專利名稱：基板清洗系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及薄膜晶體管液晶顯示器制造領(lǐng)域，尤其涉及ー種基板清洗系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)制造過程中，基板經(jīng)過光刻、濕法刻蝕、剝離等エ藝之后，需要進(jìn)行清洗。一般地，基板從藥液區(qū)間出來后，直接進(jìn)入水洗區(qū)間進(jìn)行清洗，由于基板的藥液攜帶量大，會有較多的藥液進(jìn)入水洗區(qū)間，直接從水洗區(qū)間排入廢水系統(tǒng)，從而造成環(huán)境污染，并且水洗區(qū)間的用水量大，水在使用后直接排入廢水系統(tǒng)，造成了水資源的浪費。
如圖I所示，為現(xiàn)有技術(shù)中的基板清洗系統(tǒng)示意圖，基板11進(jìn)入藥液區(qū)間13，通過傳動裝置12傳送至第一水洗區(qū)間14，基板11上會攜帯大量藥液，進(jìn)入第一水洗區(qū)間14清洗，而第一水洗區(qū)間14清洗后的水直接排出，造成了水資源的浪費。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供ー種基板清洗系統(tǒng)，能夠?qū)λY源進(jìn)行循環(huán)利用，減少了廢水的排放，節(jié)省了水資源。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案提供ー種基板清洗系統(tǒng)，包括藥液區(qū)間、藥液供給區(qū)間以及至少兩個水洗區(qū)間，與所述藥液區(qū)間相鄰的水洗區(qū)間為第一水洗區(qū)間，與第一水洗區(qū)間相鄰的水洗區(qū)間為第二水洗區(qū)間，藥液區(qū)間與各個水洗區(qū)間都設(shè)置有噴灑裝置以及水平方向的傳動裝置，其中所述藥液供給區(qū)間將藥液輸入所述藥液區(qū)間的噴灑裝置，以對傳動裝置上運送的基板進(jìn)行藥液噴灑，所述藥液供給區(qū)間還對經(jīng)所述藥液區(qū)間的噴灑裝置噴灑的藥液進(jìn)行回收，其特征在于，還包括第一水供給單元、第二水供給單元，其中，所述第一水供給單元、第二水供給單元都與所述第一水洗區(qū)間連接，用于輪流為所述第一水洗區(qū)間的噴灑裝置供水，所述第一水洗區(qū)間還通過回流管路連接至所述第一水供給單元、第二水供給單元，以將噴灑裝置噴出的水和基板上沖下的藥液回收入所述第一水供給單元、第二水供給單元；所述第一水供給單元、第二水供給單元經(jīng)排水管道進(jìn)行廢水排放；所述第一水供給單元、第二水供給單元將通過所述回流管路得到的水及從所述第ニ水洗區(qū)間得到的水重新輸入所述第一水洗區(qū)間，以對基板進(jìn)行噴酒。本發(fā)明實施例提供的基板清洗系統(tǒng)，通過設(shè)置第一水供給單元、第二水供給單元，將從第一水洗區(qū)間及第ニ水洗區(qū)間回收的水進(jìn)行循環(huán)利用并在達(dá)到一定的排放標(biāo)準(zhǔn)后再排放，減少了廢水的排放，大大節(jié)約了水資源。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為現(xiàn)有技術(shù)中的基板清洗系統(tǒng)示意圖；圖2為本發(fā)明實施例I提供的基板清洗系統(tǒng)示意圖；圖3為本發(fā)明實施例2提供的基板清洗系統(tǒng)示意圖ー；圖4為本發(fā)明實施例2提供的基板清洗系統(tǒng)示意圖ニ ；
