專利名稱：太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置。
背景技術(shù)：
在太陽(yáng)電池的制備過(guò)程中，常采用酸或堿溶液對(duì)硅片進(jìn)行刻蝕，以防止PN結(jié)正面與背面產(chǎn)生短路，而經(jīng)過(guò)酸或堿溶液的硅片表面都會(huì)殘留有部分酸堿，如果不將殘留的酸堿清洗干凈，容易給硅片帶來(lái)污染，導(dǎo)致電流降低以及外觀不良，但目前對(duì)硅片殘酸堿所采用的水清洗效果并不很理想，清洗后硅片干凈度與所要求的存在差別。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)中之不足，提供一種清洗效果更佳、更干凈的太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置，包括存水槽，所述的存水槽上部設(shè)有對(duì)硅片進(jìn)行噴淋的噴淋管，存水槽底部分別設(shè)有用于向存水槽內(nèi)補(bǔ)水的溢流進(jìn)水管和可快速排放已清洗過(guò)的水流的快排出水管。為調(diào)節(jié)水流排放頻率，所述的存水槽外壁設(shè)有控制存水槽中水流排放頻率的控制
ο本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型采用對(duì)太陽(yáng)電池硅片上方噴淋加下部溢流補(bǔ)水以及清洗過(guò)的水流快速排放的方式，循環(huán)進(jìn)行，可將硅片上殘留的酸堿清洗更加干凈， 達(dá)到較為理想的清洗效果。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1.存水槽2.噴淋管3.溢流進(jìn)水管4.快排出水管5.控制器6.硅片具體實(shí)施方式
現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。如
圖1所示的一種太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置，包括存水槽1，所述的存水槽 1上部設(shè)有對(duì)硅片6進(jìn)行噴淋的噴淋管2，噴淋管2從上方向硅片6進(jìn)行噴淋，可確保水流最大程度地噴到硅片6上，存水槽1底部分別設(shè)有用于向存水槽1內(nèi)補(bǔ)水的溢流進(jìn)水管3 和可快速排放已清洗過(guò)的水流的快排出水管4，快排出水管4的口徑大于溢流進(jìn)水管3的口徑。為調(diào)節(jié)水流排放頻率，所述的存水槽1外壁設(shè)有控制存水槽1中水流排放頻率的控制器5，可根據(jù)工藝需要設(shè)置水流排放的循環(huán)頻率。本實(shí)用新型采用噴淋加溢流進(jìn)水加快速排水的方式?jīng)_洗硅片6，當(dāng)硅片6進(jìn)入存水槽后，通過(guò)噴淋管2從硅片6上方進(jìn)行噴淋加上存水槽1底部溢流進(jìn)水管3溢流進(jìn)水的方式，使存水槽1快速存滿水，存滿水后，溢流進(jìn)水管3繼續(xù)溢流進(jìn)水一定時(shí)間，具體時(shí)間可由工藝要求設(shè)置，使得硅片6上殘留的酸堿充分洗凈，然后由快排出水管4快速排放已清洗過(guò)硅片6的水流，而后再通過(guò)噴淋管2噴淋和溢流進(jìn)水管3進(jìn)水，快速將存水槽1補(bǔ)滿水， 如此循環(huán)進(jìn)行，從而使硅片6上殘留的酸堿得到徹底的清洗，達(dá)到硅片6更加干凈和較為理想的清洗效果，其中循環(huán)次數(shù)根據(jù)工藝要求調(diào)整。上述實(shí)施方式只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置，包括存水槽(1)，其特征是所述的存水槽 (1)上部設(shè)有對(duì)硅片(6)進(jìn)行噴淋的噴淋管0)，存水槽(1)底部分別設(shè)有用于向存水槽 ⑴內(nèi)補(bǔ)水的溢流進(jìn)水管⑶和可快速排放已清洗過(guò)的水流的快排出水管G)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置，其特征是所述的存水槽 (1)外壁設(shè)有控制存水槽(1)中水流排放頻率的控制器(5)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種太陽(yáng)電池硅片殘酸堿水清洗裝置，包括存水槽，所述的存水槽上部設(shè)有對(duì)硅片進(jìn)行噴淋的噴淋管，存水槽底部分別設(shè)有用于向存水槽內(nèi)補(bǔ)水的溢流進(jìn)水管和可快速排放已清洗過(guò)的水流的快排出水管。本實(shí)用新型采用對(duì)太陽(yáng)電池硅片上方噴淋加下部溢流補(bǔ)水以及清洗過(guò)的水流快速排放的方式，循環(huán)進(jìn)行，可使硅片清洗更加干凈，達(dá)到較為理想的清洗效果。
文檔編號(hào)B08B3/02GK202162156SQ20112022736
公開(kāi)日2012年3月14日 申請(qǐng)日期2011年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月30日
發(fā)明者葉權(quán)華 申請(qǐng)人:常州天合光能有限公司