操作期間由一個或者更多個操作員手動地或者使用自動機械抓取和傳輸系統(tǒng)在部件之間移動。自動抓取和傳輸系統(tǒng)在制造領(lǐng)域是已知的，因此在此不詳細描述。圖4是示出利用模塊清潔系統(tǒng)100的清潔處理的流程圖。圖4代表的清潔處理開始于當(dāng)一批電鍍磁盤M已經(jīng)完成拋光處理時。在步驟S401，一批電鍍磁盤M被裝載到超聲波罐20中并且浸泡一段時間。電鍍磁盤M浸沒在超聲波罐20中的液體中。該液體可以是去離子水，其可以包括化學(xué)制品或者去污劑以幫助清潔電鍍磁盤24。超聲波罐20中的液體使用超聲波系統(tǒng)被攪動以從電鍍磁盤M的表面驅(qū)除污染物顆粒。超聲波罐20中的液體被循環(huán)和過濾以在將液體循環(huán)回超聲波罐20之前去除所驅(qū)除的污染物顆粒。電鍍磁盤 M可以在超聲波罐20中浸泡1到2分鐘。然而，主題技術(shù)不限于浸泡電鍍磁盤M的時間范圍。另外，主題技術(shù)不限于超聲波系統(tǒng)向液體施加的任何特定頻率或功率，也不限于任何具體液體或者循環(huán)液體的流速。在已經(jīng)將電鍍磁盤M浸泡在超聲波浴器20中之后，在步驟S402，該批電鍍磁盤 24被從超聲波浴器20去除并且定位在第一批處理刷洗器IOa中。步驟S402還包括使用第一批處理刷洗器IOa按照上述方式刷洗該批電鍍磁盤24。第一批處理刷洗器IOa中的刷洗循環(huán)可以是在30到60秒之間。 在步驟S403，該批電鍍磁盤M被從第一批處理刷洗器IOa去除并且定位在第二批處理刷洗器IOb中。步驟S403還包括使用第二批處理刷洗器IOb按照上述方式刷洗該批電鍍磁盤對。第二批處理刷洗器IOb中的刷洗循環(huán)可以是在30到60秒之間。
主題技術(shù)利用使用第一批處理刷洗器IOa和第二批處理刷洗器IOb的雙批處理刷洗處理以在完成拋光之后更有效率和效果地清潔電鍍磁盤對。使用批處理刷洗器允許電鍍磁盤分批次同時清潔而不是使用單個磁盤刷洗系統(tǒng)。這就允許增加刷洗循環(huán)次數(shù)同時相比于單個磁盤刷洗系統(tǒng)保持或者提高系統(tǒng)的整體處理量。此外，批處理刷洗器中刷子和電鍍磁盤的布置允許刷子安全地向磁盤的表面施加更大壓力，當(dāng)與刷洗循環(huán)的可能的增加相結(jié)合時，可以增加從磁盤表面去除的污染物的量。第一批處理刷洗循環(huán)清潔易于從電鍍磁盤的表面去除的污染物顆粒。第二批處理刷洗循環(huán)在第一批處理刷洗循環(huán)之后繼續(xù)從電鍍磁盤的表面去除污染物顆粒。批處理刷洗器中的刷子可以捕捉并且承載有從磁盤表面去除的污染物。刷子中承載的污染物可能隨著刷洗循環(huán)繼續(xù)重新附加到磁盤表面。通過利用雙批處理刷洗處理，第一組刷子可以去除大多數(shù)污染物，并且不承載初始去除的污染物的第二組刷子可以去除磁盤表面中嵌入的更頑固的污染物顆粒并且降低先前去除的污染物顆粒重新附加到磁盤表面的風(fēng)險。主題技術(shù)不限于包括單獨的第一批處理刷洗器IOa和第二批處理刷洗器IOb的模塊清潔系統(tǒng)100的配置。還可以使用包含兩組刷子的單個批處理刷洗器以提供主題技術(shù)的雙批處理刷洗處理。在步驟S404，該批電鍍磁盤對被從第二批處理刷洗器IOb去除并且設(shè)置在快速傾倒沖洗罐30中。快速傾倒沖洗罐30使用高壓填充機構(gòu)灌滿去離子水以浸沒該批電鍍磁盤 M。去離子水可以允許過度填充并且從快速傾倒沖洗罐30溢出。