圖5為本發(fā)明實施例3提供的基板清洗系統(tǒng)示意圖；圖6為本發(fā)明實施例3提供的第一水供給單元結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為本發(fā)明實施例3提供的水回收單元結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。實施例I本發(fā)明實施例提供ー種基板清洗系統(tǒng)，如圖2所示，包括藥液區(qū)間13、向藥液區(qū)間13提供所需藥液的藥液供給區(qū)間201以及至少兩個水洗區(qū)間，與藥液區(qū)間13相鄰的水洗區(qū)間為第一水洗區(qū)間14，與第一水洗區(qū)間14相鄰的水洗區(qū)間為第二水洗區(qū)間202，藥液區(qū)間13與各個水洗區(qū)間都設(shè)置有噴灑裝置203以及水平方向的傳動裝置12，噴灑裝置203用于進(jìn)行藥液及水的噴灑，傳動裝置12用于基板11的傳送，設(shè)置在藥液區(qū)間13中的空氣刀16用于吹去基板11上的藥液，設(shè)置在第一水洗區(qū)間14中水刀17用于沖洗基板11，其中藥液供給區(qū)間201通過エ廠藥液供給管道204獲取藥液、通過エ廠循環(huán)水供給管道205獲取水，藥液與水優(yōu)先進(jìn)入箱體206，當(dāng)箱體206裝滿后再進(jìn)入箱體207，這里，箱體206及箱體207輪流向藥液區(qū)間13供給用水稀釋后的藥液，該藥液通過藥液供給管道209用動カ泵208輸入藥液區(qū)間13的噴灑裝置203，以對傳動裝置12上運送的基板11進(jìn)行藥液噴灑，該藥液供給區(qū)間201還通過藥液回流管道210對經(jīng)藥液區(qū)間13噴灑的藥液進(jìn)行回收，同樣，回收的藥液優(yōu)先進(jìn)入箱體206，當(dāng)箱體206裝滿后再進(jìn)入箱體207，使用完的廢藥液通過排藥管道211排出。這里，對箱體206及箱體207如何輪流為藥液區(qū)間13進(jìn)行藥液供給進(jìn)行說明。所用藥液通過エ廠藥液供給管道204進(jìn)入箱體206，箱體206裝滿藥液后開始對藥液區(qū)間13進(jìn)行藥液供給，即箱體206開始工作，藥液便通過エ廠藥液供給管道204進(jìn)入箱體207進(jìn)行藥液補給，當(dāng)箱體206達(dá)到工作時間之后，箱體206進(jìn)行廢藥液排放，此時箱體207開始エ作對藥液區(qū)間13進(jìn)行藥液供給，箱體206排放完廢藥液之后，繼續(xù)進(jìn)行藥液補給，以準(zhǔn)備當(dāng)箱體207達(dá)到工作時間之后進(jìn)行對藥液區(qū)間13的供給，從而輪流工作，實現(xiàn)了對藥液區(qū)間13的連續(xù)供給。另外，當(dāng)藥液供給區(qū)間201需要進(jìn)行設(shè)備清洗等操作時，水通過エ廠循環(huán)水供給管道205進(jìn)入箱體206及箱體207，清洗后的水通過排水管道212排出。該基板清洗系統(tǒng)還包 括第一水供給單元213、第二水供給單元214，其中，第一水供給單元213、第二水供給單元214都與所述第一水洗區(qū)間14連接，用于輪流為第一水洗區(qū)間14的噴灑裝置203供水，第一水洗區(qū)間14還通過回流管路216連接至第一水供給單元213、第二水供給單元214，以將噴灑裝置203噴出的水和基板11上沖下的藥液回收入第一水供給單元213、第二水供給單元214。需要說明的是，從第一水洗區(qū)間14回收到的水和藥液優(yōu)先流入第一水供給單元213，當(dāng)?shù)谝凰┙o單元213裝滿后再流入第二水供給單元214，并且第一水供給單元213、第二水供給單元214通過排水管道212將廢水排出；可替換的，從第一水洗區(qū)間14回收的水和藥液也可以優(yōu)先流入第二水供給單元214，并在第二水供給單元214裝滿后再進(jìn)入第一水供給單元213。這里對第一水供給單元213及第ニ水供給單元214如何輪流為第一水洗區(qū)間14進(jìn)行水供給進(jìn)行說明。所需用水通過回收管路218進(jìn)入第一水供給單元213，第一水供給單元213裝滿水后開始對第一水洗區(qū)間14進(jìn)行水供給。在第一水供給單元213開始工作后，水則通過回收管路218進(jìn)入第二水供給單元214進(jìn)行水補給。