專利名稱：硅片清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及硅片領(lǐng)域，特別是涉及一種硅片清洗裝置。
背景技術(shù)：
硅是太陽(yáng)能光伏行業(yè)中的重要材料。太陽(yáng)電池生產(chǎn)過(guò)程中，當(dāng)使用P型硅作為電池基體材料時(shí)，在擴(kuò)散過(guò)程中，磷和娃會(huì)在娃片表面形成一層化合物，我們稱之為磷娃玻璃。這層物質(zhì)會(huì)影響太陽(yáng)光的入射，而且也會(huì)降低硅片表面和電極的接觸性能，導(dǎo)致電池質(zhì)量下降，所以需要去除這層磷硅玻璃。在實(shí)際生產(chǎn)中一般是利用稀氫氟酸溶液與磷硅化合物反應(yīng)來(lái)去除磷硅玻璃，然后再經(jīng)過(guò)去離子水漂洗。目前，太陽(yáng)電池生產(chǎn)廠家一般都使用水平式去磷硅玻璃清洗機(jī)，采用將硅片在清洗槽中浸泡的方式來(lái)去除磷硅玻璃，為了實(shí)現(xiàn)浸泡的目的，通常在硅片進(jìn)清洗槽處有一個(gè)下坡過(guò)程，在出清洗槽處有一個(gè)上坡的過(guò)程，并加裝了多個(gè)上下輥軸組來(lái)使硅片順利的在清洗槽內(nèi)進(jìn)出，通過(guò)氫氟酸清洗去除硅片表面的磷硅玻璃雜質(zhì)。采用氫氟酸浸泡的方式?jīng)Q定了硅片剛進(jìn)清洗槽體的時(shí)候會(huì)有個(gè)下坡的過(guò)程，出清洗槽體的時(shí)候會(huì)有上坡的過(guò)程，所以硅片受力比一般水平傳動(dòng)復(fù)雜，而且前后槽會(huì)有溢流，溢流方向與硅片前進(jìn)方向正好相反，就會(huì)使硅片受到?jīng)_力，硅片在槽內(nèi)前進(jìn)的時(shí)候山于浸沒(méi)在氫氟酸液體內(nèi)，會(huì)受到氫氟酸的浮力，為了硅片正常的前進(jìn)，需要在清洗槽內(nèi)加上多個(gè)上下輥軸組作為驅(qū)動(dòng)硅片前進(jìn)的動(dòng)力，所以，硅片又受到了輥軸組的上輥軸的壓力。所以，在整個(gè)氫氟酸浸泡過(guò)程中硅片的受力情況非常復(fù)雜，也導(dǎo)致了采用目前的氫氟酸浸泡方式會(huì)產(chǎn)生碎片。采用如上所述的硅片浸泡清洗方式會(huì)導(dǎo)致硅片在氫氟酸清洗槽內(nèi)受到很多的外力，包括氫氟酸的浮力、上輥軸的壓力、溶液溢流的沖力、上下坡時(shí)受到的外力。硅片復(fù)雜的受力情況導(dǎo)致其很容易在氫氟酸清洗槽內(nèi)碎片。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種硅片清洗裝置，能夠克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，使硅片在清洗過(guò)程中的受力情況簡(jiǎn)單化，減少硅片在清洗過(guò)程中的碎片概率。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種硅片清洗裝置，包括:清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上設(shè)有進(jìn)槽口，所述漂洗槽上設(shè)有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽內(nèi)均設(shè)有用于輸送硅片的輸送輥輪組，所述輸送輥輪組的上方和下方分別設(shè)有用于噴射清洗硅片的多個(gè)上噴頭和下噴頭，所述清洗槽與漂洗槽之間設(shè)有過(guò)渡槽口和隔板。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述上噴頭和下噴頭均為斜向設(shè)置，且向硅片傳輸方向偏斜。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述清洗槽與漂洗槽內(nèi)的液體平面均低于所述輸送輥輪組上的硅片所在水平面。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，在靠近所述進(jìn)槽口和出槽口處的輸送輥輪組僅包括下輥輪。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述過(guò)渡槽口兩側(cè)的輸送輥輪組僅包括下輥輪。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述隔板的高度低于下輥輪的高度。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述清洗槽內(nèi)的溶液為堿性溶液。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述漂洗槽內(nèi)為去離子水。本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明揭示的硅片清洗裝置，將硅片清洗方式由浸泡式改為噴淋式，使硅片在清洗過(guò)程中的受力情況簡(jiǎn)單化，減少硅片在清洗過(guò)程中的碎片概率，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易實(shí)施。


圖1是本發(fā)明硅片清洗裝置的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、出槽口，2、漂洗槽，3、上輥輪，4、下輥輪，5、下噴頭，
