專利名稱：一種半導體晶圓片清洗液生成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及半導體晶圓片清洗工藝，并且尤其涉及半導體晶圓片清洗液生成
>J-U裝直。
背景技術(shù)：
半導體晶圓片清洗旨在去除半導體晶圓片制造過程中引入的各種污染物質(zhì)。半導體晶圓片清洗質(zhì)量的優(yōu)劣對晶圓片的成品率以及可靠性有非常大的影響。在清洗的過程中，使用加熱后的清洗液在清洗槽中對晶圓片進行清洗。晶圓片清洗液一般由兩種清洗液生成試劑和去離子水按照預定的體積比配置而成，通過配置在各試劑桶處的液位傳感器來控制上述試劑的體積而達到上述預定的體積比配置。然而，當任一個液位傳感器發(fā)送故障、或位置發(fā)生變化時，將造成上述試劑的配比不符合工藝要求。若不能及時發(fā)現(xiàn)，晶圓片的清洗效果將得不到保證，嚴重時晶圓片可能會被具有強堿性的試劑腐蝕，造成經(jīng)濟損失。因此，存在使清洗液的清洗效果更加穩(wěn)定的需要。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種半導體晶圓片清洗液生成裝置，其特征在于，包括多個試劑桶和混合桶，所述多個試劑桶和所述混合桶流體連通，其中，所述多個試劑桶的每一個配備有液位傳感器，所述液位傳感器用于檢測試劑桶的液位以控制所述試劑桶中的試劑的體積，所述混合桶接收來自所述多個試劑桶的試劑的注入，所述被注入的試劑在所述混合桶中按照預定的體積比生成半導體晶圓片清洗液，其中，所述多個試劑桶的每一個還配置有可視液位標識物，所述可視液位標識物用于從視覺上反映試劑桶的液位。優(yōu)選地，所述可視液位標識物是帶有刻度的監(jiān)控專用紙。優(yōu)選地，所述監(jiān)控專用紙被貼在試劑桶上。優(yōu)選地，所述監(jiān)控專用紙被固化在試劑桶上。根據(jù)本實用新型半導體晶圓片清洗液生成裝置，通過在清洗過程中為試劑桶的配置有可視液位標識物來反映試劑的用量，能夠在晶圓片清洗過程中及時發(fā)現(xiàn)液位傳感器發(fā)生故障，使得清洗液的配比能夠符合工藝要求，穩(wěn)定清洗液的清洗效果。

在參照附圖閱讀了本實用新型的具體實施方式
以后，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會更清楚地了解本實用新型的各個方面。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當理解的是附圖僅僅用于配合具體實施方式
說明本實用新型的技術(shù)方案，而并非意在對本實用新型的保護范圍構(gòu)成限制。其中，圖I是根據(jù)本實用新型的實施例的半導體晶圓片清洗液生成裝置示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖闡述本實用新型的具體實施方式
。[0012]在半導體晶圓片清洗工藝中，通常由清洗設(shè)備分別將所需要的試劑抽到對應(yīng)的試劑桶中，通過響應(yīng)的試劑桶的液位傳感器控制試劑桶中試劑的體積，然后試劑通過輸送管道被諸如到混合桶中，混合桶中的按比例配置好的清洗液被加熱，然后放到清洗槽用于清洗晶圓片。如圖I所示，半導體晶圓片清洗液生成裝置包括多個試劑桶和混合桶，所述多個試劑桶和所述混合桶流體連通，從而能夠向所述混合桶輸送試劑，其中，所述多個試劑桶的每一個配備有液位傳感器。本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠理解，該液位傳感器可用于檢測試劑桶的液位以控制所述試劑桶中的試劑的體積，即控制所 述試劑桶向所述混合桶輸送試劑的量。混合桶接收來自所述多個試劑桶的試劑的注入，所述被注入的試劑在所述混合桶中按照預定的體積比生成半導體晶圓片清洗液。其中，所述多個試劑桶的每一個還配置有可視液位標識物，所述可視液位標識物用于從視覺上反映試劑桶的液位。通過從視覺上直觀地反映試劑桶的液位便于對試劑桶中試劑體積的監(jiān)控，當發(fā)現(xiàn)試劑桶中的試劑體積不正確時能夠及時地判斷液位傳感器發(fā)生了故障，從而能夠避免清洗液配比不符合工藝要求。優(yōu)選地，所述可視液位標識物是帶有刻度的監(jiān)控專用紙。優(yōu)選地，所述監(jiān)控專用紙被貼在試劑桶上。優(yōu)選地，所述監(jiān)控專用紙被固化在試劑桶上。上文中，參照附圖描述了本實用新型的具體實施方式
。但是，本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員能夠理解，在不偏離本實用新型的精神和范圍的情況下，還可以對本實用新型的具體實施方式
作各種變更和替換。這些變更和替換都落在本實用新型權(quán)利要求書所限定的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種半導體晶圓片清洗液生成裝置，其特征在于，包括 多個試劑桶和混合桶，所述多個試劑桶和所述混合桶流體連通，其中， 所述多個試劑桶的每一個配備有液位傳感器， 所述液位傳感器用于檢測試劑桶的液位以控制所述試劑桶中的試劑的體積， 所述混合桶接收來自所述多個試劑桶的試劑的注入，所述被注入的試劑在所述混合桶中按照預定的體積比生成半導體晶圓片清洗液， 其中， 所述多個試劑桶的每一個還配置有可視液位標識物，所述可視液位標識物用于從視覺上反映試劑桶的液位。
2.如權(quán)利要求I所述的半導體晶圓片清洗液生成裝置，其特征在于，所述可視液位標識物是帶有刻度的監(jiān)控專用紙。
3.如權(quán)利要求2所述的半導體晶圓片清洗液生成裝置，其特征在于，所述監(jiān)控專用紙被貼在試劑桶上。
4.如權(quán)利要求2所述的半導體晶圓片清洗液生成裝置，其特征在于，所述監(jiān)控專用紙被固化在試劑桶上。
專利摘要本實用新型提供一種半導體晶圓片清洗液生成裝置，其特征在于，包括多個試劑桶和混合桶，所述多個試劑桶和所述混合桶流體連通，其中，所述多個試劑桶的每一個配備有液位傳感器，所述液位傳感器用于檢測試劑桶的液位以控制所述試劑桶中的試劑的體積，所述混合桶接收來自所述多個試劑桶的試劑的注入，所述被注入的試劑在所述混合桶中按照預定的體積比生成半導體晶圓片清洗液。
文檔編號B08B3/10GK202460570SQ201120550148
公開日2012年10月3日 申請日期2011年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月26日
發(fā)明者劉群, 吳學成, 徐雪舟 申請人:無錫華潤華晶微電子有限公司