當(dāng)?shù)谝凰┙o單元213達(dá)到工作時間之后，第一水供給單元213進(jìn)行廢水排放，同時第二水供給單元214則開始工作對第一水洗區(qū)間14進(jìn)行水供給。第一水供給單元213排放完廢水后，繼續(xù)進(jìn)行水補給，以準(zhǔn)備當(dāng)?shù)诙┙o單元214達(dá)到工作時間之后，繼續(xù)進(jìn)行對第一水洗區(qū)間14的供給。通過第一水供給單元213和第二水供給單元214輪流工作，實現(xiàn)了對第一水洗區(qū)間14的連續(xù)供給。由此可見，第一水供給單元213、第二水供給單元214將通過回流管路216得到的水及通過回收管路218得到的水重新輸入第一水洗區(qū)間14，以對基板11進(jìn)行噴灑，實現(xiàn)了水的循環(huán)利用。本發(fā)明實施例提供的基板清洗系統(tǒng)，通過設(shè)置第一水供給單元、第二水供給單元，將從第一水洗區(qū)間及第ニ水洗區(qū)間回收的水進(jìn)行循環(huán)利用并在達(dá)到一定的排放標(biāo)準(zhǔn)后再排放，減少了廢水的排放，大大節(jié)約了水資源。實施例2進(jìn)ー步地，本發(fā)明實施例提供ー種基板清洗系統(tǒng)，如圖3所示，還包括水回收單元215，該水回收單元215設(shè)置在第二水洗區(qū)間202的底部且與第二水洗區(qū)間202連通,收集第二水洗區(qū)間202的噴灑裝置203噴出的用于清洗基板11后的水,水回收單元215與第一水供給單元213、第二水供給單元214分別連接，且設(shè)置高度高于第一水供給單元213及第ニ水供給單元214，用于將從第二水洗區(qū)間202回收到的水，提供至第一水供給單元213、第二水供給單元214，同樣的，水回收單元215所回收到的水優(yōu)先流入第一水供給單元213，當(dāng)?shù)谝凰┙o單元213裝滿后再流入第二水供給單元214。水回收單元215頂部設(shè)置有溢出口并連接有溢出管道217，可以將從第二水洗區(qū)間202回收到的水通過該溢出管道217排出。需要說明的是，第一水供給單元213及第ニ水供給單元214的用來向第一水洗區(qū)間14供給的水優(yōu)先來源于水回收單元215，當(dāng)水回收單元215無法提供足夠的水后，則由エ廠循環(huán)水供給管道205進(jìn)行補給。循環(huán)利用的沖洗用水由エ廠循環(huán)水供給管道205進(jìn)入水洗區(qū)間中的噴灑裝置203，使用后的水再經(jīng)由進(jìn)入相鄰的水洗區(qū)間的噴灑裝置203，逐步進(jìn)入第二水洗區(qū)間14的噴灑裝置203，水由噴灑裝置203噴出后流入水回收裝置215，水回收裝置215中的水一方面流入第一水供給單元213及第二水供給單元214，另一方面也可以通過溢出管道217排出。第一水供給單元213及第二水供給單元214將從水回收裝置215回收到的水經(jīng)由動力泵208輸入第一水洗區(qū)間14的噴灑裝置203，噴灑后的水再回流入第一水供給單元213及第二水供給單元214循環(huán)利用，最終將廢水排出，實現(xiàn)了水的循環(huán)利用?；?1進(jìn)入藥液區(qū)間13進(jìn)行光刻、濕法刻蝕、剝離等工藝，藥液由藥液供給區(qū)間201經(jīng)動力泵208輸入藥液區(qū)間13的噴灑裝置203所提供，基板11由傳動裝置12作用進(jìn)入第一水洗區(qū)間14、第 二水洗區(qū)間202等各個水洗區(qū)間進(jìn)行沖洗進(jìn)行基板清洗。進(jìn)一步地,如圖4所示,基板清洗系統(tǒng)還包括過渡區(qū)間301，該過渡區(qū)間301位于藥液區(qū)間13和第一水洗區(qū)間14之間，且設(shè)置有水平方向的傳動裝置12 ；過渡區(qū)間301被一擋板302分隔為藥液回收室303和水回收室304 ;藥液回收室303設(shè)置有至少一個空氣刀裝置305，該空氣刀裝置305用于吹除基板11上攜帶的藥液，水回收室304設(shè)置有至少一個水刀裝置306,該水刀裝置306用于噴水沖洗基板。