6、清洗槽，7、上噴頭，8、進(jìn)槽口，9、隔板，10、過(guò)渡槽口。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明實(shí)施例包括:一種硅片清洗裝置，包括:清洗槽6和漂洗槽2，所述清洗槽6上設(shè)有進(jìn)槽口 8，所述漂洗槽2上設(shè)有出槽口 1，所述清洗槽6和漂洗槽2內(nèi)均設(shè)有用于輸送硅片的輸送輥輪組，所述輸送輥輪組的上方和下方分別設(shè)有用于噴射清洗硅片的多個(gè)上噴頭7和下噴頭5，所述清洗槽6與漂洗槽2之間設(shè)有過(guò)渡槽口 10和隔板9。所述上噴頭7和下噴頭5均為斜向設(shè)置，且向硅片傳輸方向偏斜。這樣當(dāng)清洗液噴淋下來(lái)時(shí)，可以減少硅片所受的正向壓力，清洗液斜向噴淋，更有助于清洗效果。所述清洗槽6與漂洗槽2內(nèi)的液體平面均低于所述輸送輥輪組上的硅片所在水平面。這樣可以避免槽內(nèi)液體給硅片帶來(lái)的浮力和阻力。在靠近所述進(jìn)槽口 8和出槽口 I處的輸送輥輪組僅包括下輥輪4，有助于硅片的傳入和傳出。所述過(guò)渡槽口 10兩側(cè)的輸送輥輪組僅包括下輥輪4，有助于硅片從清洗槽6過(guò)渡到漂洗槽2。所述隔板9的高度低于下輥輪4的高度，這樣有助于硅片從清洗槽6過(guò)渡到漂洗槽2,不會(huì)卡住娃片。所述清洗槽6內(nèi)的溶液為堿性溶液。優(yōu)選氫氧化鈉溶液，有助于去除硅片上的污染物、黑斑等。所述漂洗槽2內(nèi)為去離子水，對(duì)硅片進(jìn)行漂洗，洗去硅片上的堿性溶液。本發(fā)明的工作原理如下:待噴淋清洗的硅片從進(jìn)槽口 8進(jìn)入清洗槽6內(nèi)，在輸送輥輪組的傳動(dòng)下硅片依次進(jìn)入清洗槽6內(nèi)，上噴頭7與下噴頭5對(duì)硅片的上下表面噴淋清洗液，完成清洗；然后硅片繼續(xù)在輸送輥輪組的傳動(dòng)下進(jìn)入漂洗槽2，上噴頭7與下噴頭5對(duì)硅片的上下表面進(jìn)行噴淋漂洗；最后硅片通過(guò)出槽口 I將漂洗好的硅片輸送出去，進(jìn)行后道工序。本發(fā)明硅片清洗裝置，將硅片清洗方式由浸泡式改為噴淋式，使硅片在清洗過(guò)程中的受力情況簡(jiǎn)單化，減少硅片在清洗過(guò)程中的碎片概率，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易實(shí)施。以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種硅片清洗裝置，其特征在于，包括:清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上設(shè)有進(jìn)槽口，所述漂洗槽上設(shè)有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽內(nèi)均設(shè)有用于輸送硅片的輸送輥輪組，所述輸送輥輪組的上方和下方分別設(shè)有用于噴射清洗硅片的多個(gè)上噴頭和下噴頭，所述清洗槽與漂洗槽之間設(shè)有過(guò)渡槽口和隔板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述上噴頭和下噴頭均為斜向設(shè)置，且向娃片傳輸方向偏斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽與漂洗槽內(nèi)的液體平面均低于所述輸送輥輪組上的硅片所在水平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，在靠近所述進(jìn)槽口和出槽口處的輸送輥輪組僅包括下輥輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述過(guò)渡槽口兩側(cè)的輸送輥輪組僅包括下輥輪。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述隔板的高度低于下輥輪的高度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽內(nèi)的溶液為堿性溶液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述漂洗槽內(nèi)為去離子水。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種硅片清洗裝置，包括清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上設(shè)有進(jìn)槽口，所述漂洗槽上設(shè)有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽內(nèi)均設(shè)有用于輸送硅片的輸送輥輪組，所述輸送輥輪組的上方和下方分別設(shè)有用于噴射清洗硅片的多個(gè)上噴頭和下噴頭，所述清洗槽與漂洗槽之間設(shè)有過(guò)渡槽口和隔板。通過(guò)上述方式，本發(fā)明將硅片清洗方式由浸泡式改為噴淋式，使硅片在清洗過(guò)程中的受力情況簡(jiǎn)單化，減少硅片在清洗過(guò)程中的碎片概率，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易實(shí)施。
文檔編號(hào)B08B13/00GK103121018SQ20111037046
公開(kāi)日2013年5月29日 申請(qǐng)日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月21日
發(fā)明者李川川 申請(qǐng)人:常州市萬(wàn)陽(yáng)光伏有限公司