在快速傾倒沖洗罐30快速排干去離子水之前，該批電鍍磁盤M可以在停留時段內(nèi)保持浸沒在去離子水中?？焖賰A倒沖洗罐30的快速填充和排干動作提供另一機構(gòu)來從電鍍磁盤M的表面沖洗污染物顆粒和化學(xué)殘留物。在步驟S405，該批電鍍磁盤M被從快速傾倒沖洗罐30去除并且設(shè)置在溢流罐40 中。該批電鍍磁盤M浸沒在溢流罐40中的去離子水中。去離子水連續(xù)地泵入溢流灌40， 這造成去離子水填充溢流罐40并且溢流出溢流罐40。去離子水的該溢流動作從電鍍磁盤 24的表面沖洗在快速傾倒沖洗罐30進行的沖洗可能沒有去除的化學(xué)殘留物。在步驟S406中，該批電鍍磁盤M被從溢流罐去除并且設(shè)置在干燥器50中以被干燥。在干燥器50中，該批電鍍磁盤對被設(shè)置在機械梳子系統(tǒng)上并且浸沒在去離子水中。隨著干燥器用氮氣噴灑該批電鍍磁盤24以干燥電鍍磁盤M的表面，機械梳子系統(tǒng)逐漸地從去離子水抬升該批電鍍磁盤M。去離子水可以保持在25攝氏度到30攝氏度之間的溫度。 氮氣可以加熱到70攝氏度到100攝氏度之間(例如90攝氏度)。主題技術(shù)不限于去離子水或者氮氣的這些溫度范圍。在該批電鍍磁盤M被干燥器M干燥之后處理結(jié)束。如上所述，雙批處理刷洗處理提供提高的清潔效果和電鍍磁盤的拋光后清潔處理效率。在此制造處理的階段改進電鍍磁盤的清潔有助于提高包括作為硬盤驅(qū)動器介質(zhì)的電鍍磁盤的硬盤驅(qū)動器的可操作性、性能和耐用性。通過利用批處理清潔系統(tǒng)而不是單個磁盤清潔系統(tǒng)，雙批處理刷洗處理還提高拋光后清潔的處理量。提供先前描述以使得任何本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵤┐颂幟枋龅母鱾€方面。對這些方面的各種修改將對本領(lǐng)域人員明顯，并且此處限定的通用原理可以應(yīng)用于其它方面。由此，權(quán)利要求不意在限制于此處所示的各個方面，但全部范圍與語言權(quán)利要求一致，其中除非明確聲明，涉及單一元件不意在表示“一個并且僅僅一個”，而是“一個或者更多個”。除非另外明確地說明，術(shù)語“一些”是指一個或者更多個。男性代詞(例如他的)包括女性和中性(例如她的和它的)，并且相反亦然。如果存在標(biāo)題和小標(biāo)題，僅僅為了方便而使用并不限制本發(fā)明。諸如“方面”的術(shù)語不意味著這個方面對主題技術(shù)是必需的或者這些方面應(yīng)用于主題技術(shù)的全部配置。涉及一個方面的公開可以應(yīng)用于全部配置，或者一個或者更多個配
7置。諸如方面的術(shù)語可以是指一個或者更多個方面，反之亦然。諸如“配置”的術(shù)語不意味著這個配置對主題技術(shù)是必需的或者這個配置應(yīng)用于主題技術(shù)的全部配置。涉及一個配置的公開可以應(yīng)用于全部配置，或者一個或者更多個配置。諸如配置的術(shù)語可以是指一個或者更多個配置，反之亦然。術(shù)語“示例的”在此是指“用作示例或者圖例”。在此描述為“示例的”任何方面或者設(shè)計不必然解釋為相比于其它方面或者示例是優(yōu)選或者有利的。本領(lǐng)域技術(shù)人員已知或者后來知曉的與本公開描述的各個方面的元件等同的全部結(jié)構(gòu)和功能通過引用簡略地在此并入并且意在被權(quán)利要求包括。另外，此處公開的內(nèi)容均不意在捐獻給公眾，無論這些公開是否在權(quán)利要求明確陳述。權(quán)利要求元素均不在35U.