擋板302上設(shè)置有基板通道，以便于傳送裝置12上的基板11不被擋板302阻隔，在基板通道的上方設(shè)置有空氣簾裝置307，該空氣簾裝置307向下方鼓風(fēng)，用于阻隔空氣刀裝置305吹除的藥液進(jìn)入水回收室303，并用于阻隔水刀裝置306噴出的水進(jìn)入藥液回收室303。此外，藥液回收室303底部設(shè)置有藥液回流管道308，藥液回收室303通過藥液回流管道308與藥液供給區(qū)間201相連，用于收集藥液并輸送給藥液供給區(qū)間201進(jìn)行再利用。水回收室304底部設(shè)置有水回流管道309，水回收室304通過水回流管道309與第一水供給單元213、第二水供給單元214相連，用于收集水刀裝置306進(jìn)行基板沖洗后的水并輸送給第一水供給單元213、第二水供給單元214進(jìn)行再利用。進(jìn)一步地，藥液回收室303與水回收室304的上方均設(shè)置有排氣管道310，用于維持藥液回收室303與水回收室304的氣壓穩(wěn)定。本發(fā)明實施例提供的基板清洗系統(tǒng)，通過設(shè)置第一水供給單元、第二水供給單元、水回收單元及過渡區(qū)間，一方面將從第一水洗區(qū)間及第二水洗區(qū)間回收的水循環(huán)利用，大大節(jié)約了水資源，另一方面，有效地去除了基板上所攜帶的藥液，減少了進(jìn)入水清洗區(qū)間的藥液量，從而減少了廢水中所含的藥液量，保護(hù)了環(huán)境。實施例3進(jìn)一步地,如圖5所示,基板清洗系統(tǒng)還包括在第一水洗區(qū)間14和第二水洗區(qū)間202之間設(shè)置至少一個與第一水洗區(qū)間14構(gòu)造相同的沖洗單元41，用于進(jìn)一步對基板11進(jìn)行沖洗，這里以增加一個與第一水洗區(qū)間14相同的沖洗單元為例進(jìn)行描述，當(dāng)然，實際應(yīng)用中，也可以串接多個沖洗單元，本發(fā)明實施例以沖洗單元41為例進(jìn)行說明，若增加多個也與之相同。沖洗單元41連接有與第一水供給單元213構(gòu)造相同的第一供水裝置42、與第二水供給單元214構(gòu)造相同的第二供水裝置43。沖洗單元41與第一供水裝置42、第二供水裝置43的連接關(guān)系與第一水洗區(qū)間14、第一水供給單元213、第二水供給單元214間的連接關(guān)系相同；另外，第一供水裝置42、第二供水裝置43與水回收單元215相連，以接收水回收單元215提供的水。
第一供水裝置42、第二供水裝置43通過工廠循環(huán)水供給管道205獲得沖洗用水；第一供水裝置42、第二供水裝置43通過排水管道212將廢水排出。進(jìn)一步地，如圖6所示，基板清洗系統(tǒng)中，在第一水供給單元213、第二水供給單元214、第一供水裝置42、第二供水裝置43中設(shè)置溫控系統(tǒng)51，用于控制水的溫度；在第一水供給單元213、第二水供給單元214、第一供水裝置42、第二供水裝置43中設(shè)置液位高度傳感器52，用于采集第一水供給單元213、第二水供給單元214、第一供水裝置42、第二供水裝置43中的液位信息。在第一水供給單元213、第二水供給單元214、第一供水裝置42、第二供水裝置43的頂部還設(shè)置有溢出口 53，當(dāng)水位達(dá)到或高于溢出口 53的高度時，水能夠通過溢出口 53流入排水管道212排出。在圖6中，是以第一水供給單元213為例對溫控系統(tǒng)、傳感器、溢出口等進(jìn)行說明，其他箱體(第二供水單元214、第一供水裝置42、第二供水裝置43等)的設(shè)置情況可參照圖6。另外，如圖7所示，水回收單元215的頂部也設(shè)置有溢出口 53，當(dāng)水位達(dá)到或高于溢出口 53的高度時，水能夠通過所述溢出口 53流入溢出管道217從而排出。在水回收單元215中設(shè)置有水電阻值檢測裝置54，用于實時檢測水質(zhì)。在溢出管道217上設(shè)置有氣動閥門61，用于控制水是否排出。進(jìn)一步地，可以在基板清洗系統(tǒng)中使用可編程邏輯控制器PLC，可編程邏輯控制器PLC用于對第一水供給單元213、第二水供給單元214、第一供水裝置42、第二供水裝置43、水回收單元215、過渡區(qū)間301的液體流入或流出通道上的閥門進(jìn)行開啟、關(guān)閉控制。需要補充說明的是，實施例I中所描述的藥液供給區(qū)間201中的箱體206及箱體207、第一水供給區(qū)間213及第二水供給區(qū)間214，各個連接管道上均設(shè)置有氣動閥門61，如圖6所示，這些氣動閥門均由可編程邏輯控制器PLC控制，從而實現(xiàn)水及藥液優(yōu)先流入箱體206、第一水供給區(qū)間213而后流入箱體207、第二水供給區(qū)間214。本發(fā)明實施例提供的基板清洗系統(tǒng)，通過設(shè)置第一水供給單元、第二水供給單元、水回收單元、過渡區(qū)間及多個與第一水洗區(qū)間功能相同的沖洗單元，一方面將從第一水洗區(qū)間及第二水洗區(qū)間回收的水循環(huán)利用并在達(dá)到一定的排放標(biāo)準(zhǔn)后再排放，大大節(jié)約了水資源，另一方面，有效地去除了基板上所攜帶的藥液，減少了進(jìn)入水清洗區(qū)間的藥液量，從而減少了廢水中所含的藥液量，保護(hù)了環(huán)境。
以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種基板清洗系統(tǒng)，包括藥液區(qū)間、藥液供給區(qū)間以及至少兩個水洗區(qū)間，與所述藥液區(qū)間相鄰的水洗區(qū)間為第一水洗區(qū)間，與第一水洗區(qū)間相鄰的水洗區(qū)間為第二水洗區(qū)間，藥液區(qū)間與各個水洗區(qū)間都設(shè)置有噴灑裝置以及水平方向的傳動裝置，其中所述藥液供給區(qū)間將藥液輸入所述藥液區(qū)間的噴灑裝置，以對傳動裝置上運送的基板進(jìn)行藥液噴灑，所述藥液供給區(qū)間還對經(jīng)所述藥液區(qū)間的噴灑裝置噴灑的藥液進(jìn)行回收，其特征在于，還包括第一水供給單元、第二水供給單元，其中， 所述第一水供給單元、第二水供給單元都與所述第一水洗區(qū)間連接，用于輪流為所述第一水洗區(qū)間的噴灑裝置供水，所述第一水洗區(qū)間還通過回流管路連接至所述第一水供給單元、第二水供給單元，以將噴灑裝置噴出的水和基板上沖下的藥液回收入所述第一水供給單元、第二水供給單元；所述第一水供給單元、第二水供給單元經(jīng)排水管道進(jìn)行廢水排放； 所述第一水供給單元、第二水供給單元將通過所述回流管路得到的水及從所述第二水洗區(qū)間得到的水重新輸入所述第一水洗區(qū)間，以對基板進(jìn)行噴灑。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括； 水回收單元，所述水回收單元與所述第二水洗區(qū)間、第一水供給單元、第二水供給單元分別連接，用于將從所述第二水洗區(qū)間回收的水提供至所述第一水供給單元、第二水供給單元，也用于將從所述第二水洗區(qū)間回收的水排出。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括 過渡區(qū)間，所述過渡區(qū)間位于所述藥液區(qū)間和所述第一水洗區(qū)間之間，且設(shè)置有水平方向的傳動裝置； 所述過渡區(qū)間被一擋板分隔為藥液回收室和水回收室；所述藥液回收室設(shè)置有至少一個空氣刀裝置，所述空氣刀裝置用于吹除基板上攜帶的藥液，所述水回收室設(shè)置有至少一個水刀裝置，所述水刀裝置用于噴水沖洗基板； 所述擋板上設(shè)置有基板通道，以便于傳動裝置上的基板不被所述擋板阻隔，在所述基板通道的上方設(shè)置有空氣簾裝置，所述空氣簾裝置向下方鼓風(fēng)，用于阻隔所述空氣刀裝置吹除的藥液進(jìn)入所述水回收室，并用于阻隔所述水刀裝置噴出的水進(jìn)入所述藥液回收室； 此外，所述藥液回收室底部設(shè)置有藥液回流管道，所述藥液回收室通過所述藥液回流管道與所述藥液供給區(qū)間相連，用于收集藥液并輸送給所述藥液供給區(qū)間進(jìn)行再利用； 所述水回收室底部設(shè)置有水回流管道，所述水回收室通過水回流管道與所述第一水供給單元、第二水供給單元相連，用于收集所述水刀裝置進(jìn)行基板沖洗后的水并輸送給所述第一水供給單元、第二水供給單元進(jìn)行再利用。