S. C. §112第六段的條款中理解，除非元素使用“用于......的裝置”的短語表述，或者在
方法權(quán)利要求的情況下使用“用于......的步驟”的短語表述。此外，對于說明書和權(quán)利
要求書中使用的術(shù)語“包括”、“具有”等，這種術(shù)語意在以這樣的方式被包括，即類似于當(dāng)術(shù)語“包含”用作在權(quán)利要求中的過渡詞時被解釋的那樣。
權(quán)利要求
1.一種清潔用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的電鍍拋光磁盤的方法，所述方法包括將多個電鍍拋光磁盤定位在包括第一組多個刷子的第一批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤中的每個定位在所述第一組多個刷子中的兩個之間；用所述第一組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤；將在所述第一批處理刷洗器中刷洗的所述多個電鍍拋光磁盤定位在包括第二組多個刷子的第二批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤中的每個定位在所述第二組多個刷子的兩個之間；以及用所述第二組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中用所述第一組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤還包括向所述第一組多個刷子施加液體清潔溶液，以及其中用所述第二組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤還包括向所述第二組多個刷子施加所述液體清潔溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中所述液體清潔溶液具有介于 3%到5%之間的去污劑濃度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中用所述第一組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤還包括沿著所述多個電鍍拋光磁盤的各自表面旋轉(zhuǎn)所述第一組多個刷子，以及其中用所述第二二組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤還包括沿著所述多個電鍍拋光磁盤的各自表面旋轉(zhuǎn)所述第二組多個刷子。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中用所述第一組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤還包括用去離子水沖洗所述第一組多個刷子和所述多個電鍍拋光磁盤，以及其中用所述第二組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤還包括用去離子水沖洗所述第二組多個刷子和所述多個電鍍拋光磁盤。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中用所述第一組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤的步驟持續(xù)30到60秒。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中用所述第二組多個刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤的步驟持續(xù)30到60秒。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中所述第一組多個刷子包括被各自的核心支持的PVA刷子。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中所述第二組多個刷子包括被各自的核心支持的PVA刷子。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，還包括將所述多個電鍍拋光磁盤浸泡在超聲波浴器中。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中所述多個電鍍拋光磁盤浸泡在所述超聲波浴器中持續(xù)1到2分鐘。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，還包括在沖洗罐中用去離子水沖洗所述多個電鍍拋光磁盤。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，還包括將所述多個電鍍拋光磁盤浸沒在去離子水中； 將所述多個電鍍拋光磁盤從所述去離子水中拉出；以及隨著所述多個電鍍拋光磁盤被從所述去離子水中拉出干燥所述多個電鍍拋光磁盤。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中干燥所述多個電鍍拋光磁盤包括用氮氣噴灑所述多個電鍍拋光磁盤。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中所述氮氣被加熱到70攝氏度到100攝氏度之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的清潔電鍍拋光磁盤的方法，其中所述氮氣被加熱到90度。
17.一種清潔用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的電鍍拋光磁盤的方法，所述方法包括 將多個電鍍拋光磁盤浸泡在超聲波浴器中；將浸泡在所述超聲波浴器中的所述多個電鍍拋光磁盤定位在包括第一組多個PVA刷子的第一批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤中的每個定位在所述第一組多個 PVA刷子中的兩個之間；用所述第一組多個PVA刷子和液體清潔溶液刷洗所述多個電鍍拋光磁盤； 將在所述第一批處理刷洗器中刷洗的所述多個電鍍拋光磁盤定位在包括第二組多個 PVA刷子的第二批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤中的每個定位在所述第二組多個PVA刷子的兩個之間；用所述第二組多個PVA刷子和所述液體清潔溶液刷洗所述多個電鍍拋光磁盤； 在沖洗罐中用去離子水沖洗被所述第一組多個PVA刷子和所述第二 PVA刷子刷洗的所述多個電鍍拋光磁盤；以及在干燥器中用氮氣干燥所述多個電鍍拋光磁盤。
全文摘要
本發(fā)明提供一種清潔用于硬盤驅(qū)動器介質(zhì)中的電鍍拋光磁盤的方法。該方法包括將多個電鍍拋光磁盤定位在包括多個第一刷子的第一批處理刷洗器中，其中多個電鍍拋光磁盤的每個定位在第一刷子的兩個之間；以及用第一刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。該方法還包括將在第一批處理刷洗器中刷洗的多個電鍍拋光磁盤定位在包括多個第二刷子的第二批處理刷洗器中，其中所述多個電鍍拋光磁盤的每個定位在第二刷子的兩個之間；以及用第二刷子刷洗所述多個電鍍拋光磁盤。
文檔編號B08B7/04GK102310065SQ20111018764
公開日2012年1月11日 申請日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月29日
發(fā)明者N·納伊姆, Y·Y·博 申請人:西部數(shù)據(jù)傳媒公司