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述藥液回收室與所述水回收室的上方均設(shè)置有排氣管道，用于維持所述藥液回收室與所述水回收室的氣壓穩(wěn)定。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括 在所述第一水洗區(qū)間和第二水洗區(qū)間之間設(shè)置至少一個與所述第一水洗區(qū)間構(gòu)造相同的沖洗單元，用于進(jìn)一步對基板進(jìn)行沖洗； 所述沖洗單元連接有與所述第一水供給單元構(gòu)造相同的第一供水裝置、與所述第二水供給單元構(gòu)造相同的第二供水裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述沖洗單元與第一供水裝置、第二供水裝置的連接關(guān)系與所述第一水洗區(qū)間、第一水供給單元、第二水供給單元間的連接關(guān)系相同，所述第一供水裝置、第二供水裝置與所述水回收單元相連，以接收所述水回收單元提供的水。
7.根據(jù)權(quán)利要求I至6中任一項所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括 在所述第一水供給單元、第二水供給單元、第一供水裝置、第二供水裝置中設(shè)置溫控系統(tǒng)，用于控制水的溫度； 在所述第一水供給單元、第二水供給單元、第一供水裝置、第二供水裝置中設(shè)置測量液位高度的傳感器，用于采集所述第一水供給單元、第二水供給單元、第一供水裝置、第二供水裝置中的液位信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，在所述第一水供給單元、第二水供給單元、第一供水裝置、第二供水裝置、水回收單元的頂部還設(shè)置有溢出口，當(dāng)水位達(dá)到或高于溢出口的高度時，水能夠通過所述溢出口經(jīng)管道排出； 在所述水回收單元中設(shè)置有水電阻值檢測裝置，用于實時檢測水質(zhì)； 在所述第一水供給單元、第二水供給單元、水回收單元、過渡區(qū)間的液體流入或流出通道上設(shè)置有氣動閥門，用于控制水是否流入流出。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括 可編程邏輯控制器PLC，所述可編程邏輯控制器PLC用于對所述第一水供給單元、第二水供給單元、第一供水裝置、第二供水裝置、水回收單元、過渡區(qū)間的液體流入或流出通道上的閥門進(jìn)行開啟、關(guān)閉控制。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種基板清洗系統(tǒng)，涉及薄膜晶體管液晶顯示器制造領(lǐng)域，能夠?qū)λY源進(jìn)行循環(huán)利用，減少了廢水的排放，節(jié)省了水資源。其中基板清洗設(shè)備，包括第一水供給單元、第二水供給單元。所述第一水供給單元、第二水供給單元都與所述第一水洗區(qū)間連接，用于輪流為所述第一水洗區(qū)間的噴灑裝置供水，所述第一水洗區(qū)間還通過回流管路連接至所述第一水供給單元、第二水供給單元，以將噴灑裝置噴出的水和基板上沖下的藥液回收入所述第一水供給單元、第二水供給單元。
文檔編號B08B3/02GK102626695SQ20111029953
公開日2012年8月8日 申請日期2011年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月28日
發(fā)明者吳健 申請人:北京京東方光電科技有限公司